CN102633271A - 一种沉淀二氧化硅的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种沉淀二氧化硅的制备方法,它是以可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和碳酸氢盐MHCO3为原料,以M2O·nSiO2和MHCO3的摩尔比为1∶2.0~2.3进行反应,沉淀出水合SiO2,经过滤分去滤液,滤饼再经洗涤、干燥得到沉淀二氧化硅产品;所述滤液中主要含有碳酸盐M2CO3和少量的碳酸氢盐MHCO3;所述M为碱金属元素Na或K,n为其模数。由于滤液中主要含有碳酸盐M2CO3和少量的碳酸氢盐MHCO3,可以通过不同的处理方式获得反应原料,可循环使用,降低了制造成本,同时少消耗资源,减少排放,减少对环境的损害,避免了现有技术需消耗大量无机酸,引起环境污染等问题。
Description
技术领域
本发明涉及一种制取沉淀二氧化硅的方法,属于化工技术领域。
背景技术
沉淀二氧化硅又叫白炭黑、沉淀白炭黑,是一种水合无定形硅酸产品,化学表达式一般为mSiO2·nH2O,外观为白色高度分散的无定形粉末,少量也有加工成颗粒状作为商品的。不溶于水及大部分酸,能溶于苛性钠和氢氟酸,对其他化学药品稳定,耐高温,高温下不分解、不燃烧,具有很高的电绝缘性、多孔性,内表面积大、有吸水性,无毒。
沉淀二氧化硅的用途很广,作为合成橡胶的良好补强剂,其性能等同甚至优于炭黑,其他有用作稠化剂或增稠剂,油漆的消光剂,各种合成树脂和塑料制品的填充剂、改性剂,在造纸行业作填充剂和纸的表面配料,等等。
关于沉淀二氧化硅的生产,成都科技大学出版社1994年5月发行的《硅化合物的生产与应用》((川)新登字015号)第216-219页较祥细的介绍了现行的几种主要生产工艺。沉淀二氧化硅主要是通过下述反应制取的:
Na2O·nSiO2+H2SO4+(nx-1)H2O→nSiO2·xH2O↓+Na2SO4
Na2O·nSiO2+2HCl+(nx-1)H2O→nSiO2·xH2O↓+2NaCl
所以,无论用哪种方法,除了消耗作为硅源的硅酸钠外,还需消耗一定量的硫酸或盐酸,当用盐析工艺时,另需消耗一定量的氯化钠。
该书中列出了相应的消耗定额,每生产1吨沉淀二氧化硅,除消耗相应硅酸钠外,还需消耗:
溶胶法:30%盐酸:1.5吨;
酸-盐析法:NaCl:0.275吨;
30%盐酸:1.15吨;
凝胶化法:98%硫酸:0.7吨。
除了相应酸、盐的消耗,另一个不容忽视的问题是,当反应完成后,这些酸会生成相应的无机盐NaCl和Na2SO4,因此,在压滤、洗涤过程中,会产生大量的含盐含酸废水,由于浓度及工艺费用等方面的因素,这些含盐含酸废水回收成本较高,回收物价值又不大,因此不可避免的会排放大量废水。
由于上述工艺需消耗大量无机酸,产生大量含盐含酸废水无法循环或回收利用,存在生产成本较高,同时引起环境污染等问题。
发明内容
针对上述问题,本发明拟解决的问题是提供一种除硅源(可溶性硅酸盐或石英砂)外,其他化学品能循环使用的制取沉淀二氧化硅的方法,以降低沉淀二氧化硅的制造成本,同时少消耗资源,减少排放,尽量减少对环境的损害。
为达到上述目的,本发明采用以下技术方案:一种沉淀二氧化硅的制备方法,它是以可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和碳酸氢盐MHCO3为原料,以M2O·nSiO2和MHCO3的摩尔比为1∶2.0~2.3进行反应,沉淀出水合SiO2,经过滤分去滤液,滤饼再经洗涤、干燥得到沉淀二氧化硅产品;所述滤液中主要含有碳酸盐M2CO3和少量的碳酸氢盐MHCO3;所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2、碳酸盐M2CO3、碳酸氢盐MHCO3中的M为碱金属元素Na或K,所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2中的n为其模数。
所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2的模数n,当M是碱金属元素Na时,n值在1.0~3.7,当M是碱金属元素K时,n值在于2.2~3.7。
所述过滤是采用真空过滤或压滤机过滤。所述干燥采用喷雾干燥、箱式干燥或气流干燥。所述箱式干燥后还进行了粉碎。
所述滤液中可以通入CO2,使滤液中的碳酸盐M2CO3生成MHCO3,循环作为制备沉淀SiO2的反应原料。
所述滤液也可以经浓缩后,通入CO2,生成碳酸氢盐MHCO3的饱和溶液与其结晶物的混合物,所述的浓缩是控制在使结晶的MHCO3占混合物中MHCO3的40~45%,然后过滤回收MHCO3固体,滤液作为制备沉淀SiO2的原料循环使用。
所述滤液还可以经浓缩至滤液中碳酸盐和碳酸氢盐部分结晶,得到饱和溶液与结晶物的混合物,然后将所述混合物与石英砂反应,生成可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和CO2,所述生成的可溶性硅酸盐M2O·nSiO2用于生成沉淀SiO2的反应原料,所述的浓缩控制在使混合物的含水量符合生产M2O·nSiO2的工艺要求。
采用上述技术方案,本发明的沉淀二氧化硅的制备方法,它是以可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和碳酸氢盐MHCO3为原料,进行反应,沉淀出水合SiO2,干燥得到沉淀二氧化硅产品。由于滤液中主要含有碳酸盐M2CO3和少量的碳酸氢盐MHCO3,滤液中碳酸盐M2CO3和少量的碳酸氢盐MHCO3可以通过不同的处理方式获得反应原料,因此除硅源(可溶性硅酸盐或石英砂)外,其他化学品能循环使用,与现有技术相比,降低了沉淀二氧化硅的制造成本,同时少消耗资源,减少排放,减少对环境的损害。避免了现有技术需消耗大量无机酸,会导致产生大量含盐含酸废水,引起环境污染等问题。
技术方案中还列举了一些对滤液不同的处理方式获得反应原料:
一是滤液中可以通入CO2,使滤液中的碳酸盐M2CO3生成MHCO3,循环作为制备沉淀SiO2的反应原料。
二是滤液也可以经浓缩后,通入CO2,生成碳酸氢盐MHCO3的饱和溶液与其结晶物的混合物,然后过滤回收MHCO3固体,滤液作为制备沉淀SiO2的原料循环使用。
三是滤液还可以经浓缩至滤液中碳酸盐和碳酸氢盐部分结晶,得到饱和溶液与结晶物的混合物,然后将所述混合物与石英砂反应,生成可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和CO2,所述生成的可溶性硅酸盐M2O·nSiO2用于生成沉淀SiO2的反应原料。
上述三种对滤液不同的处理来获得反应原料,在实际生产中,对不同生产状况可分别采用相应的处理方式,以取得最好的效果。按现行原料价格计算,与现有技术相比,采用本发明方法可降低沉淀二氧化硅产品生产成本30%以上。
下面对上述技术方案作些简要的分析。
先说一点,上述技术方案中所述的M为钠Na或钾K,由于Na与K同是碱金属元素,二者许多相应的化合物性能都很相近,同模数的Na2O·nSiO2和K2O·nSiO2其许多性能都很相似,其他Na2CO3与K2CO3其物理化学性能也都很相似,所以在下述的分析中主要是以M为Na作分析,对M为K的情形大致依次类推即可,或参考相应文献即可了解,如本专利前述之《硅化合物的生产与应用》。
下面先介绍下作为制备沉淀二氧化硅的主要原料硅酸钠。
硅酸钠,俗名水玻璃,商品名为泡化碱,分子式可写作:Na2O·nSiO2,n为SiO2与Na2O的摩尔比,常称为模数,一般硅酸钠产品的模数在1.0~4.0。
硅酸钠一般由Na2CO3与在高温下反应制得,其反应式为:
Na2CO3+nSiO2==Na2O·nSiO2+CO2
关于制取硅酸钠的工艺过程,前已提及的《硅化合物的生产与应用》第21~42页祥细论述了固相法生产硅酸钠的工艺,这也是本专利用回收的Na2CO3与石英砂(SiO2)反应制取硅酸钠采用的方法,所以这里不再细述。唯一的差异是本专利技术方案中回收的Na2CO3中,会另混有NaHCO3,但NaHCO3在生产初期升温阶段即分解为Na2CO3:
2NaHCO3==Na2CO3+H2O+CO2
所以混有NaHCO3的Na2CO3与SiO2的反应与常规反应无差别,需注意的只是在计算配料时2mol的NaHCO3等效于1mol的Na2CO3,同时在作热量平衡时也需作些相应考虑,即反应所用的燃料比全部用Na2CO3的要稍多。
硅酸钠极易与酸发生反应析出二氧化硅,前面已写了Na2O·nSiO2与H2SO4和HCl反应的方程式,但实际上,Na2O·nSiO2甚至能与NH4 +这样的弱酸(路易斯酸)反应:
Na2O·nSiO2+2NH4Cl+(nx-1)H2O→nSiO2·xH2O↓+2NaCl+2NH3
在这里,NH4 +是作为一个酸:
相类似的,Na2O·nSiO2也能与HCO3 -反应:
Na2O·nSiO2+NH4HCO3+(nx-1)H2O→nSiO2·xH2O↓+Na2CO3+NH3
Na2O·nSiO2+2NaHCO3+(nx-1)H2O→nSiO2·xH2O↓+2Na2CO3
这是本发明的反应原理。
当用NaHCO3使Na2O·nSiO2中SiO2析出后,经过滤、洗涤、干燥即可得到沉淀二氧化硅产品,这些工艺过程完全等同于现行沉淀二氧化硅生产工艺,具体可参见《硅化合物的生产与应用》第216-219页相关工艺。另需补充几点:
1,过滤设备:原则上压滤机过滤,真空过滤设备等现有过滤设备均可使用,但考虑到洗涤效果,特别是洗涤过程中的节水等因素,所以使用隔膜式压滤机效果会更好。
2,洗涤用水可直接用自来水,也可用含少量NH4HCO3的自来水,这是由于水合SiO2表面有吸附性,容易吸附大量的Na+或K+离子,单纯用水不易洗净。利用NH4 +离子的交换作用可提高洗涤的效果。而后期可考虑用少量稀H2SO4或稀HCl浸泡、洗涤,一方面可以促进凝胶老化,另主要的方面是可以使产品带微酸性,以满足橡胶等行业的需要。然后再用自来水洗涤,一般洗至洗水PH值在6~7即可。当然,这些过程均可在过滤机内完成。
3,当过滤分去含SiO2沉淀后,滤液主要含Na2CO3和末反应部分的NaHCO3,这时可有多种方案回收这些Na2CO3和NaHCO3供重复循环使用,如可在滤液中通CO2反应生成NaHCO3,生成的NaHCO3溶液可作为与Na2O·nSiO2反应的原料循环使用。也可直接浓缩回收Na2CO3产品,至能符合与石英砂反应的要求(主要是含水量)时送去生产Na2O·nSiO2。只与常规工艺相比,这个浓缩液与SiO2反应会涉及到NaHCO3的分解:
2NaHCO3=Na2CO3+H2O+CO2
这里生成的Na2CO3即是制备硅酸钠的原料,生成的CO2可用于由Na2CO3生成NaHCO3的反应原料。另外,在由Na2CO3制取硅酸钠时,由燃料燃烧产生的CO2也可同步回收,以补充过程中CO2的损耗或不足。
滤液的另一种处理方案是:先初步浓缩,或不经浓缩(根据浓度),通入CO2,使生成的NaHCO3饱和部分从溶液中部分析出,过滤回收析出部分NaHCO3,余NaHCO3溶液循环回用于与Na2O·nSiO2的沉淀反应。NaHCO3的析出是利用了二者的溶解度差。Na2CO3与NaHCO3的溶解度比较如下(g/100g水):
温度 | 0℃ | 10℃ | 20℃ | 30℃ | 40℃ |
Na2CO3 | 7.1 | 12.5 | 21.5 | 39.7 | 49.0 |
NaHCO3 | 6.9 | 8.1 | 9.6 | 11.1 | 12.7 |
在常温(20℃~30℃左右)能利用Na2CO3与NaHCO3的溶解度差使NaHCO3从溶液中析出,这样可简化回收NaHCO3的工艺过程。
得到的NaHCO3可作为产品回收,也可热分解得到Na2CO3和CO2,CO2循环用于生成NaHCO3。NaHCO3热分解工艺可参考化学工业出版社会学1981年12月出版的《无机物工艺学(下)》(统一书号15063.3244(K-246))第351-361页相关内容。NaHCO3也可直接用作生产Na2O·nSiO2的原料。
4,再补充一点,滤饼的洗涤液中也可回收Na2CO3和NaHCO3,特别是前期的洗液,这样可进一步减少循环原料的损耗和废液的排放。洗涤液可与滤液混合使用,也可先经浓缩,浓缩可优先使用反渗透工艺,浓缩后的洗液循环回用工艺与滤液的基本一致。
根据以上说明可知,本发明仅以石英砂为原料,Na2O·nSiO2、Na2CO3、NaHCO3和CO2均可循环使用,即只要适时补充部分Na2CO3或CO2的损耗即可使工艺连续稳定进行,不仅大大减少了沉淀二氧化硅的制造成本,也大幅减少了含盐含酸废水和CO2的排放,而且整个生产工艺、设备与原制造工艺基本未变,不会增加固定资产的投入,工艺优势十分明显。
使用K2O·nSiO2、K2CO3、KHCO3的循环也基本相同。
具体实施方式
从前面的说明可知,本发明制取沉淀二氧化硅工艺大致可按下述三个反应(过程)串联配合组成:
(1)主反应:由Na2O·nSiO2/K2O·nSiO2与相应碳酸氢盐反应得到水合SiO2凝胶(或沉淀),然后经过滤、洗涤、干燥、(粉碎)、包装得到沉淀二氧化硅产品。
(2)主反应后过滤滤液的处理;
(3)石英砂与Na2CO3/K2CO3反应生成Na2O·nSiO2/K2O·nSiO2的反应。
本发明工艺技术可以由上述三个反应(过程)组成一个完整的工艺过程,也可以除主反应(过程)(1)之外,对辅助反应(过程)选择用或不用,例如,选择只进行(1)、(2),即在再生、回收部分NaHCO3/KHCO3或Na2CO3/K2CO3后,不再进行硅酸钠/硅酸钾的生成过程。另,在同一个反应过程中可能有多种实施方式,而在实际生产中,可据生产实际选择其中一种生产工艺,然后与另一个过程中的某一个组合,即可组成一个完整的工艺过程,所以,为更好的说明其工艺过程,将以上述三个反应(过程)分别举例说明。另说明一下,对相应工艺,与传统(或现行)工艺相同或相似的,这里将只作简单的说明,并尽量列出相应参考文献。
(一)主反应
实施例1
取一种波美度为37°Be’(20℃,下同)的硅酸钠,加入4倍量(重量,下同)的水稀释、过滤,测得稀释液含SiO2%=5.0%,Na2O%=1.4%,其模数n=3.7,称取该稀溶液600g,在搅拌下与600g3.8%的NaHCO3溶液混合(反应摩尔比为1∶2.0),至检验液相中基本无SiO2,继续搅拌约20分钟,过滤,用清水洗涤沉淀,至洗水近中性,沥干,在烘箱中干燥,再粉碎,可得到成品沉淀二氧化硅约27.5g。
实施例2
取一种波美度为40°Be′的硅酸钠,加入3倍量的水稀释、过滤,测得稀释液含SiO2%=7.3%,Na2O%=2.3%,其模数n=3.3,称取该稀硅酸钠溶液400g,在搅拌下与450g含6.1%的NaHCO3溶液混合(反应摩尔比为1∶2.2),至检验液相中基本无SiO2,继续搅拌约20分钟,过滤,用清水洗涤沉淀,至洗水近中性,沥干,在烘箱中干燥,再粉碎,可得到成品沉淀二氧化硅约28.0g。
实施例3
取一种波美度为50°Be′的硅酸钠,加入4倍量的水稀释、过滤,测得稀释液含SiO2%=5.8%,Na2O%=2.6%,其模数n=2.3,称取该种稀硅酸钠溶液500g,在搅拌下与500g含7.4%的NaHCO3溶液混合(反应摩尔比为1∶2.1),至检验液相中基本无SiO2,继续搅拌约20分钟,过滤,用清水洗涤沉淀,至洗水近中性,沥干,在烘箱中干燥,再粉碎,可得到成品沉淀二氧化硅约27.5g。
实施例4
取一种偏硅酸钠Na2SiO3·9H2O产品,加水溶解、过滤,测得其SiO2%=3.1%,Na2O%=3.2%,其模数n=1.0,称取该种溶液600g,在搅拌下与900g含6.6%的NaHCO3溶液混合(反应摩尔比为1∶2.3),至检验液相中基本无SiO2,继续搅拌约20分钟,过滤,用清水洗涤沉淀,至洗水近中性,沥干,在烘箱中干燥,再粉碎,可得到成品沉淀二氧化硅约17g。
实施例5
按实施例1~3,用相近模数的硅酸钾代换硅酸钠,用KHCO3代换NaHCO3,按相近的量和摩尔浓度,不改变其他条件和工艺过程,同样可得到相似重量的沉淀二氧化硅产品,滤液的摩尔浓度也基本一致。
实施例6
按实施例1~5,在用洗水洗涤沉淀后,用0.01~0.1M的稀H2SO4或稀HCl洗涤SiO2沉淀几遍,沥干老化后用少量清水洗净,再去干燥、粉碎,也可得到沉淀二氧化硅产品。
在实施例1~6中,SiO2含水沉淀的洗涤、干燥、粉碎均是按实验室的仪器、设备和过程进行的,在实际生产中,洗涤沉淀可以用真空过滤或压滤机过滤,例如用隔膜压滤技术洗涤节水效果较好。干燥过程可采用静态干燥如厢式干燥器,但这样之后需采用粉碎机粉碎至相应细度,粉碎过程可以用气流粉碎或高速涡流粉碎机粉碎,也可以准静态微粉磨粉碎,但更好的是采用喷雾干燥,可不再进行粉碎直接送去包装。
(二)辅助反应(过程):滤液的回用
实施例7
在实施例1过滤滤出SiO2沉淀后,得到含Na2CO3的滤液约900g,通CO2反应,检测NaHCO3含量为3.8%,基本上与该实施例前配制的NaHCO3溶液浓度一致,重量也比原加入的600g多,足以循环使用。
实施例8
在实施例2过滤滤去SiO2沉淀后,得到含Na2CO3和部分NaHCO3的滤液约550g,记作A,称量含液的湿沉淀约为300g,用清水分2~3次浸泡湿沉淀、过滤,尽量沥干,又得到滤液约270g,往该滤液中通CO2反应,反应完成后检测其中NaHCO3含量为4.3%,记该溶液为B,备用。
对滤液A进行浓缩,至液重约170g,有NaHCO3晶体析出,过滤,称量析出的NaHCO3晶体约为21g,饱和溶液约150g。该饱和溶液与溶液B混合,得到约450g NaHCO3溶液,检测其NaHCO3浓度为6.1%,可循环用于主反应作原料用。
实施例9
在实施例3过滤滤去SiO2沉淀后,得到含Na2CO3和部分NaHCO3的滤液约770g,记作A,称量含液的湿沉淀约为230g,用清水分2~3次浸泡湿沉淀、过滤,尽量沥干,又得到滤液约230g,往该滤液中通CO2反应,反应完成后检测其中NaHCO3含量为5.1%,记该溶液为B,备用。
对滤液A进行浓缩,至液重约300g,有NaHCO3晶体析出,过滤,称量析出的NaHCO3晶体约为32g,饱和溶液约270g。该饱和溶液与溶液B混合,得到约500g NaHCO3溶液,检测其NaHCO3浓度为7.4%,可循环用于主反应作原料用。
实施例10
在实施例4过滤滤去SiO2沉淀后,得到含Na2CO3和少量NaHCO3的滤液约1300g,分析其中含Na2CO3约3.8%,NaHCO3约0.4%,浓缩得到含约63g固体和少量水的混合物,可作生成Na2O·nSiO2的原料。
对实施例5滤去SiO2沉淀后得到的含硅酸钾、碳酸氢钾的滤液,按与实施例7~10回收Na2CO3/NaHCO3的相同工艺,过程情况基本一致,只在浓缩时需根据不同温度下KHCO3的溶解度对浓缩量的控制作相应调整。
(三)辅助反应(过程):硅酸钠、硅酸钾的再生
本发明由Na2CO3/K2CO3与石英反应制得Na2O·nSiO2/K2O·nSiO2过程与现行干法制Na2O·nSiO2/K2O·nSiO2工艺完全一致,具体可参见《硅化合物的生产与应用》P21~P42和P106~P111。只是由回收的NaHCO3/KHCO3与石英砂反应时需进行析算,析算值分别为:0.63和0.69,即每1kg NaHCO3可析算为0.63kg Na2CO3,每1kg KHCO3可析算为0.69kg K2CO3。
用回收的NaHCO3/KHCO3替代Na2CO3/K2CO3,不足部分需补充新的Na2CO3和K2CO3。这里的另一个问题是,这时生成的CO2量会增加:
2NaHCO3=Na2CO3+H2O+CO2
2KHCO3=K2CO3+H2O+CO2
所以,这时产生的CO2主要会有三个部分组成:(1)Na2CO3/K2CO3与SiO2反应生成CO2;(2)NaHCO3/KHCO3分解放出CO2;(3)燃料燃烧产生的CO2。这些CO2混杂在炉气中,炉气经热量回收,再经除尘后可直接得到CO2供生成NaHCO3/KHCO3反应用,或用现行成套吸收装置回收CO2,供后续反应循环使用。
Claims (8)
1.一种沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于它是以可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和碳酸氢盐MHCO3为原料,以M2O·nSiO2和MHCO3的摩尔比为1∶2.0~2.3进行反应,沉淀出水合SiO2,经过滤分去滤液,滤饼再经洗涤、干燥得到沉淀二氧化硅产品;所述滤液中主要含有碳酸盐M2CO3和少量的碳酸氢盐MHCO3;所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2、碳酸氢盐MHCO3、碳酸盐M2CO3中的M为碱金属元素Na或K,所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2中的n为其模数。
2.根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2的模数n,当M是碱金属元素Na时,n值在1.0~3.7,当M是碱金属元素K时,n值在于2.2~3.7。
3.根据权利要求1或2所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述过滤是采用真空过滤或压滤机过滤。
4.根据权利要求1或2所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述干燥采用喷雾干燥、箱式干燥或气流干燥。
5.根据权利要求4所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述箱式干燥后还进行了粉碎。
6.根据权利要求1或2所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述滤液中通入CO2,使滤液中的碳酸盐M2CO3生成MHCO3,循环作为制备沉淀SiO2的反应原料。
7.根据权利要求1或2所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述滤液经浓缩后,通入CO2,生成碳酸氢盐MHCO3的饱和溶液与其结晶物的混合物,然后过滤回收MHCO3固体,滤液作为制备沉淀SiO2的原料循环使用;所述的浓缩是控制在使结晶的MHCO3占混合物中MHCO3的40~45%。
8.根据权利要求1或2所述的沉淀二氧化硅的制备方法,其特征在于所述滤液经浓缩至滤液中碳酸盐和碳酸氢盐部分结晶,得到饱和溶液与结晶物的混合物,然后将所述混合物与石英砂反应,生成可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和CO2,所述生成的可溶性硅酸盐M2O·nSiO2用于生成沉淀SiO2的反应原料,所述的浓缩控制在使混合物的含水量符合生产M2O·nSiO2的工艺要求。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012101218584A CN102633271A (zh) | 2012-04-19 | 2012-04-19 | 一种沉淀二氧化硅的制备方法 |
PCT/CN2013/074386 WO2013155976A1 (zh) | 2012-04-19 | 2013-04-19 | 一种沉淀二氧化硅的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012101218584A CN102633271A (zh) | 2012-04-19 | 2012-04-19 | 一种沉淀二氧化硅的制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102633271A true CN102633271A (zh) | 2012-08-15 |
Family
ID=46617878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2012101218584A Pending CN102633271A (zh) | 2012-04-19 | 2012-04-19 | 一种沉淀二氧化硅的制备方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102633271A (zh) |
WO (1) | WO2013155976A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114380296B (zh) * | 2021-12-29 | 2023-09-08 | 四川马边龙泰磷电有限责任公司 | 一种生产沉淀白炭黑和甲酸盐的方法及装置 |
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---|---|
WO2013155976A1 (zh) | 2013-10-24 |
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