CN102753454B - 用于超紫外光微影术光罩盒的开关器 - Google Patents

用于超紫外光微影术光罩盒的开关器 Download PDF

Info

Publication number
CN102753454B
CN102753454B CN201180004962.9A CN201180004962A CN102753454B CN 102753454 B CN102753454 B CN 102753454B CN 201180004962 A CN201180004962 A CN 201180004962A CN 102753454 B CN102753454 B CN 102753454B
Authority
CN
China
Prior art keywords
cover box
rsp
cover
plummer
box
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201180004962.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102753454A (zh
Inventor
K.C.吴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Han's Fuchuang Technology Co ltd
Original Assignee
FORTREND ENGINEERING (SHENYANG) Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FORTREND ENGINEERING (SHENYANG) Corp filed Critical FORTREND ENGINEERING (SHENYANG) Corp
Publication of CN102753454A publication Critical patent/CN102753454A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102753454B publication Critical patent/CN102753454B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Closures For Containers (AREA)

Abstract

一种用于远紫外光RSP的两级罩盒开关器包括一外RSP罩盒开关器,其具有:一RSP闩锁机构,用于将一密封的外RSP罩盒锁在该外RSP罩盒开关器上的适当位置;以及一RSP锁紧/解开机构,用于解开该RSP罩盒,因此该RSP罩盒开关器能够将一RSP罩盒盖与一RSP罩盒门分离。在RSP锁紧/解开机构将该RSP罩盒解开之后,该RSP罩盒开关器将该RSP罩盒门与该RSP罩盒盖分离,从而露出一金属盒。该罩盒开关器亦包括一金属盒开关器,其具有至少两个手臂用于容纳及支撑该金属盒盖,同时该两级罩盒开关器将该金属盒底座与该金属盒盖分离,从而露出在该金属盒底座上所装载的裸光罩。

Description

用于超紫外光微影术光罩盒的开关器
技术领域
本发明一般地属于曝光制程设备技术领域,确切地说,是一种用于装载曝光光罩盒的开关器。
背景技术
当半导体线宽持续缩短到22纳米以下时,电路印刷微影术工具不能再使用由一薄膜所覆盖的传统的光罩(熟知的标线片也是如此)。当使用远紫外光光源(EUV)时,这是为产品印刷具有线宽低于22纳米的微影术图案所必需的,薄膜会扭曲及/或吸收光线,从而降低影像质量。为避免图案失真,将具有低于22纳米线宽的微影术图案曝光,要求以下两个条件:
1.EUV光源;以及
2.一个裸玻璃光罩。
此前,采用一种保护薄膜已关键性地防止了微粒直接地落在光罩图案化玻璃表面上。一光罩的图案化玻璃表面因微粒所造成的污染,立即会影响印刷产品的生产,即影响晶圆上集成电路(IC)的生产。取消薄膜,使该光罩可以用于22纳米或较窄线宽的微影术印刷,但是,同时产生的问题是要在储存及转运裸玻璃光罩时,使之避免被微粒污染。
国际半导体设备材料产业协会(SEMI’s)对于在一典型的洁净室环境中用于储存及承载裸玻璃光罩的解决方案系是:
1、一个金属盒,图1A中以一般序号20标示,用于承载该裸玻璃光罩;它被包覆于
2、一个传统的塑料盒。
图1A所示,该金属盒20当将它的盖22开启在它的底座24上方时,将一个光罩26(标线片26)安置在底座24上。用于储存及承载包覆在该金属盒20内的一裸玻璃光罩26的传统式塑料盒,是常规的光罩标准机械界面(SMIF)罩盒或RSP。图1B所示是一个200毫米的RSP,由序号32标示,其可包覆该金属盒20,以及图1C所示一个150毫米RSP,由序号34标示,也可以包覆该金属盒20。二个不同的RSP32,34之间的主要差异为:
1.机械尺寸;以及
2.锁固机构及位置。
SEMI标准规定了二个不同的RSP32、34以及金属盒20的结构。SEMI标准设想该金属盒20无论什么时候,只要是暴露在可以避免被微粒污染的超洁净环境,例如真空环境之外,都应该保持关闭状态。
根据SEMI标准,一闭合的金属盒20的盖22并未固定在该底座24上。确切的说,一个闭合的金属盒20的盖22可以轻易地自底座24提起,露出储存于内部的光罩26。SEMI标准同时针对配置在盖22上的把手提供一系列详细的规格,因此盖22能够由一操作员以手动或是由一机械机构自动地自底座24提起。
与金属盒20相似,RSP32、34都包括一盖,其可与该二者之底座分离。RSP32、34之上半部分通常是所熟知的或是分别地称作为罩盒盖32c、34c,以及RSP32、34之下半部分通常是所熟知的或是分别地称作为罩盒门32d、34d。分别如图2A及图2B中所示,SEMI标准明确规定该金属盒20安置在该罩盒门32d、34d上并由内部固定件所限制,防止金属盒20在罩盒门32d、34d上自由地移动。在罩盒盖32c、34c闭合,且与罩盒门32d、34d啮合将RSP32、34密封后,限制附装至罩盒盖32c、34c的固定件,固定该金属盒20而不致在RSP32、34内侧移动,同时在一IC制造设备内由自动化设备或是操作员运送RSP32、34。如于SEMI标准E-19.4中针对200毫米RSP32,以及SEMI标准E-100中针对150毫米RSP34所规定,RSP32、34包括一个锁紧机构将罩盒盖32c、34c牢固至罩盒门32d、34d上。
每个设计及制造EUVRSP32、34都必需符合SEMI标准,因此EUV罩盒开关器制造者可设计符合该适当的SEMI标准要求的开启/闭合器。因此,金属盒20与RSP32、34之设计并非为本发明内容的主题。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一个裸光微影术光罩。
本发明的另一目的在于提供一种简单的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
本发明的另一目的在于提供一种耐用的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
本发明的另一目的在于提供一种低成本的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
本发明的另一目的在于提供一种易于制造的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
本发明的另一目的在于提供一种易于保养的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
本发明的另一目的在于提供一种节省制成本的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
本发明之另一目的在于提供一种可阻止光罩污染的罩盒开关器,该罩盒包覆并承载一裸光微影术光罩。
简单地说,本发明是一种用于包覆并承载一裸光微影术光罩的罩盒的两级开关器。
该光罩包覆罩盒包括一个外RSP罩盒,其具有:
1、一个RSP罩盒门,用于容纳一个金属盒,该金属盒用于容纳并包覆该裸光罩片;以及
2、一个RSP罩盒盖,与该RSP罩盒门啮合并锁紧,从而将该金属盒包覆在该密封的外RSP罩盒内。该金属盒包括:
3、一个金属盒底座,用于容纳该裸光罩片;以及
4、一个金属盒盖,与具有容纳于其上的该裸光罩片的该金属盒底座啮合,从而将该裸光罩片包覆在该密封外RSP罩盒内的该金属盒中。
两级罩盒开关器包括外RSP罩盒开关器,其包括:
1、一个RSP闩锁机构,用于将该密封的外RSP罩盒闩锁在该外RSP罩盒开关器上的适当位置;以及
2、一个RSP锁紧/解开机构,用于解开该外RSP罩盒,因此该外RSP罩盒开关器能够将该RSP罩盒盖与该RSP罩盒门分离。
在RSP锁紧/解开机构将该外RSP罩盒解开之后,该外RSP罩盒开关器将该RSP罩盒门与该RSP罩盒盖分离,从而露出该金属盒。该两级罩盒开关器亦包括一个金属盒开关器,其具有至少两个臂用于容纳及支撑该金属盒盖,同时该两级罩盒开关器将该金属盒底座与该金属盒盖分离,从而露出在该金属盒底座上所承载的裸光罩片。
本领域一般技术人员由以下用附图图解说明的详细描述,可了解或明白以上及其它的特征、目的及优点。
附图说明
图1A是一立体图,图示一种由SEMI标准规定的打开的金属盒,其内部一片裸光罩(光罩)放置在该金属盒的底座上;
图1B是一立体图,图示由SEMI标准所规定的一种200毫米RSP,其内部可装入图1A所示的金属盒;
图1C是一立体图,图示由SEMI标准所规定的一种150毫米RSP,其内部可装入图1A中所图示的金属盒;
图2A是一立体图,图示于图1B中所示该200毫米RSP,当将该RSP之盖升高且高于该RSP之门而开启时,以及将于图1A中所示该金属盒与该RSP之门相邻;
图2B是一立体图,是图1C中所示该150毫米RSP的立体图,当将该RSP的盖升高且高于该RSP之门而开启时,图1A中所示该金属盒被留在该RSP门上;
图3A是一立体图,图示一开关器用于开启及闭合图1B及图2A中所示的该200毫米RSP;
图3B是一立体图,图示一开关器用于开启及闭合图1C及图2B中所示的该150毫米RSP;
图4A是沿着图3A中线4A-4A所取该200毫米RSP罩盒开关器的平面图,将一个200毫米RSP安置于其上并将闩锁器与之相邻;
图4B是一立体图,图示一罩盒承载台用于承载该200毫米RSP,其于图3A及图4A中显现系连同于图3A中所示位在该RSP罩盒开关器之顶部处的该RSP闩锁机构;
图4C是一立体图,图标配置在图4B中所示的该罩盒承载台下方的一锁紧/开关器,用于转动图4B中的闩锁插销;
图4D是一部分的剖面立体图,图示图3A及图4A中所示该200毫米RSP罩盒开关器,一罩盒承载台升降机用于降低及升高该罩盒承载台包括该升降机的线性轴承,一臂沿着该线性轴承垂直地移动,一导螺杆与该臂耦合,以及一升降机驱动马达用于转动该导螺杆;
图4E是另一部分的剖面立体图,图示图3A、4A及图4D中所示该200毫米RSP罩盒开关器,该罩盒承载台升降机包括该升降机的线性轴承,该臂沿着该线性轴承垂直地移动,该导螺杆与该臂耦合,以及该升降机驱动马达;
图4F是一正视图,图示沿着图4E中线4F-4F所取在图3A、4A、4D及图4E中所示该200毫米RSP罩盒开关器,该罩盒承载台升降机包括该罩盒承载台所附装至之该臂,以及该罩盒承载台在位于一内金属盒开启/闭合位置处时承载该金属盒安置于其上的200毫米RSP之门;
图4G是一立体图,图示图3A、4A、4D、4E及图4F中所示该200毫米RSP罩盒开关器包括在该两级EUV光罩罩盒开关器中,将该RSP之盖移开,以及该罩盒承载台承载该罩盒门及该金属盒承载于其上配置位在该内金属盒开启/闭合位置处;
图5是一立体图,图示本发明两级EUV光罩罩盒开关器;
图6A是一平面图,图示一对内金属盒开关器,其包括在图5中所示的该两级EUV光罩罩盒开关器中,将每一内金属盒开关器成对的摆动臂缩回并因而脱离任一金属盒,其可配置在该成对的内金属盒开关器之间;
图6B是一平面图,图示于图6A中所示该成对的内金属盒开关器,将每一内金属盒开关器成对的摆动臂延伸用以当该RSP罩盒开关器可配置在该成对内金属盒开关器之间时该金属盒之盖啮合;
图7是一立体图,图示该两级EUV光罩罩盒开关器,包括图3A、4A、4D、4E及图4F中所示该200毫米RSP罩盒开关器,将该RSP之盖移开,以及该罩盒承载台承载该罩盒门及该金属盒承载于其上配置位在该内金属盒开启/闭合位置处;
图8是图4C中所示该罩盒承载台之底侧的一平面图,图示一密封盖其包覆该锁紧/开关器;以及
图9是一平面图,图示于图6A及图6B中所示该成对内金属盒开关器,每一部分包覆在一密封盖中,并将每一内金属盒开关器成对的摆动臂延伸用以与可配置在该成对的内金属盒开关器之间的任一金属盒啮合。
图中序号说明:20金属盒、22盖、24底座、26光罩/光罩片、32200毫米RSP、32c罩盒盖、32d罩盒门、34150毫米RSP、34c罩盒盖、34d罩盒门、42、44开关器、42dcm直流马达、42edm升降机驱动马达、42rlmRSP闩锁机构、42lb线性轴承、42lulmRSP锁紧/解开机构、42pt罩盒承载台、42pte罩盒承载台升降机、42aa臂件、42ar臂、42as拱形槽孔、42fr摩擦杆、42orO型圈、42pps罩盒存在感应器、42puls罩盒锁紧/解开感应器、42rp定位销、42wga蜗轮组件、50两级罩盒开关器、52摆动臂内金属盒开关器、54底座板、56臂、58转动轴、62连杆组、64单轴线性马达、66线性轴承导件、72密封盖、74壁、76密封盖、78排气口、82密封盖/排放口、421a闩锁组件、42lb线性轴承、421m线性马达、421p锁紧销、42ls导螺杆。
具体实施方式
本发明的两级EUV罩盒开关器系为现有开关器的设计,其分别地由FortrendEngineeringCorporation于市场上销售:图3A中以序号42标示,用于开启及闭合该SEMI标准E-19.4200毫米RSP32;或图3B中以序号44标示,用于开启及闭合该SEMI标准E-100150毫米RSP34。
该标准的FortrendEngineeringCorporation(富创得工程公司)的RSP罩盒开关器42、44的设计增加第二级机构用于在开启RSP32、34之后开启内金属盒20。换言之,本发明的该EUV罩盒开关器具有二级组件。第一组件(现有的RSP罩盒开关器42、44)是开启RSP32、34的机构;第二组件,一内壳开关器,是开启金属盒20的机构。因只有打开RSP32、34才能接触到金属盒20,故以下章节描述了图3A中所示的该200毫米RSP罩盒开关器42,对其结构及该200毫米RSP32之完整的开启顺序加以说明。150毫米RSP罩盒开关器44与以下说明相类似,所不同之处在于该罩盒锁紧机构与200毫米RSP罩盒开关器42的锁紧机构不同。RSP罩盒开关器42、44中的锁紧/解开机构并非为本发明的主题。
200毫米RSP罩盒开关器42
200毫米RSP罩盒开关器42是一种“3轴”电动系统,其包括:
1、图4A及图4B中所示RSP闩锁机构42rlm,其配置在该200毫米RSP罩盒开关器42之顶顶部处;
2、图4C中所示RSP锁紧/解开机构42lulm,其配置在图4B中所示的一罩盒承载台42pt
下方;以及
3、图4D-4G中所示的罩盒承载台升降机42pte。
该RSP闩锁机构42rlm使用一对马达、双闩锁机构。当该200毫米RSP32安置在图4所示的200毫米RSP罩盒开关器42的罩盒承载台42pt上时,该RSP闩锁机构42rlm将该200毫米RSP32闩锁在适当位置。该RSP闩锁机构42rlm包括,图4A及图4B中所示的两套闩锁组件421a,其分别沿着该200毫米RSP罩盒开关器42的相对侧边上配置。每一闩锁组件421a包括一个线性马达421m线性地驱动一个摩擦杆42fr。安装具有90度直角的臂件42aa以及一个O型圈42or的一个转动轴42rs,以致该O型圈42or压着该摩擦杆42fr。线性地移动该摩擦杆42fr,相关于该转动轴42rs转动该O型圈42or,从而将该200毫米RSP32的罩盒门32d闩锁在该罩盒承载台42pt上。该闩锁组件421a对称配置在该200毫米RSP32的相对侧边上,用以将该200毫米RSP32沿着其前和后边缘锁紧。如有需要,该闩锁组件421a亦能够经配置用以将该200毫米RSP32沿着其左和右边缘锁紧。
如图4B所示,三个定位销42rp向上突出高于该罩盒承载台42pt,该200毫米RSP32的该罩盒门32d安置在上面。当该罩盒门32d安置在该RSP闩锁机构42rlm上时,定位销42rp与构成在罩盒门32d中的配合孔啮合。利用该机械式定位销42rp限制该200毫米RSP32在该罩盒承载台42pt上的平面运动,除非闩锁组件42la松开该200毫米RSP32,否则操作者无法移开该200毫米RSP32。
同时如图4B中所示,两套RSP锁紧销421p向上突出穿过该罩盒承载台42pt的拱形槽孔42as,其容纳该200毫米RSP32的该罩盒门32d。将该200毫米RSP32的该罩盒门32d安置在该罩盒承载台42pt上,该RSP锁紧销421p与该罩盒门32d中的锁紧机构孔啮合。该RSP锁紧销421p向下延伸通过该拱形槽孔42as,至图4C中所示的罩盒承载台42pt底侧上的RSP锁紧/解开机构42lulm。该RSP锁紧/解开机构42lulm包括一直流马达42dcm,其驱动安装在RSP锁紧销421p一端的蜗轮组件42wga。经由该蜗轮组件42wga,该直流马达42dcm供给该RSP锁紧销421p沿着该拱形槽孔42as顺时针或反时针转动的动力。该RSP锁紧/解开机构42lulm包括一个罩盒存在感应器42pps,其能够当一个200毫米RSP32安置在该罩盒承载台42pt上时给出指示,还包括一对罩盒锁紧/解开感应器42puls,用于指示当该RSP锁紧销421p将该罩盒盖32c自罩盒门32d解开的位置时。于此所说明该RSP闩锁机构42rlm的作业开启与闭合包括在符合SEMIE-19.4标准的任何200毫米RSP32的罩盒门32d中的锁紧机构。
在该RSP锁紧/解开机构42lulm解开该200毫米RSP32之后,容许该罩盒门32d与该罩盒盖32c分开,图4D-4G中所示该罩盒承载台升降机42pte降低承载该罩盒门32d的该罩盒承载台42pt,从而将该罩盒盖32c自该罩盒门32d分开并露出该金属盒20。该罩盒承载台升降机42pte包括一对垂直定向的线性轴承42lb。每一个线性轴承42lb承载一个臂42ar的端部,连同所固定的罩盒承载台42pt,自由地上下移动该线性轴承42lb。该罩盒承载台升降机42pte还包括一个垂直定向的导螺杆42ls,其与臂42ar耦合。如业内人士所熟知的,视该导螺杆42ls旋向而定,导螺杆42ls向一个方向转动,例如顺时针,向上地移动该罩盒承载台42pt,同时相对方向转动,例如反时针,就向下地移动该罩盒承载台42pt。安装于该200毫米RSP罩盒开关器42底部附件的一个升降机驱动马达42edm顺时针或是反时针地驱动该导螺杆42ls。
二级罩盒开关器50
如图5中所示,本发明内容的两级罩盒开关器50,如所说明的该现有的200毫米RSP罩盒开关器42增加一对摆动臂式内金属盒开关器52。在与该罩盒盖32c分开后,承载该金属盒20的该罩盒门32d在该两级罩盒开关器50内沿着该罩盒承载台升降机42pte下降至图4F及图4G中所示的一个内金属盒开启/闭合位置。如于图4G及图5所示,该内金属盒开关器52是沿着该200毫米RSP罩盒开关器42的相对侧边安装在该内金属盒开启/闭合位置处。每一个内金属盒开关器52包括一个附装在该200毫米RSP罩盒开关器42上的底座板54。
如图6A及图6B中所示,每一个内金属盒开关器52包括一对臂56,其连接于转动轴58且附装于该底座板54上,可相对于该转动轴转动。每一个臂56都由一个连杆组62附装于一个单轴线性马达64的一端,该马达被固定在该底座板54上。每一个线性马达64的一端在与该两套连杆组62的其中之一连接之前通过一线性轴承导件66。提供该线性马达64动力拉动包括在每一内金属盒开关器52中的其中之一臂56,而同时推动另一臂56。藉由该线性马达64施力至每一内金属盒开关器52之成对的臂56,致使二臂56相关于其之各别的转动轴58转动并朝向该相对的内金属盒开关器52摆动。
将该罩盒承载台42pt安装在该内金属盒开启/闭合位置,如于图6B所示,该内金属盒开关器52构形及其之各别的附装至该200毫米RSP罩盒开关器42延伸该等臂56之端部的位置,用于容纳位在该金属盒20之该盖22上的把手。该等臂56延伸之后,承载该罩盒门32d的该罩盒承载台升降机42pte继续沿着线性轴承42lb下降。如于第7图中所示,进一步将该罩盒承载台升降机42pte下降致使内金属盒开关器52与该金属盒20之该盖22啮合并支撑。该罩盒承载台升降机42pte持续下降将该盖22与该底座24分开,从而露出先前保持包覆在该底座24内的该裸光罩26。
工业的适用性
为确保该两级罩盒开关器50的洁净,可能因表面接触或摩擦产生微粒的所有移动部件均安装在一密闭的污染环境中。因此,如图8所示,在该罩盒承载台42pt底侧上,一个密封盖72包覆该RSP锁紧/解开机构42lulm。该密封盖72完全能够包覆住该RSP锁紧/解开机构42lulm中移动部件所产生的任何微粒。如于图4E所示,该罩盒承载台升降机42pte所有移动部件都是:
1、安装在该两级罩盒开关器50之一背侧上距该罩盒承载台42pt的最远处;以及
2、由一壁74与该罩盒承载台42pt及安置于其上的该罩盒门32d分开。
与密封盖72相似,图4F中所示的密封盖76被部分剖开,以便可见该升降机驱动马达42edm,靠近该两级罩盒开关器50的后部,安装着线性轴承42lb、导螺杆42ls及升降机驱动马达42edm。为确保一低压环境环绕罩盒承载台升降机42pte,如图4F中所示,多个排气口78配置在该两级罩盒开关器50之下边缘。最后,如图9所示,一密封盖82包覆了内金属盒开关器52的两套机构中的每一套机构,配置在每一底座基板54之一端部处的排放口82,确保一低压环境环绕内金属盒开关器52的每一处。允许对排气口78以及排放口82施加真空用以个别地环绕罩盒承载台升降机42pte以及该两套内金属盒开关器52之每一套机构,用以建立一低压环境,去除分别由两级罩盒开关器50产生的微粒。
尽管本发明已就目前较佳的具体实施例加以说明,但应清楚的是本发明仅为图解说明,而不应认定具有局限性。因此,无疑地,对已阅读前述发明内容的业内人士而言,对其建议的发明内容之不同的变化、修改及/或择一的应用,并未背离本发明的精神及范畴。因此,希望以下专利保护范围被视为涵盖于本发明之真实精神与范畴内的所有改变、修改或是择一的应用。

Claims (2)

1.一种两级罩盒开关器,其用于开启包覆并承载一光微影术光罩于其中的一罩盒,该罩盒包括:a.一外RSP罩盒,其具有:i.一RSP罩盒门,其适于用于容纳一内金属盒,该内金属盒适用于容纳并包覆一裸光罩;ii.一RSP罩盒盖,其与该RSP罩盒门啮合并锁紧,从而将该内金属盒包覆在密封的外RSP罩盒内;b.该内金属盒包括:i.一金属盒底座,其适用于容纳该裸光罩;ii.一金属盒盖,其与具有容纳于其上的该裸光罩之该金属盒底座啮合,从而将该裸光罩包覆在该密封的外RSP罩盒内的该内金属盒中,其特征在于:
两级罩盒开关器包含:a.一外RSP罩盒开关器,其包括:i.一RSP闩锁机构,用于将该密封的外RSP罩盒锁在该外RSP罩盒开关器上的适当位置;该RSP闩锁机构包括两套闩锁组件,分别沿着外RSP罩盒开关器的相对侧边上配置,每一组闩锁组件包括一个线性马达线性地驱动一个摩擦杆,安装具有90度直角的臂件以及一个O型圈的一个转动轴,以致该O型圈压着该摩擦杆,线性地移动该摩擦杆,相关于该转动轴转动该O型圈,从而将RSP罩盒门闩锁在罩盒承载台上,用以将RSP罩盒门沿前和后边缘锁紧或沿左和右边缘锁紧;ii.一RSP锁紧/解开机构,用于解开该外RSP罩盒,因此该外RSP罩盒开关器能够将该RSP罩盒盖与该RSP罩盒门分离;罩盒承载台升降机降低承载该RSP罩盒门的罩盒承载台,从而将该RSP罩盒盖自RSP罩盒门分开并露出该内金属盒,该罩盒承载台升降机包括一对垂直定向的线性轴承,每一个线性轴承承载一个臂的端部,该臂连同所固定的罩盒承载台,沿该线性轴承自由地上下移动,该罩盒承载台升降机还包括一个垂直定向的导螺杆,其与臂耦合,安装于该外RSP罩盒开关器底部的一个罩盒承载台升降机驱动马达驱动该导螺杆,使该罩盒承载台上下移动;
b.一内金属盒开关器,其具有至少两个臂用于容纳及支撑该金属盒盖,同时该两级罩盒开关器将该金属盒底座与该金属盒盖分离,从而露出在该金属盒底座上所装载的裸光罩,一对摆动臂式内金属盒开关器是沿外RSP罩盒开关器的相对侧边安装在该内金属盒开启/闭合位置处;每一个内金属盒开关器包括一个附装在该外RSP罩盒开关器上的底座板,每一个内金属盒开关器的一对臂连接于摆臂转动轴且附装于该底座板上,可相对于该摆臂转动轴转动,每一个内金属盒开关器的臂都由一个连杆组附装于一个单轴线性马达的一端,该单轴线性马达被固定在该底座板上,每一个单轴线性马达的一端在与两套该连杆组的其中之一连接之前通过一线性轴承导件,提供该单轴线性马达动力拉动每一内金属盒开关器中的一臂,而同时推动另一臂,藉由该单轴线性马达施力至每一个内金属盒开关器之成对的二臂,使之绕各自的摆臂转动轴转动,并朝向相对的该内金属盒开关器摆动;随着罩盒承载台到达内金属盒开启/闭合位置,附装在外RSP罩盒开关器上的内金属盒开关器伸展内金属盒开关器的二臂的末端,以便接纳该金属盒盖的把手,该内金属盒开关器的二臂延伸之后,承载该RSP罩盒门的该罩盒承载台继续沿罩盒承载台升降机的线性轴承下降,进一步将该罩盒承载台下降致使内金属盒开关器与该金属盒盖啮合并支撑,该罩盒承载台持续下降将该金属盒盖与该金属盒底座分开,从而露出先前保持包覆在该金属盒底座内的该裸光罩。
2.根据权利要求1所述的两级罩盒开关器,其特征在于:所述罩盒承载台升降机的防止裸光罩被罩盒承载台升降机所产生的微粒污染的结构包括:在该罩盒承载台底侧上的一个密封盖包覆该RSP锁紧/解开机构,该密封盖完全能够包覆住该RSP锁紧/解开机构中移动部件所产生的任何微粒,该罩盒承载台升降机所有移动部件都是安装在该两级罩盒开关器背侧上距该罩盒承载台的最远处;以及由一壁与该罩盒承载台及安置于其上的该RSP罩盒门分开;该罩盒承载台升降机在两级罩盒开关器的后部安装线性轴承、导螺杆及罩盒承载台升降机驱动马达,为确保一低压环境环绕罩盒承载台升降机,多个排气口配置在该两级罩盒开关器之下边缘,一内金属盒开关器密封盖包覆了内金属盒开关器的两套机构中的每一套机构,配置在每一底座板之一端部处的排放口,确保一低压环境环绕内金属盒开关器的每一处,允许对排气口以及排放口施加真空用以个别地环绕罩盒承载台升降机以及两套内金属盒开关器之每一套机构,用以建立一低压环境,去除分别由两级罩盒开关器产生的微粒。
CN201180004962.9A 2010-04-30 2011-05-02 用于超紫外光微影术光罩盒的开关器 Active CN102753454B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US34358310P 2010-04-30 2010-04-30
US61/343,583 2010-04-30
PCT/US2011/000777 WO2011136856A1 (en) 2010-04-30 2011-05-02 Opener for extreme ultra violet lithography reticle pods

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102753454A CN102753454A (zh) 2012-10-24
CN102753454B true CN102753454B (zh) 2016-01-20

Family

ID=44861859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201180004962.9A Active CN102753454B (zh) 2010-04-30 2011-05-02 用于超紫外光微影术光罩盒的开关器

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20130043776A1 (zh)
EP (1) EP2563689A1 (zh)
CN (1) CN102753454B (zh)
TW (1) TW201206787A (zh)
WO (1) WO2011136856A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013187121A1 (ja) * 2012-06-14 2013-12-19 村田機械株式会社 蓋開閉装置
US20190333797A1 (en) * 2018-04-30 2019-10-31 Stek Co., Ltd Apparatus and method for opening snap-shot cases
CN113671799A (zh) 2020-05-15 2021-11-19 长鑫存储技术有限公司 光罩检测装置、方法、曝光机和光刻设备
CN115057081A (zh) * 2022-06-23 2022-09-16 上海大族富创得科技有限公司 一种光罩存储盒开合器

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002009133A (ja) * 2000-06-26 2002-01-11 Canon Inc 基板搬送装置
TWI319123B (en) * 2002-02-22 2010-01-01 Asml Holding Nv System and method for using a two part cover for protecting a reticle
US7477358B2 (en) * 2004-09-28 2009-01-13 Nikon Corporation EUV reticle handling system and method
JP2006128188A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Nikon Corp 基板搬送装置、基板搬送方法および露光装置
US7428958B2 (en) * 2004-11-15 2008-09-30 Nikon Corporation Substrate conveyor apparatus, substrate conveyance method and exposure apparatus
US7808616B2 (en) * 2005-12-28 2010-10-05 Nikon Corporation Reticle transport apparatus, exposure apparatus, reticle transport method, and reticle processing method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011136856A1 (en) 2011-11-03
CN102753454A (zh) 2012-10-24
US20130043776A1 (en) 2013-02-21
EP2563689A1 (en) 2013-03-06
TW201206787A (en) 2012-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW447067B (en) Wafer cassette load station
CN102753454B (zh) 用于超紫外光微影术光罩盒的开关器
KR101313460B1 (ko) 기판 반송 장치, 기판 반송 방법 및 노광 장치
US7597523B2 (en) Variable lot size load port
CN109997217B (zh) 配备具有两个凸轮轮廓的闩锁机构的衬底容器
JP6325518B2 (ja) Euvレチクル検査ツールにおけるレチクルの取り扱い装置及び方法
TWI430929B (zh) 傳送盒
US20070140822A1 (en) Methods and apparatus for opening and closing substrate carriers
TWI630671B (zh) Gate valve and substrate processing device
US11837486B2 (en) Reticle transportation container
JPS61502994A (ja) 2つの密封環境間のインターフェース装置
TWI616386B (zh) Cover opening and closing device
US8207504B2 (en) Inspection of EUV masks by a DUV mask inspection tool
JP6212292B2 (ja) ロードポート
KR20180130388A (ko) Smif 장치
TWI686666B (zh) 基板容器
KR100704422B1 (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법
CN1169696C (zh) 具有闭锁门的输送组件
JPH1084034A (ja) 半導体基板キャリアの搬送および使用方法および装置
JP2005175413A (ja) 搬送システム及び搬送方法
KR20130005748U (ko) 반도체 소자를 보관하는 용기
TW202228226A (zh) 運輸載體對接裝置
JP2001102438A (ja) 精密基板収納容器
JP2002313873A (ja) 搬送ロボット移転対応型搬送装置及び搬送ロボット移転方法
WO2007078406A2 (en) Methods and apparatus for opening and closing substrate carriers

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: FORTREND ENGINEERING (SHENYANG) CORPORATION

Free format text: FORMER OWNER: FORTREND ENGINEERING CORP.

Effective date: 20130717

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; TO: 110169 SHENYANG, LIAONING PROVINCE

TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20130717

Address after: 110169 Liaoning province Shenyang Hunnan Hunnan Road No. 19-4

Applicant after: Fuchengde Technology (Shenyang) Co.,Ltd.

Address before: The United States of California, Sunnyvale Pasto electric Street No. 687

Applicant before: Fortrend Engineering Corp.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20171024

Address after: 201114 Shanghai city Minhang District million Fang Building Room 202 No. 555 1

Patentee after: SHANGHAI FORTREND TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Address before: 110169 Liaoning province Shenyang Hunnan Hunnan Road No. 19-4

Patentee before: Fuchengde Technology (Shenyang) Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201114 Room 202, building 1, 555 Wanfang Road, Minhang District, Shanghai

Patentee after: Shanghai Han's Fuchuang Technology Co.,Ltd.

Address before: 201114 Room 202, building 1, 555 Wanfang Road, Minhang District, Shanghai

Patentee before: SHANGHAI FORTREND TECHNOLOGY Co.,Ltd.