CN102641865A - 一种清洗雾化喷射装置 - Google Patents
一种清洗雾化喷射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102641865A CN102641865A CN2012101276927A CN201210127692A CN102641865A CN 102641865 A CN102641865 A CN 102641865A CN 2012101276927 A CN2012101276927 A CN 2012101276927A CN 201210127692 A CN201210127692 A CN 201210127692A CN 102641865 A CN102641865 A CN 102641865A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- jetting device
- cleaning
- coupling layer
- atomization jetting
- casing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210127692.7A CN102641865B (zh) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 一种清洗雾化喷射装置 |
TW102103617A TWI505878B (zh) | 2012-04-26 | 2013-01-31 | 一種清洗霧化噴射裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210127692.7A CN102641865B (zh) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 一种清洗雾化喷射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102641865A true CN102641865A (zh) | 2012-08-22 |
CN102641865B CN102641865B (zh) | 2014-03-05 |
Family
ID=46655088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210127692.7A Active CN102641865B (zh) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 一种清洗雾化喷射装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102641865B (zh) |
TW (1) | TWI505878B (zh) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103071638A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 雾化清洗装置和方法 |
CN104841660A (zh) * | 2015-05-21 | 2015-08-19 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 气液两相雾化清洗装置及清洗方法 |
CN105185734A (zh) * | 2015-08-28 | 2015-12-23 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 一种晶圆湿法腐蚀清洗装置 |
CN108906462A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-11-30 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 一种用于半导体湿法工艺设备的液体雾化装置 |
CN111278209A (zh) * | 2018-12-04 | 2020-06-12 | 南亚科技股份有限公司 | 连接组件 |
CN113134434A (zh) * | 2020-01-17 | 2021-07-20 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 晶圆表面颗粒清洗喷嘴 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001096243A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-04-10 | Toshiba Corp | 超音波ノズルユニットとそれを用いた超音波処理装置及び超音波処理方法 |
RU2232647C2 (ru) * | 2002-02-22 | 2004-07-20 | ГНЦ РФ ГУП "Акустический институт им. акад. Н.Н. Андреева" | Пневмоакустический распылитель жидкости |
WO2004075706A1 (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-10 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 超音波洗浄装置 |
JP2004260099A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 処理流体供給装置およびこれを適用した基板処理装置、ならびに基板処理方法 |
CN102327883A (zh) * | 2011-10-10 | 2012-01-25 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 兆声波清洗头及具有该清洗头的兆声波清洗系统 |
CN202700856U (zh) * | 2012-04-26 | 2013-01-30 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种清洗雾化喷射装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7946299B2 (en) * | 2006-05-08 | 2011-05-24 | Akrion Systems, Llc | Spray jet cleaning apparatus and method |
-
2012
- 2012-04-26 CN CN201210127692.7A patent/CN102641865B/zh active Active
-
2013
- 2013-01-31 TW TW102103617A patent/TWI505878B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001096243A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-04-10 | Toshiba Corp | 超音波ノズルユニットとそれを用いた超音波処理装置及び超音波処理方法 |
RU2232647C2 (ru) * | 2002-02-22 | 2004-07-20 | ГНЦ РФ ГУП "Акустический институт им. акад. Н.Н. Андреева" | Пневмоакустический распылитель жидкости |
WO2004075706A1 (ja) * | 2003-02-25 | 2004-09-10 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 超音波洗浄装置 |
JP2004260099A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 処理流体供給装置およびこれを適用した基板処理装置、ならびに基板処理方法 |
CN102327883A (zh) * | 2011-10-10 | 2012-01-25 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 兆声波清洗头及具有该清洗头的兆声波清洗系统 |
CN202700856U (zh) * | 2012-04-26 | 2013-01-30 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种清洗雾化喷射装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103071638A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-05-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 雾化清洗装置和方法 |
CN104841660A (zh) * | 2015-05-21 | 2015-08-19 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 气液两相雾化清洗装置及清洗方法 |
CN104841660B (zh) * | 2015-05-21 | 2017-03-15 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 气液两相雾化清洗装置及清洗方法 |
CN105185734A (zh) * | 2015-08-28 | 2015-12-23 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 一种晶圆湿法腐蚀清洗装置 |
CN105185734B (zh) * | 2015-08-28 | 2017-09-19 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 一种晶圆湿法腐蚀清洗装置 |
CN108906462A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-11-30 | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 一种用于半导体湿法工艺设备的液体雾化装置 |
CN111278209A (zh) * | 2018-12-04 | 2020-06-12 | 南亚科技股份有限公司 | 连接组件 |
CN113134434A (zh) * | 2020-01-17 | 2021-07-20 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 晶圆表面颗粒清洗喷嘴 |
CN113134434B (zh) * | 2020-01-17 | 2024-03-29 | 上海芯源微企业发展有限公司 | 晶圆表面颗粒清洗喷嘴 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102641865B (zh) | 2014-03-05 |
TW201402235A (zh) | 2014-01-16 |
TWI505878B (zh) | 2015-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102641865B (zh) | 一种清洗雾化喷射装置 | |
TWI573629B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
TW201720538A (zh) | 二相流霧化噴射清洗裝置 | |
US10090189B2 (en) | Substrate cleaning apparatus comprising a second jet nozzle surrounding a first jet nozzle | |
US11504727B2 (en) | Spray device and cleaning apparatus | |
TW200703482A (en) | Method and apparatus for cleaning electronic device | |
CN203355935U (zh) | 一种二流体喷管组件以及运用此组件的二流体蚀刻装置 | |
CN202700856U (zh) | 一种清洗雾化喷射装置 | |
JP2018101790A (ja) | 基板洗浄装置および基板処理装置 | |
KR101499681B1 (ko) | 기판 세정 장치의 챔버 배열 구조 | |
JP2012209513A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
CN102873020B (zh) | 兆声波换能器的连接盖 | |
KR102570224B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
CN109013544A (zh) | 一种喷淋式高频超声波清洗装置 | |
CN208944741U (zh) | 一种喷淋式高频超声波清洗装置 | |
CN209379568U (zh) | 一种超声波清洗设备及超声波清洗系统 | |
JPH08197025A (ja) | 洗浄用スプレイノズル及び洗浄方法 | |
KR102105950B1 (ko) | 웨이퍼 세정용 멀티 노즐 | |
JP2006272210A (ja) | 霧化洗浄装置 | |
CN202909926U (zh) | 兆声波换能器的连接盖 | |
JP7437499B2 (ja) | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 | |
US20080163891A1 (en) | Method and apparatus of multi steps atomization for generating smaller diw dropplets for wafer cleaning | |
CN103071638B (zh) | 雾化清洗装置和方法 | |
CN110624893B (zh) | 一种兆声波组合气体喷雾清洗装置及其应用 | |
Seike et al. | Analysis of Polyethylene Latex Particle Removal Mechanism on SiO2 Wafer Using Ultrasonic Spray Cleaning |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 100015 floor 2, No. M2, No. 1, Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Beijing Patentee after: North China Science and technology group Limited by Share Ltd. Address before: 100015 floor 2, No. M2, No. 1, Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Beijing Patentee before: BEIJING SEVENSTAR ELECTRONIC Co.,Ltd. |
|
CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20180316 Address after: 100176 Wenchang avenue of Beijing economic and Technological Development Zone, Beijing, Beijing Patentee after: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT Co.,Ltd. Address before: 100015 floor 2, No. M2, No. 1, Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Beijing Patentee before: North China Science and technology group Limited by Share Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right |