CN102723048B - 一种消除拼接显示屏拼缝的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及拼接显示技术，具体涉及一种消除拼接显示屏拼缝的装置。其包括拼接单元，将包括边框区域和显示区域的拼接单元区域以一个像素大小为单元进行均等划分，其中拼接单元的边缘像素包括发光部分和边框部分，在拼接单元表面设置有将像素发光中心进行搬移的光学膜层，边缘像素的发光中心经光学膜层后搬移到边缘像素的中央。经过像素均分后屏幕上所有像素的面积都相等，边缘像素的发光面积较小且偏离像素中心，拼接单元加上光学膜层后实现像素发光中心的搬移，使屏幕上所有像素的发光中心限制在像素的中央，而在像素与像素之间形成的缝隙人眼观察不到，使屏幕上的每个像素在视觉上都一样，提高了显示的对比度，实现拼接单元的无缝拼接。
Description
技术领域
本发明涉及拼接显示技术，具体涉及一种消除拼接显示屏拼缝的装置。
背景技术
OLED，即有机发光二极管，是基于有机材料的一种电流型发光器件。由于OLED具有自发光特性，不需要背光源、面板厚度薄、驱动电压低、功耗低、响应速度快、对比度高、视角广、使用温度范围广、机械性能好、抗震性能强、可实现柔性显示等优异特性，被认为是下一代平板显示器新兴应用技术。但受到制造工艺、良品率等的影响，大尺寸OLED屏幕的量产难度较大。不久前市场推出的55寸OLED电视是目前最大的OLED屏幕。但此尺寸仍不能满足大屏幕显示的要求，为了增加显示屏幕尺寸，可利用多个现有的小尺寸OLED显示屏进一步组合成较大尺寸的拼接显示墙。但由于封胶、布线等生产工艺的要求，每个OLED模块除了显示区域以外还留有一定的边框范围，如图1所示，为将多个现有的小尺寸OLED模块进行拼接组合成大尺寸的显示屏幕，但由于制作工艺的限制，每个OLED模块存在自发光的显示区域及不能显示的边框区域，其中边框区域又包括封胶区和布线区，这使得OLED模块拼接后屏幕中会出现无法显示的区域，导致屏幕拼接图像不完整不连续，影响显示和观看效果。如图2所示，OLED模块在显示区域中每个像素大小均等，由于边框的存在使屏幕画面不连续，影响观看效果。
发明内容
本发明解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种消除屏幕拼缝的消除拼接显示屏拼缝的装置。所述装置能够应用在OLED拼接面板上，实现OLED模块的无缝拼接。
为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：
一种消除拼接显示屏拼缝的装置，包括拼接单元，将包括边框区域和显示区域的拼接单元区域以一个像素大小为单元进行均等划分，其中拼接单元的边缘像素包括发光部分和边框部分，在拼接单元表面设置有将像素发光中心进行搬移的光学膜层，边缘像素的发光中心经光学膜层后搬移到边缘像素的中央。经过像素均分后屏幕上所有像素的面积都相等，边缘像素的发光面积较小且偏离像素中心，拼接单元加上光学膜层后实现了像素发光中心的搬移，使边缘像素的发光中心限制在像素范围的中央，稍微降低像素填充率，而在像素与像素之间形成的缝隙人眼观察不到，使屏幕上的每个像素在视觉上都一样，提高了显示的对比度，实现拼接单元的无缝拼接。
作为一种优选方案，所述光学膜层上设置有与拼接单元像素一一对应的匚式隔离栅，匚式隔离栅的开口处与拼接单元上对应像素所在区域相接，在匚式隔离栅开口处相对的侧面设置有出光孔，匚式隔离栅与拼接单元在对应像素所在区域形成半封闭腔体。匚式隔离栅将每个像素发出的光线局限在对应像素面积范围内传输，防止像素间色彩串扰，光线在半封闭腔体内多次反射后从出光孔出射，将半封闭腔体体积尽量缩小以提高出光率。
作为进一步的优选方案，所述出光孔填充有扩散膜。从出光孔出射的光线经过扩散膜散射后在从光学膜层中出射，改变光线的规则度，达到增大视觉的目的。
作为再进一步的优选方案，所述扩散膜内含有小颗粒散射体或其表面设置有粗糙层。
作为进一步的优选方案，所述与匚式隔离栅开口处相对的一侧的外表面设置有吸光层。设置吸光层能够有效减少外部环境光的发射，提高屏幕显示对比度。
作为进一步的优选方案，所述匚式隔离栅的内侧面均设置有发射层或漫反射层。
作为进一步的优选方案，所有像素对应的匚式隔离栅的出光孔大小相同。
作为进一步的优选方案，拼接单元除边缘像素外的其他像素所对应的匚式隔离栅的出光孔大于边缘像素对应的匚式隔离栅的出光孔。由于边缘像素的发光面积较小且偏离像素中心，需要光学膜层实现其发光中心的搬移，但同时也限制了光学膜层中出光孔的大小（即像素开口率），而其余显示区域像素能够做到像素开口率100%，但是为了保持显示画面的连续性、一致性，将其余显示区域像素的开口率设置为比边缘像素开口率稍大，并将开口率差异控制在人眼可接受范围内，视觉上仍保持屏幕画面的连贯一致，以达到提高光能利用率、增加屏幕亮度的目的。
作为再进一步的优选方案，所述半封闭腔体设置为透明导光层。
作为再进一步的优选方案，所述透明导光层与扩散膜为一体化结构。
与现有技术相比，本发明技术方案的有益效果是：
本发明通过光学膜层实现边缘像素发光中心搬移，将发光中心覆盖部分边框，在人眼可接受范围内可实现完全消除屏幕拼缝，解决了目前屏幕拼接图像不完整不连续的问题，优化屏幕观赏效果。
附图说明
图1为现有技术中多个拼接单元拼接的结构示意图；
图2为现有技术中单个拼接单元结果示意图；
图3为本发明中整个拼接区域经过像素均分后的示意图；
图4为本发明的结构示意图；
图5为设置光学膜层前后屏幕中单个像素发光效果示意图；
图6为设置光学膜层前后拼接单元的发光效果示意图；
图7为增大非边缘像素的像素开口率后拼接单元的发光效果示意图。
1 显示区域；11 像素区域；12 发光部分；21 边框的封胶区；22 边框的布线区；3 拼接单元上的基板；5 光学膜层；51 匚式隔离栅；52 吸光层；53 扩散膜；54 半封闭腔体。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的技术方案做进一步的说明。
如图3和图4所示，本发明中一种消除拼接显示屏拼缝的装置包括拼接单元，将包括边框区域2和显示区域1的拼接单元区域以一个像素大小为单元进行均等划分，其中拼接单元的边缘像素包括发光部分12和边框部分21、22；在拼接单元表面设置有光学膜层5，边缘像素的发光中心经光学膜层5后搬移到边缘像素的中央；光学膜层5上设置有匚式隔离栅51，匚式隔离栅51与拼接单元像素一一对应；匚式隔离栅51的开口处与对应像素所在区域相接，在匚式隔离栅51开口处相对的侧面设置有出光孔，出光孔填充有扩散膜53，扩散膜53内含有小颗粒散射体或其表面设置有粗糙层；匚式隔离栅51内侧面均设置有发射层或漫反射层，其与开口处相对的一侧的外表面设置有吸光层52，匚式隔离栅51与拼接单元在对应像素所在区域形成半封闭腔体54。
如图3和图4所示，经过像素均分的拼接单元区域中，边缘像素的发光部分小于其他显示区域的像素且其发光中心偏离边缘像素中心；从拼接单元表面出射的光线进入半封闭腔体54内经多次发射后从匚式隔离栅51的出光孔出射，将扩散膜53散射后从光学膜层5中出射，成功地将边缘像素的发光中心搬移至边缘像素的中心，如图5所示。为了实现整个屏幕均匀一致性，光学膜层5使屏幕上所有像素的发光中心限制在像素中央，稍微降低像素填充率，使屏幕上每个像素看上去完全一样，效果如图6所示。本发明牺牲了像素的填充率，但提高了屏幕显示的对比度，能够实现无缝拼接
一个具体实施例，将匚式隔离栅51与拼接单元在对应像素所在区域形成半封闭腔体54用透明光学材料填充形成透明导光层，透明导光层与扩散膜53设置为一体化结构。
另一个具体实施例中，所有像素对应的匚式隔离栅的出光孔大小相同，这样屏幕上每个像素的发光面积都相等，可用保持屏幕显示的一致性。
如图7所示，拼接单元除边缘像素外的其他像素所对应的匚式隔离栅51的出光孔还可用设置成大于边缘像素对应的匚式隔离栅51的出光孔。由于边缘像素的发光面积较小且偏离像素中心，需要光学膜层5实现其发光中心的搬移，但同时也限制了光学膜层5中出光孔的大小（即像素开口率），而其余显示区域像素能够做到像素开口率100%，但是为了保持显示画面的连续性、一致性，将其余显示区域像素的开口率设置为比边缘像素开口率稍大，并将开口率差异控制在人眼可接受范围内，视觉上仍保持屏幕画面的连贯一致，以达到提高光能利用率、增加屏幕亮度的目的。
Claims (7)
1.一种消除拼接显示屏拼缝的装置，包括拼接单元，其特征在于，将包括边框区域和显示区域的拼接单元区域以一个像素大小为单元进行均等划分，其中拼接单元的边缘像素包括发光部分和边框部分，在拼接单元表面设置有将像素发光中心进行搬移的光学膜层，边缘像素的发光中心经光学膜层后搬移到边缘像素的中央；
所述光学膜层上设置有与拼接单元像素一一对应的匚式隔离栅，匚式隔离栅的开口处与拼接单元上对应像素所在区域相接，在匚式隔离栅开口处相对的侧面设置有出光孔，匚式隔离栅与拼接单元在对应像素所在区域形成半封闭腔体；
所述出光孔填充有扩散膜；
所述匚式隔离栅的内侧面均设置有发射层或漫反射层。
2.根据权利要求1所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述扩散膜内含有小颗粒散射体或其表面设置有粗糙层。
3.根据权利要求1所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述与匚式隔离栅开口处相对的一侧的外表面设置有吸光层。
4.根据权利要求1所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所有像素对应的匚式隔离栅的出光孔大小相同。
5.根据权利要求1所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，拼接单元除边缘像素外的其他像素所对应的匚式隔离栅的出光孔大于边缘像素对应的匚式隔离栅的出光孔。
6.根据权利要求1至5任一项所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述半封闭腔体设置为透明导光层。
7.根据权利要求6所述的消除拼接显示屏拼缝的装置，其特征在于，所述透明导光层与扩散膜为一体化结构。
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