CN102778817A - 光刻胶的脱泡方法及设备 - Google Patents

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金铉东
杨海浪
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Abstract

本发明涉及光刻胶的脱泡方法及设备。包括:在涂布光刻胶之前最多1小时内,通过振荡装置将置于容器内的光刻胶产生振动,使光刻胶内的气泡上升直到所述气泡溢出容器。本发明的光刻胶的脱泡方法及设备,能够在除去光刻胶内气泡的时候不需要除泡剂,除泡后能够保持光刻胶的原有特性,使光刻胶涂布的基板表面光滑平整,明显的提高了光刻胶的涂布性能,并且还可以任意调节光刻胶的量,方便生产的需要。

Description

光刻胶的脱泡方法及设备
技术领域
本发明涉及OLED(有机发光二极管)的生产工艺,具体的讲是OLED生产过程中的光刻胶的脱泡方法及设备。
背景技术
在OLED生产流程中需要对所使用的光敏聚合物在特定波长的光下曝光特定的时间,使其能通过光化学反应,使各种物质发生不同的化学结构变化。
当在玻璃基板或电路板上对光刻胶(Photo Resist,简称PR)进行涂布时,如果PR内存有残留气泡的话,无法获得出良好的基板,使基板表面不能满足生产标准。PR内的气泡不仅影响基板美观,而且还降低了PR自身的功能特性,从而影响产品的等级。
传统的PR除泡方法是在PR中加入除泡剂,如非硅胶类聚合物等,再通过搅拌机搅拌使PR和除泡剂充分溶合。而在长时间的搅拌过程中通常又会诱发出更多的气泡,因此这种除泡方式很难将PR和除泡剂进行适当的混合,并且这种除泡方式还减弱了PR的性质,使制的的基板表面凹凸不平。
发明内容
针对上述的问题,本发明提供了一种光刻胶的脱泡方法及设备,在除去光刻胶内气泡的时候不需要除泡剂,除泡后保持光刻胶的原有特性,使光刻胶涂布的基板表面光滑平整,提高光刻胶的涂布性能。
本发明光刻胶的脱泡方法,包括:在涂布光刻胶之前最多1小时内,通过振荡装置将置于容器内的光刻胶产生振动,使光刻胶内的气泡上升直到所述气泡溢出容器。光刻胶(PR)内的气泡受振动后会沿着同一方向移动,这样就可以使PR内的气泡最终溢出容器,达到除泡的目的。而振动需在涂布PR前最多1小时左右进行,如果振动和涂布的间隔时间太长会因PR本身的性质特性出现不良的问题。振动时间最长1小时左右,优选30分钟左右。本发明的方法不需要化学除泡剂,通过简单的装置即可实现PR的除泡,同时振动还能使PR内的添加剂和溶剂充分混合。
一种优选的方式是,将装有光刻胶的容器置于超声波振荡器的振动板上,超声波振荡器由超声波发生装置控制开关;通过超声波发生装置控制超声波振荡器带动容器内的光刻胶振动,使光刻胶内的气泡上升直到气泡溢出容器。
为了使装有光刻胶的容器更多部位能够接收到振动,提高除泡和搅拌的效率,优选的,将装有光刻胶的容器的一部分和超声波振荡器置于装有水的容腔中。通过水作为介质,超声波使水产生振动,这样就能使侵入水中的容器周面都能接收振动。
具体的,超声波振荡器的振动频率为40KHz,振动加速度为2500mm/s2(毫米/秒2)。
进一步的,装有光刻胶的容器的顶部具有使所述气泡溢出的空隙,例如将容器的顶盖打开一部分,这样的目的是避免容器内的PR受振动后溢出容器。
优选的,在涂布光刻胶之前约30分钟时,将光刻胶进行所述的振动。
本发明还提供了一种用于上述方法的光刻胶的脱泡设备,包括有装有光刻胶的容器,将所述的容器与振荡装置连接。
优选的,所述的振荡装置为超声波振荡器,容器与超声波振荡器的振动板相连,超声波振荡器通过数据线与控制其开关的超声波发生装置连接。
优选的,装有光刻胶的容器的一部分和超声波振荡器置于装有水的容腔中。
优选的,装有光刻胶的容器的顶部设有使光刻胶内的气泡溢出的空隙。
本发明的光刻胶的脱泡方法及设备,能够在除去光刻胶内气泡的时候不需要除泡剂,除泡后能够保持光刻胶的原有特性,使光刻胶涂布的基板表面光滑平整,明显的提高了光刻胶的涂布性能,并且还可以任意调节光刻胶的量,方便生产的需要。
以下结合实施例的具体实施方式,对本发明的上述内容再作进一步的详细说明。但不应将此理解为本发明上述主题的范围仅限于以下的实例。在不脱离本发明上述技术思想情况下,根据本领域普通技术知识和惯用手段做出的各种替换或变更,均应包括在本发明的范围内。
附图说明
图1为本发明光刻胶的脱泡设备的正面示意图。
具体实施方式
如图1所示本发明光刻胶的脱泡设备,包括有装有光刻胶PR的容器4,将所述的容器4与超声波振荡器结构的振荡装置2连接,容器4固定连接在超声波振荡器的振动板上。超声波振荡器结构的振荡装置2通过数据线与控制其开关的超声波发生装置1连接。将装有光刻胶的容器4的一部分和超声波振荡器置于装有水6的容腔3中,容腔3内的水面7低于容器4的顶部。将容器4的顶盖打开一部分产生空隙5,有利于使光刻胶内的气泡从空隙5溢出。
使用图1所示设备时,在涂布光刻胶PR之前30分钟左右,通过超声波发生装置1控制超声波振荡器结构的振荡装置2,使置于容器内4的光刻胶PR产生振动,使光刻胶PR内的气泡上升直到所述气泡溢出容器4。振荡装置2的振动频率为40KHz,振动加速度为2500mm/s2,冲击波是数十大气压。由于容器4是置于水6中的,因此能够将水6作为介质,超声波使水6产生振动,这样容器4的周面也都能接收振动,有利于提高除泡和搅拌光刻胶PR效率。
由于光刻胶PR内的气泡在受振动后会向容器4的顶盖方向移动,这样就可以使光刻胶PR内的气泡通过空隙5最终溢出容器,达到除泡的目的。振动时间最长1小时左右,优选30分钟左右。本发明的除泡方法不需要化学除泡剂,通过简单的装置即可实现光刻胶PR的除泡,同时振动还能使光刻胶PR内的添加剂和溶剂充分混合。

Claims (10)

1.光刻胶的脱泡方法,其特征包括:在涂布光刻胶之前最多1小时内,通过振荡装置将置于容器内的光刻胶产生振动,使光刻胶内的气泡上升直到所述气泡溢出容器。
2.如权利要求1所述的光刻胶的脱泡方法,其特征包括:将装有光刻胶的容器置于超声波振荡器的振动板上,超声波振荡器由超声波发生装置控制开关;通过超声波发生装置控制超声波振荡器带动容器内的光刻胶振动,使光刻胶内的气泡上升直到气泡溢出容器。
3.如权利要求2所述的光刻胶的脱泡方法,其特征包括:将装有光刻胶的容器的一部分和超声波振荡器置于装有水的容腔中。
4.如权利要求2所述的光刻胶的脱泡方法,其特征包括:超声波振荡器的振动频率为40KHz,振动加速度为2500mm/s2
5.如权利要求1至4之一所述的光刻胶的脱泡方法,其特征包括:装有光刻胶的容器的顶部具有使所述气泡溢出的空隙。
6.如权利要求1至4之一所述的光刻胶的脱泡方法,其特征包括:在涂布光刻胶之前约30分钟时,将光刻胶进行所述的振动。
7.用于权利要求1所述方法的光刻胶的脱泡设备,包括有装有光刻胶的容器(4),其特征为:将所述的容器(4)与振荡装置(2)连接。
8.如权利要求7所述的光刻胶的脱泡设备,其特征为:所述的振荡装置(2)为超声波振荡器,容器(4)与超声波振荡器的振动板相连,超声波振荡器通过数据线与控制其开关的超声波发生装置(1)连接。
9.如权利要求8所述的光刻胶的脱泡设备,其特征为:装有光刻胶的容器(4)的一部分和超声波振荡器置于装有水(6)的容腔(3)中。
10.如权利要求7至9之一所述的光刻胶的脱泡设备,其特征为:装有光刻胶的容器(4)的顶部设有使光刻胶内的气泡溢出的空隙(5)。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107243171A (zh) * 2017-07-20 2017-10-13 南宁富莱欣生物科技有限公司 一种软胶囊在线除气泡自动输料系统及控制方法
CN107754381A (zh) * 2017-11-07 2018-03-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 溶液气泡去除装置及涂布机
CN109250891A (zh) * 2018-09-25 2019-01-22 台玻安徽玻璃有限公司 一种低畸光浮法玻璃液气泡消除装置
CN109901321A (zh) * 2019-04-02 2019-06-18 深圳市华星光电技术有限公司 薄膜晶体管阵列基板及显示面板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1544308A (zh) * 2003-11-24 2004-11-10 吉林大学 揭起软刻技术进行胶体晶体图案化微加工的方法
CN101880025A (zh) * 2010-06-26 2010-11-10 上海交通大学 一维纳米材料植入金属电极表面的方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1544308A (zh) * 2003-11-24 2004-11-10 吉林大学 揭起软刻技术进行胶体晶体图案化微加工的方法
CN101880025A (zh) * 2010-06-26 2010-11-10 上海交通大学 一维纳米材料植入金属电极表面的方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107243171A (zh) * 2017-07-20 2017-10-13 南宁富莱欣生物科技有限公司 一种软胶囊在线除气泡自动输料系统及控制方法
CN107754381A (zh) * 2017-11-07 2018-03-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 溶液气泡去除装置及涂布机
WO2019090890A1 (zh) * 2017-11-07 2019-05-16 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 溶液气泡去除装置及涂布机
CN109250891A (zh) * 2018-09-25 2019-01-22 台玻安徽玻璃有限公司 一种低畸光浮法玻璃液气泡消除装置
CN109250891B (zh) * 2018-09-25 2021-08-24 台玻安徽玻璃有限公司 一种低畸光浮法玻璃液气泡消除装置
CN109901321A (zh) * 2019-04-02 2019-06-18 深圳市华星光电技术有限公司 薄膜晶体管阵列基板及显示面板

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