CN102708760A - 一种消除拼接显示屏拼缝的装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及拼接显示技术，具体涉及一种消除拼接显示屏拼缝的装置。其包括拼接单元，在拼接单元表面设置有用于将边缘像素发光面积增大覆盖与其衔接的边框区域的光学膜层。通过光学膜层调整边缘像素的填充率，将光线覆盖与边缘像素相衔接的边框区域，实现拼接单元无缝拼接。

Description

一种消除拼接显示屏拼缝的装置
技术领域
本发明涉及拼接显示技术，具体涉及一种消除拼接显示屏拼缝的装置。
背景技术
OLED，即有机发光二极管，是基于有机材料的一种电流型发光器件。由于OLED具有自发光特性，不需要背光源、面板厚度薄、驱动电压低、功耗低、响应速度快、对比度高、视角广、使用温度范围广、机械性能好、抗震性能强、可实现柔性显示等优异特性，被认为是下一代平板显示器新兴应用技术。但受到制造工艺、良品率等的影响，大尺寸OLED屏幕的量产难度较大。不久前市场推出的55寸OLED电视是目前最大的OLED屏幕。但此尺寸仍不能满足大屏幕显示的要求，为了增加显示屏幕尺寸，可利用多个现有的小尺寸OLED显示屏进一步组合成较大尺寸的拼接显示墙。但由于封胶、布线等生产工艺的要求，每个OLED模块除了显示区域以外还留有一定的边框范围，如图1所示，为将多个现有的小尺寸OLED模块进行拼接组合成大尺寸的显示屏幕，但由于制作工艺的限制，每个OLED模块存在自发光的显示区域及不能显示的边框区域，其中边框区域又包括封胶区和布线区，这使得OLED模块拼接后屏幕中会出现无法显示的区域，导致屏幕拼接图像不完整不连续，影响显示和观看效果。如图2所示，OLED模块在显示区域中每个像素大小均等，由于边框的存在使屏幕画面不连续，影响观看效果。
发明内容
本发明解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种消除屏幕拼缝的消除拼接显示屏拼缝的装置。所述装置能够应用在OLED拼接面板上，实现OLED模块的无缝拼接。
为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：
一种消除拼接显示屏拼缝的装置，包括拼接单元，在拼接单元表面设置有用于将边缘像素发光面积增大覆盖与其衔接的边框区域的光学膜层。通过光学膜层调整边缘像素的填充率，将光线覆盖与边缘像素相衔接的边框区域，实现拼接单元无缝拼接。边缘像素发光面积增大后其亮度比拼接单元其余显示区域像素亮度稍低，可通过降低中间像素区域亮度，提高边缘像素区域亮度，以调整屏幕显示一致性。
作为一种优选方案，拼接单元边缘像素的范围包括与其衔接的边框区域,边缘像素的大小等于拼接单元显示区域中央像素的大小。为了调整屏幕显示一致性，将整个拼接单元的区域进行像素均分，均分后边缘像素实际发光面积小于拼接单元其他像素的发光面积，当边缘像素发光面积经光学膜层后增大覆盖与其衔接的边框区域时，在光学膜层表面显示出来的屏幕图像中各个像素的面积达到大小相等。
作为进一步的优选方案，光学膜层上设置有扩散层和若干中空的光线隔离结构，拼接单元、光线隔离结构、扩散层依次相接，其中一个光线隔离结构对应拼接单元上的一个边缘像素，扩散层、光线隔离结构与拼接单元在对应像素区域内形成反射腔。光线隔离结构将每个像素发出的光线局限在对应像素面积范围内传输，防止像素间色彩串扰，光线在发射腔内多次反射充满整个发射腔，改变原本像素光线的局部分布；从发射腔出射的光线经扩散层散射，改变出射光线规则度，起到增大视觉范围的作用。光线经过扩散层后从光学膜层出射，通过光学膜层提高了像素填充率，将边缘像素相邻的边框覆盖，实现无缝拼接。
作为再进一步的优选方案，所述光线隔离结构与拼接单元中的所有像素一一对应。
作为再进一步的优选方案，所述光线隔离结构为栅条。
作为再进一步的优选方案，所述栅条的内侧设置有发射层或漫反射层。
作为再进一步的优选方案，所述扩散层内含有小颗粒散射体。
作为再进一步的优选方案，所述扩散层表面设置有粗糙层。
作为再进一步的优选方案，所述反射腔设置为透明导光层。
作为再进一步的优选方案，所述扩散层与透明导光层为一体化结构形成导光实体
与现有技术相比，本发明技术方案的有益效果是：
本发明通过光学膜层提高边缘像素填充率，将边缘像素相邻的边框覆盖，消除屏幕拼缝，解决了目前屏幕拼接图像不完整不连续的问题，优化屏幕观赏效果。
附图说明
图1为现有技术中多个拼接单元拼接的结构示意图；
图2为现有技术中单个拼接单元结果示意图；
图3为本发明中整个拼接区域像素分布图；
图4为本发明的结构示意图；
图5为图4中A部分的放大图；
图6为设置光学膜层前后屏幕中单个像素发光效果示意图；
图7为设置光学膜层前后拼接单元的发光效果示意图；
图8为本发明中将发射腔填充后的结构示意图。
1 显示区域；11 像素区域；12 发光部分；21 边框的封胶区；22 边框的布线区；3 拼接单元的上的基板；4 光学膜层；41 光线隔离结构；42 扩散层；43 反射腔；431 粗糙层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的技术方案做进一步的说明。
如图3和图4所示，本发明中一种消除拼接显示屏拼缝的装置，包括拼接单元，拼接单元边缘像素的范围包括与其衔接的边框区域21、22,且边缘像素的大小等于拼接单元显示区域中央像素的大小，在拼接单元表面设置有光学膜层4，光学膜层4上设置有扩散层42和若干中空的光线隔离结构41，拼接单元、光线隔离结构41、扩散层42依次相接，其中一个光线隔离结构41对应拼接单元上的一个边缘像素，扩散层42、光线隔离结构41与拼接单元在对应像素区域内形成反射腔43。其中，光线隔离结构41为栅条，栅条的内侧设置有发射层或漫反射层；扩散层42内含有小颗粒散射体或其表面设置有粗糙层431，如图5所示，为扩散层42表面经过粗糙度处理后的示意图。
栅条将边缘像素发出的光线局限在对应像素面积范围内传输，防止像素间色彩串扰，其内侧面设置的发射层或漫发射层对像素形成一个反射腔43，光线在反射腔内多次反射后充满整个腔体，改变原本像素光线的局部分布。 扩散层42的覆盖在栅条顶部，从反射腔43中出射的光线经扩散层42进行散射，最后从光学膜层4出射，提高像素填充率，如图6所示，为加光学膜层4前后像素发光效果对比，加上光学膜层4后像素填充率明显增大。如图7所示，加上光学膜层后可消除拼接单元的边框区域，实现消除屏幕拼缝的效果。由于边缘像素发光面积较小，通过光学膜层4调整提高像素填充率，拼接单元边缘像素亮度将会比其余显示区域像素亮度稍低，可通过降低中间像素区域亮度，提高边沿像素区域亮度，调整屏幕显示一致性。为了进一步调整屏幕显示一致性，拼接单元所有像素都对应设置光线隔离结构。 
如图8所示，反射腔43设置为透明导光层，用透明光学材料填充，并与扩散层设置成一体化结构形成导光实体，同样可对拼接单元出射的光线进行散射达到增大视觉范围的作用，经过导光实体的光线从光学膜层4出射后依然可用提高像素填充率，消除拼接单元的边框区域，实现消除屏幕拼缝的效果。

Claims (10)

1.一种消除拼接显示屏拼缝的装置，包括拼接单元，其特征在于，在拼接单元表面设置有用于将边缘像素发光面积增大覆盖与其衔接的边框区域的光学膜层。
2.根据权利要求1所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，拼接单元边缘像素的范围包括与其衔接的边框区域,边缘像素的大小等于拼接单元显示区域中央像素的大小。
3.根据权利要求2所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，光学膜层上设置有扩散层和若干中空的光线隔离结构，拼接单元、光线隔离结构、扩散层依次相接，其中一个光线隔离结构对应拼接单元上的一个边缘像素，扩散层、光线隔离结构与拼接单元在对应像素区域内形成反射腔。
4.根据权利要求3所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述光线隔离结构与拼接单元中的所有像素一一对应。
5.根据权利要求3所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述光线隔离结构为栅条。
6.根据权利要求3所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述栅条的内侧设置有发射层或漫反射层。
7.根据权利要求3所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述扩散层内含有小颗粒散射体。
8.根据权利要求3所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述扩散层表面设置有粗糙层。
9.根据权利要求3至7任一项所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述反射腔设置为透明导光层。
10.根据权利要求9所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述扩散层与透明导光层为一体化结构形成导光实体。
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