CN102608395A

CN102608395A - 用于分析带电粒子束的密度的装置和方法

Info

Publication number: CN102608395A
Application number: CN2011104633226A
Authority: CN
Inventors: P·J·奥旺
Original assignee: Techmeta SA
Current assignee: Techmeta SA
Priority date: 2010-12-07
Filing date: 2011-12-07
Publication date: 2012-07-25
Also published as: ES2676206T3; EP2463686A3; EP2463686B1; FR2968393A1; US20120138812A1; FR2968393B1; EP2463686A2

Abstract

用于通过使用穿有孔7的转动靶2来分析带电粒子束F的截面中的电流密度的装置和方法。这种装置和相关的处理方法使得能够不用断层X线摄影重构方法来重构电流密度的3D图像。

Description

用于分析带电粒子束的密度的装置和方法

技术领域

本发明涉及一种测量仪器的领域，特别是用于测量离子束或电子束的直径和形状的仪器的领域，尤其是在工具例如离子注入机或用于通过电子束焊接的仪器中。

背景技术

电子束机器具有各种各样的应用，特别是应用在焊接、表面修饰、X射线产生、电子束制版、电子显微术领域以及还在很多其他领域中。这些应用不适合于聚焦的精确控制需要和束对准的需要以及确定电子束中能量分布的特殊需要。

如果束的能量分布可以被控制并精确地知道，那么可复制的电子束产生就可以独立于机器或操作者进行。用于调节能量分布的常规方法基于在次级靶上目测调节所述束的焊接专业操作者的专有技术。操作者注视所发出的光的辐射的强度，而不是直接测量束的能量分布。该古老的方法本身是不精确的，苛求有经验的操作者和精确的判断以实现束的准确聚焦。明显地，每个操作者可以根据由他所见进行的解释有区域别地调节参数。

有关的电流密度被许多变量影响，如电极的形状、聚集的调节、发射距离、电流的值、加速张力(tension d’accélération)、真空的水平和电极的对准。这些参数的变化可以造成束的电流密度分布的变化，这可以对焊接的焊透、焊缝的宽度和由电子束所焊接的物体的表面质量具有显著的影响。

用于调节束的常规方法不是完全令人满意的。已开发了各种仪器以确定电子束或离子束的各种特征，例如束的组态、直径、最大能量、束的宽度、电流密度等。在不同的仪器中，有转动丝探测器(sonde àfiltournant)、销钉孔装置(dispositif àtrou épingle)、改进的法拉第笼、改进或改善的法拉第笼、转动的有裂缝的双盘扫描仪。

这些定量诊断部件旨在更好地确定电流密度的分布，并因此通过该偏差更好地控制束的聚焦的条件。为了获得电子束的电流密度的最真实的图像，所述束理想地应当处于停顿而不是从分析工具上面扫描(该扫描可以与转动丝类型的工具和改进的或改善的法拉第笼一起使用)。

发明内容

本发明的目标在于提出一种用于分析带电粒子束，尤其是电子束或离子束的装置和方法，其使得能够确定束的截面中的电流密度的分布，和因此确定功率的分布。此外，本发明的目标在于提出一种不使用断层X线摄影重构(reconstruction tomographique)的解决方案。

根据本发明的第一目标，用于分析带电粒子入射束的电流密度的这种装置的特征在于：所述装置包括一个活动靶，所述靶被布置以便在分析过程中在其中投射所述入射束；至少一个孔，其穿过该活动靶并且被布置以便当所述活动靶移动时每个孔按照各自的路径经过所述束的截面，以及仅入射束的一部分通过所述孔穿过所述靶；和，用于测量所述部分的电流密度的部件。

优选地，该靶是围绕轴线旋转活动的；并且，每个孔的行程是在该轴线上定中心的圆弧。有利地，该靶包括至少一个标记孔，该标记孔的截面显著不同于，优选地，两倍于所述至少一个孔的截面。该靶可以包括数个孔，优选地，由孔经过的圆弧有规律地彼此径向间隔开。由这些孔经过的圆弧也可以在中间区域中径向地较接近而在所述中间区域两侧彼此径向地较远离。所述孔可以有规律地彼此成角度地间隔开，或不是如此。

优选地，用于测量所述部分的电流密度的部件包括至少一个法拉第笼。

该装置还可以包括激励靶，优选地，冷激励靶。因而，该装置可以包括用于使入射的待分析束向激励靶的方向偏转的部件。

根据本发明的第二目标，用于分析带电粒子入射束的截面中的电流密度的方法的特征在于，所述方法包括以下步骤，用于：

-测量入射束的部分中的电流密度的谱图(profil)，所述谱图对应于所分析的截面中的至少一个行程；和

-从所述谱图开始重构所述截面中的电流分布。

为了测量所述谱图，使穿有至少一个孔的靶在束与用于测量部分中的电流密度测量的部件之间移动；并且每个部分是穿过这些孔之一的束的瞬时部分。

该靶可以是穿有至少一系列数个孔的围绕轴线的转动靶，优选地，所述孔相对于轴线径向地和/或成角度地有规律分布，所述孔具有彼此相同的截面。有利地，该靶包括具有不同于其他孔的截面的截面的标记孔，以便在所分析的截面中所述标记孔的行程引起谱图的异常，以便通过确保两个异常出现在谱图中来检验该分析是完整的。两个相继异常的出现可以被用于确定在该分析时靶的实际旋转速度。

根据本发明的方法还包括以下步骤，用于：

-在所述靶(2)上定位所述束(F)，优选地，为弱电流的散焦的和非偏转的束，所述靶(2)是转动靶；然后，

-使该束向激励靶(9)的方向偏转；然后，

-增加该束的功率直至达到其标称功率和所述靶的热平衡；然后，

-当转动靶(2)的旋转速度稳定时，停止束的偏转；和，

-在给定的、优选为大致相当于靶(2)的两次回转的时间内，获取谱图；然后，

-使束重新向激励靶(9)的方向偏转；然后，

-熄灭该束并停止靶(2)的旋转。

该方法还可以包括至少一个用于计算半高度宽度、1/e²高度宽度、最大表面功率中的至少一个束的参数的步骤。

这种方法可以用于确定带电粒子束发生器的电极的磨损的方法。

这种方法还可以用于确定带电粒子束发生器的电极的对准缺陷的方法。

这种方法还可以用于确定带电粒子束的最佳聚焦。

附图说明

下面将参考附图描述作为非限制性实施例的本发明的几个实施方式，其中：

-图1是根据本发明的装置的第一实施方式的示意性透视图，该装置用于测量穿过该束的一个截面的带电粒子束的强度，该装置包括配备有“针孔”的转动板；

-图2是图1的装置的半切割部分的示意图，在法拉第笼的右边，表示所述束在其中穿过针孔之一；

-图3示出在板的两次回转过程中，用图1的装置测得的信号值；

-图4示出从图3的值中提取的值，对应于板的单次回转；

-图5示出从图4的值提取的修正值；

-图6是根据相对于束的截面图5的值的位置，图5的值的示图；

-图7示出空间重构，以三维和以从图6的分布推断的根据其截面的束的强度分布水平的曲线示出；

-图8是根据本发明的装置的第二个实施方式的、与图1的图相似的图，其包括两个法拉第笼；

-图9和10表明在图8的装置的每个法拉第笼右边的行程；

-图11示出图9和图10的行程的叠加；和

-图12示出从用图8的装置进行的测量开始的空间重构。

具体实施方式

图1示出设置用于分析带电粒子束F的根据本发明的装置1。在所示出的实施例中，束F是电子束。

在图1和图2中所示的实施例中，假定束F从上到下竖直发射。该装置的元件的相对位置因此根据该假定给出。当然，根据待分析的束的发射方向，相同的装置可以采取其他位置。

在所示的实施例中，装置1包括机动靶2，和用于驱动该靶的发动机3。该装置还包括窗4，束穿过该窗的开口6发射；用于接纳束F的经过滤的部分dF的法拉第笼8；和第二激励靶9。

机动靶2主要由盘形状的板2构成。板2围绕回转轴线X2转动安装。轴线X2大致与盘的几何轴线重合。与束F的发射方向大致平行地，即大致垂直地布置轴线X2。发动机3被设置以便驱动盘2围绕轴线X2旋转。此外，设置发动机3以便在分析束期间靶2以恒定速度旋转。

窗4在靶2的上面、在盘的周缘附近形成开口6。当所述束不处在被分析的位置时，即当该束在由开口6限定的空间中不竖直指向时，窗4围绕开口6形成对靶2的保护。

靶穿有“针孔”7，即靶穿有相对于待分析的束F的直径而言小尺寸的穿过孔7。在所示的实施例中，有规律地布置这些孔7，以便在靶2的完整旋转过程中，每个根据其自己的圆弧经过开口6，所述圆弧有规律地，即两个相邻弧之间的距离是恒定的，彼此径向地间隔开。在所示的实施例中，开口的尺寸是这样的，从而如果所要求的精确性不是太大的话，如有必要圆弧可能与直的节段相似。这些孔也可以有规律地成角度地间隔开，即两个相继的孔之间相对于轴线X2的角度是恒定的。优选地，这些孔围绕轴线X2在360度上有规律地分布。因此，按照螺旋形状布置这些孔7。有利地，这些孔被布置以便孔7从来不同时经过开口6。特别地，选择开口6的大小以便所分析的束在旋转中同时只看见唯一的孔。

所有孔7都是圆形水平截面的并且彼此大致相同，除了孔7A。孔7A是形成标记的孔。它具有不同于其他孔尺寸的尺寸，以便每次该孔7A经过开口6，它提供靶2相对于束的相对位置的指示。因此，如果标记7A具有显著大于其他孔7的截面的截面，它也将接纳显著大的电子数量。例如，如果该标记具有两倍于其他孔的进入截面的进入截面(sectiond’entrée)，它将接纳大致两倍于所期望的电子数量的电子数量。在所示的实施例中，不同于其他孔的尺寸的标记7A的尺寸在于其沿着相应的弧的方向加倍。优选地，该标记布置以便其经过窗的中心区。如此避免它经过周边的、少量的、低强度的或没有所分析的束的区域。

靶2的旋转使得能够在测量中在大的能量表面上分布由束F传送给靶的能量。然而，非常有利地，用于盘的材料是耐热类型的。它尤其可以以钨、以钼或以石墨来制成。如果是以石墨制成的，它可以只包括石墨或在其上表面上包括耐热金属例如钨或钼的结壳(incrustation)或喷镀。耐热金属的结壳或喷镀导致次级电子(表面的“反冲电子”)数目的增加，如此减少了盘的热负荷，这使得能够使用装置1以分析更高功率的束F。

有利地，该装置配备有与靶相接触的炭精棒(charbon)类型的电流收集器(图上未表示出)，以持续排放分析过程中所拦截的电流。

如在图2中特别示出的，靶2通过轴套(moyeu)12固定在具有轴线X2的轴11上。靶的温度在测量期间强烈地增加，因为它吸收由束F传送给它的一部分能量。因此，有利地，轴套12被设置以限制热向装置1的其他元件的耗散。在所示的实施例中，轴套12包括定心部件13和保持部件14、15。保持部件包括下钳14和上钳15，全部三个都安装在轴11上。下钳14与轴11旋转连接地安装，以便它整体地(intégralement)和严格地向靶传递轴11的旋转运动。上钳和下钳14、15沿着内边缘17各自支靠在靶的下表面和上表面上。上钳15被布置以便通过夹紧使得与下钳连接的靶2旋转和平移。

定心部件由在钳14、15之间，适配(ajuster)在轴11上的构件13形成。该构件包括小厚度的环形部分18，其支靠在靶2的内边缘16上。

上钳15和定心构件13是可从轴11拆卸的，尤其为了允许靶2的更换。

优选地，钳与定心构件的接触沿着内边缘16不是连续的，以便这限制热传送。处于相同的目的，也设置环形区域18两侧的真空，在环形区域和每个钳14、15之间。

如在图2中特别示出的，当入射束F在孔7处击打在靶2上时，该靶起着过滤的作用，以便仅束F的经过滤的部分dF由孔7穿过靶2被散射。从上到下在图2中所示的孔首先具有圆柱形部分，然后通过向下强烈放宽形成的截锥形部分。这样的布置特别有利于避免电子被孔7的壁显著拦截。

将法拉第笼布置在靶2下面，对着开口6，以便无论何时孔7经过开口，散射的经过滤的部分dF总是被法拉第笼吸收。法拉第笼8具有锥形井8A形状的内部构造，以便电子在那里被捕获。在图8中所示的实施例中，法拉第笼的倾斜的内部表面使得能够使次级电子或反散射的电子的丢失最小化。因此，建造法拉第笼以便收集由针孔所传送的全部束电流，同时最大地避免反散射电子或次级电子的丢失。

如在图1中所示的，装置1包括用于与由法拉第笼所吸收的电子瞬时流大致呈正比的电子信号的输出S。

在所示的实施例中，靶9是冷靶。在那里，在其激励时，在被稳定化时，然后，在测量后，在其熄灭时，所述束偏离。因此，将转动靶的暴露时间限制在测量所需的时间。

因此，装置1，尤其是由机动靶2、发动机3、窗4、法拉第笼8和激励靶9形成的装置，构成用于电子束F的扫描仪。在装置1中可以设置这样的部件以使入射束F向激励靶的方向偏转。也可以使用在束F的源头中设置的偏转部件。

既然未在图中示出，根据本发明的装置1可以有利地包括用于来自输出S的信号的获取部件和用于该信号的处理部件；尤其是，这些部件可以分别包括特殊信号的获取软件和特殊信号的处理软件。此外，这样的装置1可以包括用于发动机的控制部件，和如有必要，包括用于入射束F的偏转部件的控制部件。优选地，全部操作：盘的旋转、获取的起动、束的激励和熄灭、束的偏转等，由可编程序的自动装置管理。

该装置也可以包括用于沿着几根轴线进行移动的部件，以便相对于束F进行定位。

现在，将借助于所示的装置，描述进行束F的分析的连续步骤。

首先，靶2处于旋转中，所述束向靶2的方向保持非偏转并处于低功率下。检验窗4的开口6在非偏离束上定中心，然后，需要时，进行修正。

随后，在其激励时间，在即束可能达到其标称功率和热平的时间，使该束F向冷靶9偏转。

随后，停止束F的偏转，以便在由窗4限定的区域中，在开口6内，它撞击转动靶2，如在图1和图2中所表明的；信号S的获取大致同时起动。在靶2所需的时间内，使所述束如此指向，以进行两次回转；收集在这两次回转过程中来自法拉第笼8的信号S。

最后，在其熄灭的时间，使束F向冷靶9的方向重新偏转。

信号S可以与其获取同时地或在预先录制后延迟地(en différé)进行处理。图3至5示出设置用于信号S的处理方式。将注意图3、4和5不是以相同的比例尺。

图3示出表示随时间t所测得的强度谱图I的第一轨迹ST1。轨迹ST1可以来自在两次回转期间所测得的信号S的值的第一处理。注意轨迹ST1产生两个图案M1、M2，分别对应于第一和第二回转。每个图案包括一系列的期间d7峰值C7，对应于穿过束F的各自孔7的行程。因为束F中被孔7经过的圆弧更接近束F的中间，期间d7更加长。注意峰值C7A，其对应于作为其他峰值之间的异常存在的标记7A。实际上，标记孔7A的截面大致两倍于其他孔7的截面。电子数目通过它，因此所测量的强度I是大致两倍。轨迹ST1上两个异常C7A的存在使得能够确保相应的测量在至少一次回转内很好地进行，即所有孔很好地通过开口6并且所述束被很好地完整扫描。为了更清晰，轨迹ST1由两个完整的图案(motif)M1、M2形成。然而，在一般情况下，如果轨迹S对应于两个回转，则其由部分第一图案、完整第二图案和与第一图案互补的部分第三图案形成。

图4示出第二轨迹ST2。轨迹ST2来自在第一轨迹ST1的值上应用的第二处理，以便仅保留单次回转的代表值(t，I)。这些代表值可以，例如是两个相继的异常C7A之间的准确值、两个图案M1、M2的值的平均或图案M1或M2之一的准确值。除了轨迹ST2应当修正异常C7A，轨迹包括分析束F的扫描的截面内的强度分布所需的所有信息。获取数，即峰值数存在，因此已通过该束的孔数7，借助于相继峰值进行确定；这使该过程不太依赖于靶2的旋转速度。

图5示出第三轨迹ST3。轨迹ST3来自第三处理，在该第三处理的过程中，异常C7A的值被标准化，以便异常的值对应于可能已由具有当前截面的孔7所测量的值。在特殊情况下，将峰值C7A除以2。因此，在轨迹ST3中，异常C7A被相应的峰值C7AN代替，其值相对于异常C7A的值被标准化。

图6示出了第一空间重构，即相对于平面XY部分相对于测量位置的轨迹ST3的强度I的三维图像，其中XY部分表示窗4的开口6。因此图6是束F的分析的截面的重构，以及对于所进行的每次测量，是所测量的密度和相对于窗4该密度被测量的截面的位置的重构。在该第一空间重构中，在其中如此表示每个峰值C7以便其在平面XY部分上的投影是对应于在开口6对面的各个孔7的行程的圆弧A7。使每个峰值的表示在其中以点P的形式离散，然后从这些点P开始进行信息重构。

图7是轨迹ST3的强度I的第二空间重构，与图6的所示大致相同，除了在其中在峰值C7的曲线之间内插强度值；因此，在其中强度值由连续表面表示，并由水平曲线N标记。因此，图7是束F的分析的截面中电流密度分布的图像，因此是功率分布的图像；分析的截面是与靶2的上表面相接触的截面。优选地，当分析的截面被使用例如用于焊接时，其至少接近于束F的工作截面。

有利地，获取或处理信号S的步骤，尤其是在图3至5中所示的步骤是自动化的。有利地，束的发射机器的楔紧的后来步骤也完全可以自动化。如果机器旨在用于两个部件彼此的焊接，就可以是这种情况；因此，束F的行程可以根据预先进行的电流密度的分析来确定，以便使焊接优化。

现在，将参考图8至12，描述用于根据本发明的装置1的第二实施方式，该装置不同于参考图1至7在前面描述的装置。

在该实施方式中，有两个检测装置，在这里有两个法拉第笼8，第二法拉第笼82离第一法拉第笼81，相对于轴线X2以90度布置，如在图1中所示的。第一和第二法拉第笼分别面对第一窗61和第二窗62布置。

此外，在该第二实施方式中，如在图9和图10中特别示出的，在靶2的每个孔7之间，因此呈相应的弧A7形状的每个行程之间的径向间隔变化。在所示的实施例中，因为弧A7接近窗6的中间，弧更加收缩(resserrer)。该布置是特别有利的，因为它使得能够用相同的转动靶和足够的精确度，无区别地分析具有小直径(参见图9、11和12)、平均直径F2或更大直径F3的束，而不过度增加孔和测量的数目，尤其是在大直径束F3的情况下。因此，特别地，有利地这样定位装置1以便F1类型的细微束，通过位于靶区域中的孔7进行分析，在那里其行程A7是最缩小的。

尤其当用第一实施方式的装置1(如在图1中所示的)说明具有可变径向间距的这样的靶2时，分析显示在对应于弧数目NA的径向测量数目与每个弧上的测量点(可能穿过窗6)的数目NP之间的非常突出的失衡。例如，在图9至11中所示的实施例中，通常可以有NA＝17和150＜NP＜200。

因此，借助于第二实施方式，和借助于彼此以90度布置的两个法拉第笼81、82的使用，可以扫描，即分析沿着相互大致垂直的两个方向的束F。每个分析对应于由图9和图10所示的各自的行程A7。可以叠加这些行程以形成所分析的束F的截面的网格；如在图11中所示的。

图12示出从信号S，分别来自第一和第二法拉第笼81、82的S1和S2开始，重构在F2类型的中等直径束的情况下的强度分布。

在图8中所示的实施例中，设置与每个法拉第笼相关联的激励靶9。然而，可以仅设置唯一的激励靶9，例如在两个法拉第笼81、82之间成角度布置的激励靶。

优选地，设置这样的部件(图中未表示出)以便就所寻求的分析精确性而言足够的精确性来定位装置1，以便当束F是非偏转的时，总是能进行分析，无论用第一或第二法拉第笼。因此，使第一窗61定位于非偏转束F的轴线中，然后，进行第一系列测量，移动该装置以便在进行第二系列测量之前，将第二窗定位于与非偏转束相同的轴线中。

优选地，定位是足够精确的以便能够直接叠合两个系列的测量。然而，在叠合当中，可以规定一个校正，例如通过比较可能应该是大致相同的测量，尤其是在行程的交点处。

当然，本发明不限于刚描述的这些实施例。

特别地，如果在所示的实施例中，测量在两个完整的回转上进行，那么也可能检测对应于标记的测量峰的第一次出现和第二次出现并在第二峰出现后立即中断测量。因此可以限制靶对束的暴露。

在所示的实施例中，标记经过其自己的束F区域，即穿过所述孔进行的测量在标准化后参与分析。然而，也可以设置标记以便被另一个孔已经经过的或未经过的区域，以便该标记不再参与分析，而仅确保其标记功能。

该装置也可以包括用于在分析过程中测量关于盘的速度改变的部件，以便能够随后修正根据这些速度变化而进行的测量。

这些孔可以是仅截锥形形状的，即不包括圆柱形部分。

转动靶可以包括数个系列的孔并且每个系列形成各自的螺旋。这些螺旋的每个可以径向地错开并且具有相对于另一个而言不同尺寸的孔。在该情况下，法拉第笼可以具有足够的尺寸以便用于所有螺旋。也可以为每个螺旋设置特殊的法拉第笼。每个螺旋可以具有对具有特殊直径和强度的束的类型、或根据所寻求的精确性专门的用途。

相对于轴线的孔之间的角度间距可以是或不是有规律的。孔之间的径向距离可以相对于轴线增加或减小。

不规则的径向或角形间隔可以尤其使得能够用相同的靶和具有不同特征的相同的束螺旋进行处理；例如，一部分螺旋具有大的间隔，其使得能够分析大的束，例如自然束或非聚焦束，而另一部分螺旋具有小的间隔，其使得能够分析细微束。因此，孔之间的间隔可以，但不是限制性地，在螺旋的开始和结束时较大，而在螺旋的中间部分较小，如在第二实施方式中所示的。

有利地，使用孔的间隔表格以重构束的强度，以便不规则的间隔不影响结果。如果在靶的加工中，全部或部分不规则产生于公差，那么它可以因此被高的几何精确性补偿，其表反映了该高几何精确性。

有利地，旋转靶是可互换的，例如为了能够根据所寻求的精度和/或待分析束的横向尺寸，使用靶，靶的孔具有径向的或角度间隔的孔和/或根据每个靶而不同直径的孔。

Claims

1.用于分析带电粒子入射束(F)中的电流密度的装置(1)，其特征在于，所述装置包括：活动靶(2)，所述活动靶被布置以便在分析过程中在其中投射所述入射束(F)；至少一个孔(7)，其穿过所述活动靶(2)并且被布置以便当所述靶(2)移动时每个孔(7)按照各自的路径经过所述束的截面，以及仅入射束(F)的一部分(dF)通过所述孔(7)穿过所述靶；和，用于测量所述部分(dF)的电流密度的部件(8)。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述活动靶是围绕轴线(X2)旋转活动的；并且，每个孔(7)的行程是在轴线(X2)上定中心的圆弧。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述装置包括至少一个标记孔(7A)，所述标记孔(7A)的截面显著不同于，优选地，两倍于所述至少一个孔(7)的截面。

4.根据权利要求2或3所述的装置，其特征在于，所述装置包括数个孔(7)，优选地，由孔(7)经过的圆弧有规律地彼此径向间隔开。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，由孔(7)经过的圆弧在中间区域中径向地较接近而在所述中间区域两侧径向地较远离。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括数个孔(7)，优选地，孔(7)有规律地彼此成角度地间隔开。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置，其特征在于，用于测量所述部分(dF)的电流密度的部件包括至少一个法拉第笼(8)。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括激励靶(9)，优选地，冷激励靶。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述装置包括用于使入射束向激励靶(9)的方向偏转的部件。

10.用于分析带电粒子入射束(F)中的电流密度的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤，用于：

-测量入射束的部分(dF)中的电流密度的谱图(ST1)，所述谱图对应于所分析的截面中的至少一个行程(A7)；和

-从所述谱图(ST1)开始重构所述截面中的电流分布。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，为了测量所述谱图，使穿有至少一个孔(7)的靶(2)在束(F)与用于测量部分(dF)中的电流密度的部件(8)之间移动；并且，每个部分(dF)是穿过所述孔(7)之一的所述束(F)的瞬时部分。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，靶是穿有至少一系列数个孔(7)的围绕轴线(X2)的转动靶(2)，所述孔(7)优选地相对于轴线(X2)径向地和/或成角度地有规律分布，所述孔(7)具有彼此相同的截面。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述靶包括具有不同于其他孔(7)的截面的截面的标记孔(7A)，以便在所分析的截面中所述标记孔(7A)的行程引起谱图(ST1)的异常(C7A)；并且，通过确保两个异常出现在该谱图(ST1)中来检验该分析是完整的。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，两个相继的异常(C7A)的出现使得能够确定所述靶(2)的实际旋转速度。

15.根据权利要求10至14中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤，用于：

-在靶(2)上定位束(F)，优选地，为弱电流的散焦的和非偏转的束，所述靶(2)是转动靶；然后，

-使该束向激励靶(9)的方向偏转；然后，

-增加束的功率直至达到其标称功率和所述靶的热平衡；然后，

-当转动靶(2)的旋转速度稳定时，停止束的偏转；和，

-在给定的、优选为大致相当于靶(2)的两次回转的时间内，获取所述谱图；然后，

-使束重新向激励靶(9)的方向偏转；然后，

-熄灭束并停止靶(2)的旋转。

16.根据权利要求10至15中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括用于计算半高度宽度、1/e²高度宽度、最大表面功率中的至少一个束的参数的至少一个步骤。

17.用于确定带电粒子束发生器的电极的磨损的方法，其特征在于，使用根据权利要求10至15中任一项所述的方法。

18.用于确定带电粒子束发生器的电极的对准缺陷的方法，其特征在于，使用根据权利要求10至15中任一项所述的方法。

19.用于确定带电粒子束的最佳聚焦的方法，其特征在于，使用根据权利要求10至15中任一项所述的方法。