CN102663156A - 栅长可调的标准单元版图设计方法及其装置 - Google Patents

Abstract

一种栅长可调的标准单元版图设计方法，包括：提供具有固定栅长的标准单元的版图；对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，以待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，对于每一条待调整的栅图形进行调整的步骤包括：将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及将在第一坐标轴中位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将在第一坐标轴中位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。实现了栅长可调整的版图设计自动化的同时，实现了通过调整版图中的栅长降低电路功耗的目的。

Description

栅长可调的标准单元版图设计方法及其装置

技术领域

本发明涉及集成电路设计自动化领域，更具体地说，涉及一种栅长可调的标准单元版图设计方法及其装置。

背景技术

在集成电路设计中，高性能、低功耗也已成为集成电路芯片设计追求的目标。对于CMOS集成电路，影响功耗的因素主要包括动态功耗和静态功耗，动态功耗来自于器件逻辑电平变化的动态电流引起的功耗，静态功耗来自于器件不工作时的静态泄漏电流，目前，随着器件的集成度不断提高，工艺节点的进入纳米时代，器件尺寸不断减小，引起器件泄漏电流的不断增加，集成电路芯片的静态功耗在总体功耗中占据了主要的地位。

而且，集成电路芯片功耗的上升会引起芯片温度的上升，而芯片温度的上升引起器件泄漏电流的指数式上升，进一步导致芯片功耗的上升，如此的循环作用给低功耗的集成电路设计提出了挑战。

目前，现有的低功耗设计技术主要是基于器件级别的电路设计或功能电路的设计，例如多阈值逻辑门和功率控制电路设计等，多阈值逻辑门的设计主要是在不同的应用上采用不同阈值的逻辑门器件，在确保电路性能得到满足的情况下，使器件的泄漏电流最小；对于功率控制电路的设计是通过功率控制电路将功能电路的电源受控，在电路不需要工作时，功率控制电路截断对应功能电路的电源，使其泄漏电流基本为零，从而实现低功耗。

除了上述基于器件的电路设计来减小功耗的方法之外，为了尽可能降低集成电路的功耗，还可以在集成电路版图设计的阶段就进行优化。但现有的集成电路版图是基于固定栅长的标准单元进行设计的，在设计时，参数的微小变化都要手工调整整个标准单元版图，这制约了优化参数的物理版图设计的自动化实现，难以通过对物理版图中局部或整体的栅长的调整实现集成电路功耗的降低。

发明内容

本发明实施例提供一种栅长可调的标准单元版图设计方法及装置，通过坐标值的调整实现可调栅长的标准单元版图设计，减小器件的泄漏电流，降低整个电路的静态功耗。

为实现上述目的，本发明实施例提供了如下技术方案：

一种可调栅长的标准单元版图设计方法，包括：

提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅图形沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；

对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，以待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，对于每一条待调整的栅图形进行调整的步骤包括：

将栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及将在第一坐标轴中位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将在第一坐标轴中位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

可选地，依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整。

可选地，按照栅图形的第一坐标值依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整。

可选地，所有待调整的栅图形的待调整边为同一边。

可选地，对版图中的多条栅图形的栅长进行调整，从位于第一坐标轴中部的一条掩膜图形的位置为起点，同时对该起点两侧的待调整的栅图形进行调整，且其一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为一边，另一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为另一边。

一种可调栅长的标准单元版图设计装置，包括：

版图提供单元，用于提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；

栅长调整单元，用于对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，栅长调整单元包括：待调整的栅图形变动单元，用于将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及，其他掩膜图形调整单元，用于将位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点：

本发明实施例的可调栅长的标准单元版图设计方法和装置，在固定栅长的标准单元的集成电路设计版图的基础上，通过对标准单元版图中的局部的栅图形的从栅图形的某一边进行第一坐标值的变化(增加或减小)，同时对其他掩膜图形第一坐标值变化相应的值，在栅长可调整的版图设计自动化实现同时，实现了通过调整版图中的栅长降低电路功耗的目的。

附图说明

通过附图所示，本发明的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。

图1为本发明的可调栅长的标准单元版图设计方法的流程图；

图2为本发明实施例的具有固定栅长的标准单元的版图的示意图；

图3为对本发明实施例的标准单元版图调整前后对比示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

正如背景技术中的描述，在集成电路设计中，低功耗是目前芯片设计追求的目标，尤其是器件尺寸进一步减小后，泄漏电流引起的静态功耗在总体功耗中占据了主要的地位，而目前多是从器件设计或功能电路设计上来减小静态功耗的，而随着对功耗要求的进一步提高，需要更进一步的方法来减小整体电路的功耗。

为了降低电路的功耗，可以在电路设计以及版图设计阶段中来考虑功耗降低的问题，在集成电路版图设计阶段，可以通过增加栅长来降低电路中的泄漏电流，但现有的集成电路版图是基于固定栅长的标准单元进行设计的，在设计时，参数的微小变化都要手工调整整个版图，这制约了优化参数的物理版图设计的自动化实现，难以通过对物理版图中局部或整体的栅长的调整实现集成电路功耗的降低。

为此，本发明提出了一种可调栅长的标准单元版图设计方法，包括：

提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅图形沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；

对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，以待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，对于每一条待调整的栅图形进行调整的步骤包括：将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及

将在第一坐标轴中位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将在第一坐标轴中位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

在本发明中，将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，以及将位于第一坐标轴上不同区域的掩膜图形的第一坐标值变化了不同的数值，来实现栅长的可调整。

其中，第一坐标值上的不同区域由待调整的栅图形的待调整边和固定边来划分的，也就是说，栅图形的待调整边和固定边将整个坐标轴划分为三个区域，即固定边旁侧、待调整边与固定边之间以及待调整边旁侧，参考图2所示，以此图例中的坐标轴进行举例说明，若待调整栅为210-1，待调整边为214，固定边为212，那么，固定边旁侧200a为待调整栅210-1的固定边212左侧的所有版图区域，待调整边与固定边之间200b为待调整栅210-1的固定边212与待调整边214之间的所有版图区域，待调整边旁侧200c为待调整栅210-1的待调整边214右侧的所有版图区域，其他掩膜图形指除该待调整的栅图形之外的版图中的掩膜图形。

其中，所述变化指增加(加号操作)或者减小(减号操作)，这取决于在第一坐标轴中待调整边的第一坐标值与固定边的第一坐标值的大小关系，当待调整边的第一坐标值大于固定边的第一坐标值时，是将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值增加ΔL，以及将其他的掩膜图形的第一坐标值增加相应的数值(ΔL或ΔL/2)；当待调整边的第一坐标值小于固定边的第一坐标值时，是将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值减小ΔL，以及将其他的掩膜图形的第一坐标值减小相应的数值(ΔL或ΔL/2)，从而实现栅长的变化及其他掩膜图形的相应调整。

在本发明中，从待调整栅的一边对栅长进行变化，这样，通过在待调整边的第一坐标值加减相应数值ΔL，即可使其栅长变化ΔL的绝对值，同时，通过将位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值加减ΔL/2以及将位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值加减ΔL，即可实现其他掩膜图形相对于待调整的栅图形的相对位置关系不变，因此，在栅长可调整的版图设计的自动化实现的同时，还实现了通过调整版图中的栅长降低电路功耗的目的。

需要说明的是，在本发明中，对待调整的栅图形的栅长的调整并不只限于栅长的增加，还可以为栅长的减小，比如，在栅长增加一定的长度后，并没有达到设计目标，还需要将其调整回来一部分，则需要对栅长进行减小，也就是说，上述ΔL可以为正数或者负数，这样，在将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值增加ΔL后，待调整的栅图形的栅长变化ΔL的绝对值，也就是说，ΔL为正数时，栅长会增加ΔL，ΔL为负数时，栅长减小ΔL的绝对值。

具体地说，若确定的待调整边的第一坐标值大于固定边的第一坐标值，若ΔL＞0，则为，待调整边的第一坐标值加上ΔL，其他掩膜图形的第一坐标值加上ΔL或ΔL/2，这样，调整后，待调整的栅图形的栅长增加了ΔL，相应地，若ΔL＜0，调整后，待调整的栅图形的栅长减少了ΔL的绝对值；若确定的待调整边的第一坐标值小于固定边的第一坐标值，若ΔL＞0，则为，待调整边的第一坐标值减去ΔL，其他掩膜图形的第一坐标值减去ΔL或ΔL/2，这样，调整后，待调整的栅图形的栅长增加了ΔL，相应地，若ΔL＜0，调整后，待调整的栅图形的栅长减少了ΔL的绝对值。

通常地，在集成电路设计中，集成电路设计版图有多个标准单元组成，各个标准单元通常对应不同的功能模块电路，在本发明中，是针对标准单元的版图，对已经具有固定栅长的标准单元的版图中一条、多条或者甚至全部的栅长进行的调整。

在本发明中，是从待调整栅图形的单边进行调整的，也就是说，从待调整栅图形的一边沿着栅长的方向变动ΔL，这样，在对一条栅图形的栅长变动后，对于位于该栅图形固定边旁侧的掩膜图形的所有顶点的坐标无需变动，而在标准单元版图设计中，通常地，栅长都是沿同一个方向设置的，只需对位于该栅图形固定边与待调整边之间以及待调整边旁侧的掩膜图形的所有顶点在栅长所在的坐标轴进行调整，即可保持该栅图形与该栅图形之外的其他掩膜图形的相对位置不变，此处待调整栅与其他掩膜图形的相对位置关系指图形之间原有的相对位置，具体地，对于相互间隔掩膜图形，指相互之间的间隔距离，对于相互连接的掩膜图形，指相互之间的连接关系，对于相互重叠的掩膜图形，指掩膜图形中心轴线之间的间距。此处的调整结果，包括整个掩膜图形的平移和拉伸，对于所有顶点都位于该栅图形固定边与调整边之间以及待调整边旁侧的掩膜图形，平移之后便可保持原有的相对位置不变，对于部分顶点在固定边旁侧、部分顶点在固定边与待调整边之间或待调整边旁侧的掩膜图形，固定边旁侧的顶点不发生变化，只有固定边与待调整边之间或待调整边旁侧的顶点进行变化，则变化后，整个掩膜图形相当于被拉伸一定长度。

在本发明中，当需要对多条栅图形进行调整时，可以依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整，也可以将版图分块后同时对不同块的版图中的栅图形的栅长进行调整。对于依次调整的实施例，例如，可以按照栅图形的第一坐标值，即栅图形在栅长方向的坐标轴中的坐标值，依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整，次序可以是沿坐标值增大或减小的方向，优选地，所有待调整的栅图形的待调整边为同一边。对于同时调整的实施例，例如，从位于第一坐标轴中部的一条掩膜图形的位置为起点，同时对该起点左右两边的待调整的栅图形进行调整，且其一边的所有待调整的栅图形的待调整边为一边(例如为第一边)，另一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为另一边(例如为第二边)，这样，可以从两边同时进行调整，且各自朝一个方向进行，互不干扰，提高了调整效率，节省版图设计时间。此处调整次序的方法，仅为示例，本发明并不限于此。

以上为本发明的可调栅长的标准单元版图设计方法，在固定栅长的标准单元集成电路设计版图的基础上，通过对版图中的局部的栅图形的从栅图形的某一边进行第一坐标值的变化，同时对其他掩膜图形第一坐标值变化相应的值，在栅长可调整的版图设计自动化实现同时，实现了通过调整版图中的栅长降低电路功耗的目的。

为了更好地理解本发明的技术方案和技术效果，以下将结合本发明的流程图从具体的实施例进行详细的说明。

图1为本发明的版图设计方法的流程图。

首先，提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅图形沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向。

参考图2所示，为具有固定栅长的标准单元的版图的实施例的示意图，在该实施例的标准单元的版图中，具有栅图形(210-1、210-2)、栅图形两侧的金属掩膜图形(220-1、220-2、220-3)、横跨栅图形的金属掩膜图形(230-1、230-2)、栅两侧的接触孔掩膜图形(240-1、240-2、240-3)、栅图形上的接触孔掩膜图形(250-1、250-2)以及金属掩膜图形之间的连接通孔掩膜图形(260-1、260-2)，这些掩膜图形为版图中的不同掩膜层内的图形，此处版图中的图形的种类、数量及排布仅是为了便于说明，本发明中所述的版图并不限于此。

通常地，具有固定栅长的标准单元的版图可以由专用的版图软件形成，可以存放在专用的数据库中，如OA、MILKWAY等，或者存放在专用格式的文件中，如LEF/DEF、GDSII等，可以采用对应的程序接口函数实现对标准单元版图数据的读入。

对于版图中的掩膜图形，通常地都具有相应的二维坐标值，其中一个坐标为栅长方向的坐标，另一个为与栅长正交的坐标，在本实施例中，以栅长方向为第一坐标轴，即为X轴，原点在标准单元的左下角。

而后，对版图中的至少一条栅图形进行调整。

对于版图中的栅图形，通常为长条形，此实施例中，X轴方向即为栅长的方向，参考图2所示，栅图形210-1、210-2的第一边212与第二边214相对，第一边212和第二边214的方向为沿与第一坐标轴X轴相正交的方向，并以待调整的栅图形210-1的第二边214为待调整边，第一边212为固定边，待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值大于固定边的第一坐标值。

在本实施例中，以待调整的栅图形为栅图形210-1进行说明。

这样，第一坐标轴X轴上，待调整边和固定边将X轴分成了三个区域，将待调整边和固定边将除待调整栅图形210-1之外其他的掩膜图形分成四类：固定边212旁侧的第一类掩膜图形300、待调整边214旁侧的第二类掩膜图形400、固定边212与待调整边214之间的第三类掩膜图形(如图例中的接触孔掩膜250-1)以及横跨待调整的栅图形210-1的第四类掩膜图形(如图例中的金属掩膜图形230-1、230-2)，此处的横跨待调整的栅图形210-1是指其掩膜图形的顶点并不是全都落在固定边或待调整边的旁侧，而是部分顶点落在了固定边和待调整边确定的不同的区域内，例如此实施例中金属掩膜图形260-1的部分顶点落在了固定边212旁侧，另一部分的顶点落在了待调整边214的旁侧。

对每一条待调整的栅图形进行调整的步骤具体包括：

首先，进行待调整的栅图形210-1栅长的增加及其他掩膜图形的调整，在本发明中，对栅长的变化的步骤及其他掩膜图形的调整的步骤的顺序不做限制，可以先进行其他掩膜图形的调整，再进行栅长的增加，也可以反之

具体地，在此实施例中，将栅图形210-1的待调整边214的第一坐标值增加ΔL，此实施例中，ΔL为一个正值，将栅图形210-1待调整边214的X轴坐标值增加ΔL，即将待调整边214的所有顶点的X轴坐标值增加ΔL，这样，待调整边214的所有顶点移动了ΔL，相当于栅图形210-1的栅长增加了ΔL。

并且，将在X轴中位于待调整的栅图形210-1的待调整边214与固定边212之间的其他掩膜图形的顶点的X轴坐标值增加ΔL/2，以及将在X轴中位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的X轴坐标值增加ΔL，而对于位于固定边旁侧的其他掩膜图形的顶点的X轴坐标值保持不变，所有掩膜图形的其他坐标值保持不变，例如Y轴的坐标值，即可实现其他掩膜图形与待调整的栅图形210-1的相对位置保持不变。

在本实施例中，位于待调整的栅图形210-1的待调整边214与固定边212之间的其他掩膜图形的顶点为接触孔掩膜图形250-1的所有顶点，位于待调整边214旁侧的其他掩膜图形的顶点为栅图形210-2、金属掩膜图形(220-2、220-3)、接触孔掩膜图形(240-2、240-3)、连接通孔掩膜图形260-2和栅图形上的接触孔掩膜图形250-2的所有顶点以及横跨栅图形的掩膜图形(230-1、230-2)落在待调整边214旁侧所有顶点，位于栅图形210-1固定边212旁侧的顶点为金属掩膜图形220-1、接触孔掩膜图形240-1和连接通孔掩膜图形260-1的所有顶点以及横跨栅图形的掩膜图形(230-1)落在固定边212旁侧的所有顶点。通过将不同部分的顶点的X轴坐标值增加相应的数值，实现不同类别的掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

在该实施例中，在进行了待调整的栅图形210-1的调整之后，如图3所示，对于第一类掩膜图形300保持原有的坐标值不变，其与栅图形210-1’的固定边212’的间隔保持不变；对于第二类掩膜图形400的所有顶点的X轴坐标值增加ΔL，调整后的第二类掩膜图形400’相对于栅图形210-1’的待调整边214’的间隔保持不变；对于第三类掩膜图形，如实施例中的接触孔掩膜图形250-1，其中心轴线与待调整栅图形210-1的中心轴线是重合的，将其所有顶点的X轴坐标值增加了ΔL/2后，接触孔掩膜图形250-1’的中心轴线仍与调整后的栅图形210-1’的中心轴线重合，调整后保持了接触孔掩膜图形250-1’与栅图形210-1’他们之间的相对位置；对于第四类掩膜图形，如实施例中的金属掩膜图形230-1、230-2，其位于待调整的栅图形210-1的固定边212一侧的所有顶点的坐标值保持不变，位于待调整边214一侧的所有顶点的X轴坐标值增加ΔL，使金属掩膜图形230-1、230-2向待调整的栅图形210-1’的调整方向拉伸了ΔL，这样，保持了金属掩膜图形230-1’、230-2’相对于调整后的栅图形210-1’的第二边214’的间隔保持不变，即保持了金属掩膜图形230-1’与金属掩膜图形(220-1’、220-2’)的连接关系以及金属掩膜图形230-2’与栅图形(210-1’、210-2’)的连接关系。

需要说明的是，上述固定边旁侧包含第一坐标轴X轴坐标值相等和小于固定边的X轴坐标值的顶点，待调整边旁侧包含第一坐标轴X轴坐标值相等和大于待调整边边的X轴坐标值的顶点。

至此，完成了一条待调整的栅图形210-1的调整，而后，根据需要，可以依照上述方法，对下一条栅图形210-2进行调整，对于每一条栅图形的调整，也可以重复多次上述的步骤，从而达到预定的调整目的，在所有需要调整的栅图形调整完毕后，输出调整完毕的版图为该标准单元的版图。

同理，也可以按照上述方法，按照先调整栅图形210-2，而后调整栅图形210-1的顺序，并优选第一边212为待调整边，依次进行调整。同理，还可以按照上述方法，也可以从金属掩膜图形220-2将版图分成左右两部分，左边第一部分的栅图形210-1的待调整边为212，右边第二部分的栅图形的待调整边为214，同时对这两部分中的栅图形进行调整，提高调整效率。

以上对本发明具体实施例的栅长可调的版图设计方法进行了详细的描述，以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制。可以理解的是，其版图中的掩膜图形仅为示例，本发明并不限于此。

此外，本发明还提供了一种实现上述方法的栅长可调的标准单元版图设计装置，包括：

版图提供单元，用于提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；

栅长调整单元，用于对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，栅长调整单元包括：

待调整的栅图形变动单元，用于将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及，

其他掩膜图形调整单元，用于将位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将位于待调整边一侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

虽然本发明已以较佳实施例披露如上，然而并非用以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (6)

1.一种栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，包括：

提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅图形沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；

对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，以待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，对于每一条待调整的栅图形进行调整的步骤包括：

将栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及将在第一坐标轴中位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将在第一坐标轴中位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

2.根据权利要求1所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整。

3.根据权利要求1所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，按照栅图形的第一坐标值依次对版图中的多条栅图形的栅长进行调整。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，所有待调整的栅图形的待调整边为同一边。

5.根据权利要求1所述的栅长可调的标准单元版图设计方法，其特征在于，对版图中的多条栅图形的栅长进行调整，从位于第一坐标轴中部的一条掩膜图形的位置为起点，同时对该起点两侧的待调整的栅图形进行调整，且其一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为一边，另一侧的所有待调整的栅图形的待调整边为另一边。

6.一种栅长可调的标准单元版图设计装置，其特征在于，包括：

版图提供单元，用于提供具有固定栅长的标准单元的版图，版图内的栅沿同一方向设置，版图的第一坐标轴沿栅长方向；

栅长调整单元，用于对版图中的至少一条栅图形的栅长进行调整，栅图形具有第一边和与其相对的第二边，第一边和第二边的方向为沿与第一坐标轴正交的方向，待调整的栅图形的第一边或第二边为待调整边，另一边为固定边，其中，栅长调整单元包括：待调整的栅图形变动单元，用于将待调整的栅图形的待调整边的第一坐标值变化ΔL，使其栅长变动ΔL的绝对值；以及，其他掩膜图形调整单元，用于将位于待调整边与固定边之间的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL/2，以及将位于待调整边旁侧的其他掩膜图形的顶点的第一坐标值变化ΔL，使其他掩膜图形与待调整的栅图形的相对位置保持不变。

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