CN102602180A - 中国传统水墨凹版印刷工艺 - Google Patents

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CN102602180A CN2012100801123A CN201210080112A CN102602180A CN 102602180 A CN102602180 A CN 102602180A CN 2012100801123 A CN2012100801123 A CN 2012100801123A CN 201210080112 A CN201210080112 A CN 201210080112A CN 102602180 A CN102602180 A CN 102602180A
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Abstract

本发明涉及一种用中国传统水墨凹版印刷工艺。本发明采用的技术方案是以我国传统水墨(墨汁、国画颜料)为基料,配制成适合凹版印刷的水性墨,在吸墨性强、附着力强、渗透性强的纸张等承印物上使用凹版印刷工艺技术,速度快,质量高。解决了雕版印刷费时、费工、精细度差不易与现代科技相结合的问题。此技术具有无污染、永不褪色、能耐久保存的特点。用清水代替化学溶剂,不污染环境。

Description

中国传统水墨凹版印刷工艺
技术领域
本发明是以我国传统水墨(墨汁、国画颜料)为基料,配制成适合凹版印刷的水性墨,在吸墨性强、附着力强、渗透性强的纸张等承印物上进行凹版印刷的工艺技术。
背景技术
我国的传统水墨(墨汁、国画颜料)用于书写、绘画具有悠久的历史。雕版印刷发明时,这些材料又被用作印刷材料,历史证明该印品具有无污染,永不褪色、又能耐久保存的特性,但因雕版印刷人工技能要求高、费时、费工、精细度差、工艺落后,现已几乎失传。
发明内容
本发明拟解决的问题是把我国的传统水墨(墨汁、国画颜料)配制成适合凹版印刷的水性墨,在吸墨性强、附着力强、渗透性强的纸张等承印物上进行凹版印刷的技术问题。解决了雕版印刷费时、费工、精细度差不易与现代科技相结合的问题。
本发明采用的技术方案是:一种中国传统水墨凹版印刷工艺,它的具体步骤如下:用现代电子制版技术,制成凹版,以我国传统水墨(墨汁、国画颜料)为基料,配制成适合凹版印刷的水性墨,在吸墨性强、附着力强、渗透性强的纸张等承印物上进行凹版印刷工艺技术,要保持室内的温度在22-28摄氏之间,相对湿度70%-78%之间。
本发明与其它印刷在同等条件下相对比,具有以下有益效果:
具体实施方式
凹版印刷的印版是由一个个与原稿图文相对应的凹坑与印版的表面所组成的,凹版印刷的印版制作在圆滚筒表面,采用圆压圆的印刷方式。压印滚筒在上,印版滚筒在下。印版滚筒下部浸在水墨槽中,版面从槽中取得水墨充填到凹坑内。墨槽上方设有薄钢片刮刀压在印版滚筒表面,刮除版面上无图文处的水墨。留存于印版表面图文着墨凹坑内的水墨,在转到两滚筒相切处时转移到通过该处的承印物上,印出图文。所印画面的浓淡层次是由凹坑的大小及深浅决定的,如果凹坑较深,则含的水墨较多,压印后承印物上留下的墨层就较厚;相反如果凹坑较浅,则含的水墨量就较少,压印后承印物上留下的墨层就较薄。
1、印刷前应进行水性墨粘度测量:凹印水墨的粘度大小和水性墨色相的浓度有关。粘度测定,可用伏特杯,以一定量容积水墨放入杯内,拔去针塞让其流尽所需的时间,水性墨粘度大小可以从测定中求得最佳数值。
2、需在班前或班后过滤水性墨。一般在容器底面按上120目的铜网或不锈钢网,制成一个滤墨容器。把水性墨倒入滤墨器内过滤,也可以在墨槽内制一个适宜容器,把从墨盘流回来的水性墨,直接送入滤墨器内过滤。这两种方法,都应注意在使用一段时间后清洗并倒去滤墨器内的杂质方可继续使用
3、印刷前的准备工作完成之后,再仔细校准印版,检查给纸、输纸、收纸、推拉规矩的情况,并作适当调整,校正压力,调整好水性墨供给量,调整好刮墨刀。
4、以我国传统水墨(墨汁、国画颜料)为基料,配制成以渗透为主的水性墨,印刷时,全版面涂布水墨后用刮墨机械刮去平面上(即空白部分)的水性墨,使水性墨只保留在版面低凹的部上,再在版面上放置吸墨力强的承印物,施以适当的压力,使版面上印刷部分的水性墨转移到承印物上,获得印刷品。
上版操作中,要特别注意保护好版面不被碰伤,要把叼口处的规矩及推拉规矩对准,还要把印版滚筒紧固在印刷机上,防止正式印刷时印版滚筒的松动。

Claims (1)

1.一种中国传统水墨凹版印刷工艺,其特征是:以我国传统水墨(墨汁、国画颜料)为基料,配制成适合凹版印刷的水性墨,在吸墨性强、附着力强、渗透性强的纸张等承印物上使用凹版印刷的工艺技术,具有无污染、永不退色、又能耐久保存的特点。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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