CN102599665A - 缝制西装袋布的专用服装模板 - Google Patents

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杨绿萍
岳素英
王素珍
陈小琴
马洪亮
冯华英
周志文
周英华
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Abstract

本发明涉及一种缝制西装袋布的专用服装模板,所述的模板为按西装袋布轮廓裁切成的硬衬布,所述的硬衬布具有至少一面为毛面,所述的硬衬布上开设有定位孔。本发明的缝制西装袋布的专用服装模板将一面毛面的硬衬布按西装袋布轮廓裁切成所需形状,使用时硬衬布的毛面与西装面料自然贴合,在对西装面料不产生任何不良作用的情况下,保证两者之间的摩擦阻力,在缝制过程中,硬衬布与西装面料之间不会出现移位现象,保证了缝制过程中,缝纫线与所需的轮廓线完全一致,且生产效率大大提高。

Description

缝制西装袋布的专用服装模板
技术领域
本发明涉及服装模板技术领域,尤其是一种缝制西装袋布的专用服装模板。
背景技术
西装通常是公司企业从业人员、政府机关从业人员在较为正式的场合男士着装的一个首选,“西装革履”常用来形容文质彬彬的绅士俊男。西装的主要特点是外观挺括、线条流畅、穿着舒适。西服的选料和做工是质量好坏的关键,在欧美国家,由技艺精湛的老裁缝手工定制西服是最高档次的,但此类西服价高量少,远远不能满足市场需要。服装模板是一种新颖的制衣工具,保证制衣质量的基础上能大大提高工作效率,甚至能缝制出比手工更精美的服装,以前需要对工人经常长期的培训才能独立缝制服装,且质量参差不齐,往往要进行多次返工,才能符合要求,返工过程中还造成面料的损坏,甚至产生次品,因此服装模板越来越受到制衣工厂的青睐,并投入较大的人力、物力进行技术研发。因为西装对品质的要求最高,因此运用最先、也是最广的是西装领域。比如西装的袋布,手工用缝纫机缝制是相当困难的,因为袋布的四角一般为圆角过渡,在缝制时很难按照预想的轨迹走,常常出现缝纫线走偏,导致袋布走样。不符合设计要求,需要返工重做。现有技术中有在袋布上预先画上轮廓线的方法,这样虽能使缝纫线与轮廓线很接近,但仍难保证完全一致,且会污染布料,对于比较高档的西装,后续的清洗过程比较复杂,此法就不能用于西装的缝制。
后来本领域技术人员进行了多次技术改进,工人选用普通纸张按需要裁切后制成纸样板,但是缝制袋布时整个袋布需要旋转,普通纸样板与布料之间的摩擦阻力不够,会造成两者之间位置偏移,此时缝制出的袋布当然就是缝纫线偏斜的不合格品。为了提高两者之间的摩擦阻力,在旋转过程中纸样板与布料之间不产生位置偏移,有将双面胶粘在纸样板上,再贴到布料上,这样虽然能保证成品质量,但是在撕下纸样板时,布料也会在双面胶的撕扯力作用下变形,出现“鼓包”现象,影响西装的美观度,客户不满意,这种方式只能放弃。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:克服现有技术中之不足,提供一种缝制西装袋布的专用服装模板,解决了现有技术中长期存在的西装袋布采用缝纫机缝制质量低,缝纫线偏移,工作效率慢的技术问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种缝制西装袋布的专用服装模板,所述的模板为按西装袋布轮廓裁切成的硬衬布,所述的硬衬布与西装袋布接触的一面为毛面,所述的硬衬布上开设有定位孔,所述的定位孔为与装布开口相对应的狭长孔。
本发明的有益效果是,本发明的缝制西装袋布的专用服装模板将一面毛面的硬衬布按西装袋布轮廓裁切成所需形状,使用时硬衬布的毛面与西装面料自然贴合,在对西装面料不产生任何不良作用的情况下,保证两者之间的摩擦阻力,在缝制过程中,硬衬布与西装面料之间不会出现移位现象,保证了缝制过程中,缝纫线与所需的轮廓线完全一致,且生产效率大大提高。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的缝制西装袋布的专用服装模板的最佳实施例的结构示意图。
图中:1.硬衬布,2.定位孔。
具体实施方式
现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
如图1所示,一种缝制西装袋布的专用服装模板,所述的模板为按西装袋布轮廓裁切成的硬衬布1,硬衬布1与西装袋布接触的一面为毛面,硬衬布1上开设有定位孔2,定位孔2为与装布开口相对应的狭长孔。
使用时将硬衬布1的毛面贴附在西装袋布上,狭长的定位孔2与袋布的开口对齐,然后就能在缝纫机上进行缝纫了,工人手工操作使缝纫机的机针沿硬衬布的外轮廓走一圈,即可实现袋布的缝制,操作简单方便,在保证质量的同时效率大大提高。

Claims (1)

1.一种缝制西装袋布的专用服装模板,其特征是:所述的模板为按西装袋布轮廓裁切成的硬衬布(1),所述的硬衬布(1)与西装袋布接触的一面为毛面,所述的硬衬布(1)上开设有定位孔(2),所述的定位孔(2)为与装布开口相对应的狭长孔。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20120725