CN102549482A - 线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、包括线格栅偏振器的3d立体图像显示装置和制造线格栅偏振器的方法 - Google Patents

线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、包括线格栅偏振器的3d立体图像显示装置和制造线格栅偏振器的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102549482A
CN102549482A CN2010800162627A CN201080016262A CN102549482A CN 102549482 A CN102549482 A CN 102549482A CN 2010800162627 A CN2010800162627 A CN 2010800162627A CN 201080016262 A CN201080016262 A CN 201080016262A CN 102549482 A CN102549482 A CN 102549482A
Authority
CN
China
Prior art keywords
grid
width
ratio
line
polarizer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2010800162627A
Other languages
English (en)
Inventor
李领宰
金镇秀
李俊
金基喆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Innotek Co Ltd
Original Assignee
LG Innotek Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Innotek Co Ltd filed Critical LG Innotek Co Ltd
Publication of CN102549482A publication Critical patent/CN102549482A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
    • G02B30/20—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes
    • G02B30/22—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type
    • G02B30/25—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type using polarisation techniques
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G02F1/133548—Wire-grid polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

本发明涉及一种能够确保高亮度并且减少工艺数目的线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、和制造线格栅偏振器的方法。根据本发明，线格栅偏振器包括以特定间隔平行布置在基材上的第一格栅和在第一格栅上形成的第二格栅，其可以只利用压印过程、沉积过程和湿式蚀刻过程来形成。相应地，可以减少工艺数目以及工艺成本和时间，并且可以确保高的可靠性。

Description

线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、包括线格栅偏振器的3D立体图像显示装置和制造线格栅偏振器的方法
技术领域
本发明涉及一种能够获得高亮度并且减少工艺数目的线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、和制造线格栅偏振器的方法。
背景技术
通常，偏振器或偏振元件是指从非偏振光如自然光提取具有特定振动方向的直线光偏振光的光学元件。作为光学元件的一种，线格栅偏振器是利用传导性线格栅产生偏振光的光学元件。因为线格栅偏振器具有比其他偏振器高的偏振分离特性，所以其已被用作可用于红外区域波长范围内的反射型偏振器。
形成线格栅偏振器的工艺包括6至7个过程，例如将金属沉积在基材上的过程、光刻胶涂覆过程、光刻过程、光刻胶显影过程、金属层蚀刻过程和光刻胶剥离过程。相应地，存在时间和成本增加的问题。
此外，决定线格栅偏振器性能的最重要因素是入射光的波长和线格栅之间的间隔之间的关系。也就是说，如果线格栅的节距不足够小，则难以获得期望的效果，原因是入射光未被偏振，而是被衍射。如上所述，线格栅偏振器的偏振特性中的重要因素包括线格栅的节距和线格栅的宽度与高度。然而，利用现有工艺难以控制线格栅的宽度和高度。
发明内容
相应地，紧记现有技术中出现的上述问题，做出了本发明，并且本发明的一个目的是提供一种制造方法，其通过只利用压印过程、沉积过程和湿式蚀刻过程形成线格栅偏振器，能够减少工艺数目、工艺成本和时间并保证可靠性，所述线格栅偏振器包括以特定间隔平行布置在片材上的第一格栅和在所述第一格栅上形成的第二格栅。
特别地，本发明的另一目的是提供线格栅偏振器，其包括仅通过湿式蚀刻过程而配置为提高亮度并使偏振效率最大化的第二格栅，由此能够提高透射率。
根据本发明的一个方面，提供一种线格栅偏振器，包括在基材上的第一格栅层，所述第一格栅层包括具有特定节距和高度的至少一个第一格栅；和在所述第一格栅上的第二格栅层，所述第二格栅层包括具有特定节距和高度的至少一个第二格栅，其中所述第一格栅的宽度与第二格栅的宽度之比满足1∶(0.2至1.5)。
在该情况下，所述线格栅偏振器的所述第一格栅和所述第一格栅层可由聚合物材料制成，并且其第二格栅可由金属材料制成。
特别地，在上述结构中，所述第二格栅的结构可以形成为使得所述第二格栅的宽度对于所述第二格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)，所述第二格栅的宽度与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)，或者所述第二格栅的节距与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)。
另外，根据本发明的上述结构的线格栅偏振器可以形成为使得所述第一格栅的宽度对于所述第一格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)、或所述第一格栅的宽度与所述第一格栅的高度之比满足1∶(0.2至5)。
在该情况下，所述第二格栅的节距或所述第一格栅的节距可以形成为50nm至1μm。
此外，根据本发明的所述第一和第二格栅的各自横截面可以为圆形、椭圆形或多边形。
具有上述结构的线格栅偏振器可以利用以下方法来形成。更具体而言，根据本发明的制造方法可包括∶第一步骤：通过加工堆叠在基材上的第一格栅基础层形成多个第一格栅，所述多个第一格栅每个均具有特定节距；第二步骤：在所述第一格栅上形成第二格栅基础层；和第三步骤：通过蚀刻所述第二格栅基础层形成多个第二格栅，其中所述第一格栅的宽度与所述第二格栅的宽度之比满足1∶(0.2至1.5)。
在该情况下，在所述第一步骤中，可以通过挤压具有多个沟槽的压印模具，在由聚合物材料制成的所述第一格栅基础层上在与所述多个沟槽分别对应的区域中形成多个第一格栅。
另外，在所述第二步骤中，可以通过沉积工艺形成由金属材料制成的材料层。
特别地，在上述制造方法中，在所述第一步骤中，优选所述第一格栅形成为使得所述第一格栅的宽度对于所述第一格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)、或所述第一格栅的宽度与所述第一格栅的高度之比满足1∶(0.2至5)。
此外，在根据本发明的制造方法中，可以利用湿式蚀刻过程进行所述第三步骤，并且可以利用蚀刻过程进行所述第三步骤使得所述第二格栅的宽度对于所述第二格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)，所述第二格栅的宽度与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)，或者所述第二格栅的节距与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)。
根据本发明的具有上述结构的线格栅偏振器可应用于液晶装置。
更具体而言，液晶装置可包括液晶显示板；背光单元，其配置为向所述液晶显示板提供光；和根据本发明的线格栅偏振器，其中所述线格栅偏振器形成在所述液晶显示板的上部或下部上，或者形成在所述背光单元中包括的多个光学片的任一表面上，并且配置为提高光效率。
如上所述，包括在所述液晶装置中的线格栅偏振器可以形成为使得所述第一格栅的宽度对于所述第一格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)、或所述第一格栅的宽度与所述第一格栅的高度之比满足1∶(0.2至5)。
除了上述液晶装置之外，根据本发明的线格栅偏振器还可以应用于显示3D立体图像的装置。
附图说明
结合附图，从以下优选实施方案的说明中，本发明的上述和其他目的和优点将变得明显，附图中：
图1是显示根据本发明一个实施方案的线格栅偏振器的工作原理的立体图；
图2是示出图1中显示的线格栅偏振器的第一和第二格栅各自的高度和宽度的横截面视图；
图3是显示根据本发明的线格栅偏振器的第二格栅的高度和宽度的透射率的图；
图4是显示透射率和亮度的图；
图5至7是显示根据本发明的制造线格栅偏振器的方法的过程图；
图8是根据本发明的具有半球形图案的第一格栅的线格栅偏振器的横截面视图；
图9至11是显示制造图8中显示的线格栅偏振器的方法的立体图；
图12显示根据本发明另一实施方案的线格栅偏振器的结构；和
图13显示根据本发明又另一实施方案的线格栅偏振器的结构。
图14是根据本发明的一个实施方案的液晶显示装置的横截面视图。
具体实施方式
在下文，将参照附图详细描述本发明的实施方案，以使其可以被本领域的技术人员容易地实施。
根据本发明的多个线格栅形成在至少两层中。所述两层，如图1和2所示，包括第一格栅层，其包括以特定间隔平行布置在基材100上的多个第一格栅110；和第二格栅层，其包括在第一格栅层的第一格栅110上形成的多个第二格栅112。也就是说，优选包括具有特定节距H、宽度F和高度E的至少一个第一格栅110的第一格栅层形成在基材100上，包括具有特定节距A、宽度C和高度D的至少一个第二格栅112的第二格栅层形成在第一格栅110上。特别地，优选第一格栅和第二格栅形成为使得第一格栅的宽度F和第二格栅的宽度C满足F∶C＝1∶(0.2至1.5)。
在该情况下，第二格栅112可由金属材料制成，并且形成为使得第二格栅112的宽度C与所述第二格栅112之间的间隔B之比满足C∶B＝1∶(0.2至1.5)，所述第二格栅112的宽度C与所述第二格栅112的高度D之比满足C∶D＝1∶(1至5)，或者所述第二格栅112的节距A与所述第二格栅112的高度D之比满足A∶D＝1∶(1至5)。上述结构可以使透射率、亮度和偏振效率最大化。
在下文，将参考附图更详细地描述本发明的结构和操作。在参考附图的说明中，相同的要素/元件用相同的附图标记表示，而与其附图标记无关，并且省略其多余的说明。诸如第一和第二等术语可用于描述多个要素/元件，但是所述要素/元件不应被视为限制于该术语。术语仅用于区分一个要素/元件与其它要素/元件。
图1是显示根据本发明一个实施方案的线格栅偏振器的工作原理的立体图；图2是示出图1中显示的线格栅偏振器的第一和第二格栅各自的高度和宽度的横截面视图。
参考图1和2，根据本发明的线格栅偏振器包括以特定间隔平行布置在基材100上的多个线格栅(即，格栅结构)。在该线格栅偏振器中，如果节距(即其中格栅宽度加上格栅之间间隔的距离)远小于入射光的波长，则当非偏振状态的光入射时，线格栅偏振器透过其矢量与传导性格栅正交的分量(即，P偏振光)，但是反射其矢量与线格栅平行的分量(即S偏振光)。
线格栅偏振器的光学性质可以基于其透射率、偏振效率、偏振消光比等来评价。偏振效率为(Tp-Ts)/(Tp+Ts)(其中Tp是P波透射率，Ts是S波透射率)。偏振消光比为Tp/Ts。也就是说，线格栅偏振器的用途使用可以通过评价上述三个特性来确定。
根据本发明的多个线格栅偏振器形成在至少两层中。所述至少两层，如图1所示，包括第一格栅层，其包括以特定间隔平行布置在基材100上的多个第一格栅110；和第二格栅层，其包括在第一格栅层的第一格栅110上形成的多个第二格栅112。
线格栅偏振器的光学性质根据第一和第二格栅110和112的宽度F和C和高度E和D、或第一格栅110的节距H和第二格栅112的节距A变化。在本文中，节距是指每个格栅的宽度和距相邻格栅的距离之和。在所示结构中，在下文假定第一格栅110的节距H是指第一格栅之间的间隔G和第一格栅的宽度F之和，而第二格栅112的节距A是指第二格栅之间的间隔B和第二格栅的宽度C之和。
在这种线格栅偏振器中，透射率可以通过格栅的宽度和高度来控制。如果对于相同的节距格栅的宽度增加，则透射率降低并且偏振消光比增加。
如果减小节距以确保最大的偏振效率，则偏振特性增加。如果格栅形成为具有相同的间隔和相同的宽度，则偏振特性随格栅高度的增加而改善。如果格栅形成为具有相同的间隔和相同的高度，则偏振特性随格栅宽度的增加而改善。
为了获得如上所述的最大亮度，格栅应通过优化控制每个格栅的节距以及格栅的高度和宽度来形成。第一和第二格栅110和112的宽度F和C以及高度E和D、或第一和第二格栅110和112的节距H和A可以通过考虑上述条件如下表1所述来确定。在所示结构中，B是指第二格栅之间的间隔，G是指第一格栅之间的间隔。
表1
Figure GSB00000790085200061
参考表1和图2，优选根据本发明的线格栅偏振器包括布置在基材100上的包括具有特定节距H、宽度F和高度E的至少一个第一格栅110的第一格栅层；和形成在第一格栅110上的包括具有特定节距A、宽度C和高度D的至少一个第二格栅112的第二格栅层。特别地，优选第一格栅110和第二格栅112形成为使第一格栅110的宽度F与第二格栅112的宽度C之比满足F∶C＝1∶(0.2至1.5)。
另外，第二格栅112由金属材料制成，并且可形成为使得第二格栅的宽度C与第二格栅之间的间隔B之比满足C∶B＝1∶(0.2至1.5)，第二格栅的宽度C与第二格栅的高度D之比满足C∶D＝1∶(1至5)，或者第二格栅的节距A与第二格栅的高度D之比满足A∶D＝1∶(1至5)。上述结构可以使透射率、亮度和偏振效率最大化。在该情况下，优选第二格栅112的节距A为50nm至1μm。
特别地，下文参考图3描述透射率提高程度的测量结果，其中仅考虑第二格栅112的节距A与第二格栅的高度D之比。
图3显示当在本发明的一个优选实例中第二格栅的节距A与第二格栅的高度D之比满足A∶D＝1∶(1至5)时的测量结果。
图3(a)显示在第二格栅112的高度D为100至150nm并且第二格栅112的节距A为100至200nm的情况下，随着第二格栅112的宽度C减少的透射率。
另外，图3(b)显示在第二格栅112的高度D为151至200nm并且第二格栅112的节距A为100至200nm的情况下，随着第二格栅112的宽度C减少的透射率。
另外，图3(c)显示在第二格栅112的高度D为201至300nm并且第二格栅112的节距A为100至200nm的情况下，随着第二格栅112的宽度C减少的透射率。也就是说，从图3(a)、3(b)和3(c)中可见，当第二格栅112的高度D在A∶D＝1∶(1至5)的范围内恒定时透射率随格栅112的宽度C逐渐减小而增加。
例如，图4显示当透射率为40至60％、优选50％时的高亮度。相应地，可以看出，如果第一和第二格栅110和112形成为具有上述高度E和D以及上述宽度F和C、或第二格栅112形成为具有上述节距A，则可以获得高透射率。
此外，表2显示根据本发明第二格栅112的节距A的透射率和偏振效率。nm
表2
 第二格栅的节距(A)   100nm   120nm   150nm   200nm   250nm
  透射率(％)   57.66   57.42   56.60   52.4   66.9
  偏振效率   99.9933   99.9853   99.9733   99.7735   99.279
最大光学效果可以通过控制根据本发明的第一格栅的结构以及根据本发明的第二格栅的结构来实现。为此，特别地，根据本发明的第一格栅110由聚合物材料制成，并且优选形成为使得第一格栅的宽度F与第一格栅之间的间隔G之比满足F∶G＝1∶(0.2至1.5)，或者第一格栅的宽度F与第一格栅的高度E之比满足F∶E＝1∶(0.2至5)。另外，根据本发明的第一格栅可形成为具有50nm至1μm的节距H。
根据本发明第一格栅和第二格栅可以形成为具有多种形式，例如条、曲线、四边形和三角形。也就是说，第一和第二格栅的各自的横横截面可以具有多种形式，例如圆形、椭圆形或多边形。
根据本发明的制造线格栅偏振器的方法在下文参考图5至7描述。图5至7显示根据本发明的制造线格栅偏振器的方法。在本实施方案中，描述了其中第一格栅和第二格栅各自形成为具有条状的实例。
根据本发明的制造线格栅偏振器的方法包括第一步骤：通过加工堆叠在基材100上的第一格栅基础层122形成多个第一格栅110，所述多个第一格栅110每个均具有特定节距；第二步骤：在所述第一格栅上形成第二格栅基础层124；和第三步骤：通过蚀刻第二格栅基础层124形成多个第二格栅112。
特别地，在该情况下，优选第一格栅的宽度F与第二格栅C的宽度之比满足F∶C＝1∶(0.2至1.5)。
参考图5，首先，在根据本发明的制造方法的第一步骤中，第一格栅基础层122通过将聚合物材料(例如UV树脂)涂覆在基材100上来形成。接下来，将具有沟槽126和突出部128的压印模具120在其上涂有第一格栅基础层122的基材100上对准。在本文中，压印模具120的多个沟槽126以特定间隔彼此间隔开并且重复形成，并且压印模具120的多个突出部128以特定间隔彼此间隔开并且重复形成。此外，压印模具120的沟槽126与其中分别形成第一格栅110的各个位置相对应。
在该情况下，压印模具120的每个沟槽126的高度和宽度与第一格栅的宽度F和高度E相对应。优选地，压印模具120的沟槽126的高度和宽度满足F∶E＝1∶(0.2至5)(即根据本发明的第一格栅的高度E与第一格栅的宽度F之比)。
也就是说，在利用压印模具形成第一格栅的情况下，优选地，在第一格栅的结构(即压印模具的结果)中，压印沟槽和高度可以控制为使得第一格栅的宽度F与第一格栅之间的间隔G之比满足F∶G＝1∶(0.2至1.5)，或者第一格栅的宽度F与第一格栅的高度E之比满足F∶E＝1∶(0.2至5)。
此外，压印模具120的沟槽126形成为条状。对形成第一格栅基础层的聚合物材料122加压，使其与压印模具120的沟槽126接触并随后经受UV辐射。相应地，多个第一格栅110形成在其中聚合物材料122与压印模具120的沟槽126相对应的部分中。
接下来，如图6所示，将第二格栅基础层124(即金属层)沉积在其中形成多个第一格栅110的基材100上。如图7所示，蚀刻第二格栅基础层124以在第一格栅110上形成第二格栅112。
更具体而言，在沉积在基材100(其中形成多个第一格栅110)上的第二格栅基础层124(即金属层)上进行湿式蚀刻过程，由此形成第二格栅112。
此外，优选地，进行湿式蚀刻，使得第二格栅的宽度C与第二格栅之间的间隔B之比满足C∶B＝1∶(0.2至1.5)，第二格栅的宽度C与第二格栅的高度D之比满足C∶D＝1∶(1至5)，或者第二格栅的节距A与第二格栅的高度D之比满足A∶D＝1∶(1至5)。相应地，完成其中第二格栅112分别形成在基材100上的第一格栅110上的线格栅偏振器。
如上文关于图5至7所述的，包括第一和第二格栅110和112的线格栅偏振器可以只利用压印过程、沉积过程和湿式蚀刻过程来制造。由于制造方法步骤可以如上所述地减少，所以可以减少制造成本并且能够进行大批量生产。
另一方面，图8是显示其中线格栅偏振器的第一格栅140具有半圆形曲线而非条状的实例的横截面视图。图9至11是示出图8中显示的制造线格栅偏振器的方法的图。图9至11中显示的过程和结构与图2和5至7中的相同，并且省略其说明。然而，在其中第一格栅的横横截面具有半圆形或半椭圆形且第一格栅的外表面具有曲面的情况下，第一格栅的宽度F和第一格栅之间的间隔G基于从第一格栅的半高度E和第一格栅的曲面相互接触的点的水平线的点向下画的垂直线来限定。
此外，如图12中显示的结构中一样，第一格栅110可具有条状，而第二格栅的横截面可以具有圆形或椭圆形。线格栅偏振器，例如图12中显示的，可以通过顺序形成第一格栅110和第二格栅基础层然后控制湿式蚀刻过程来实施。
图13显示本发明的另一实施方案。在其中本发明的一个优选实施方案中第一格栅的宽度F与第二格栅的宽度C满足F∶C＝1∶(0.2至1.5)的情况下，第二格栅的宽度C可以比第一格栅的宽度F宽，如图13所示。也就是说，图13显示其中第二格栅的宽度C为第一格栅的宽度F的1至1.5倍的结构。在该情况下，第二格栅的外表面可具有椭圆形曲面、条状或四边形形状。
图14是显示包括根据本发明的线格栅偏振器的液晶装置的横截面视图。
参考图14，根据本发明一个实施方案的液晶装置包括液晶显示板200、用于向液晶显示板200提供光的背光单元230、和线格栅偏振器。线格栅偏振器图案化在液晶显示板200的上部或下部上，或在背光单元230中包括的光学片的任一表面上。背光单元230包括光源232、配置为扩散由光源232产生的光的扩散片236和置于光源232下方的反射片234。
光源232可由冷阴极荧光灯(CCFL)、外电极荧光灯(EEFL)和发光二极管(LED)中的任一种形成。光源232产生光，并且朝扩散片236输出光。
反射片234由具有高反射率的材料制成。反射片234起反射在与液晶显示板200相反的方向上朝扩散片236传播的光的作用，以减少光损失。
扩散片236将从光源232接收的光导向液晶显示板200的前方，并且以在宽范围内具有均匀分布的方式扩散光，使得光照射到液晶显示板200。优选使用由两面均涂有用于光扩散的构件的透明树脂制成的膜作为扩散片236。
液晶显示板200包括滤色器基材212和与滤色器基材212结合的薄膜晶体管基材210，其间插有液晶层202。
包括配置为防止光泄露的黑色基质、配置为实现色彩的滤色器、配置为沿像素电极形成垂直电场的公共电极、和涂在电极上用于使液晶取向的上取向膜的滤色器阵列形成在滤色器基材212的上基材上。此外，包括形成为彼此相交的栅极线和数据线、各自形成在栅极线和数据线相交点处的薄膜晶体管、与薄膜晶体管连接的像素电极、和涂覆在像素电极和薄膜晶体管上用于使液晶取向的下取向膜的薄膜晶体管阵列形成在薄膜晶体管基材210的下基材上。
尽管已经结合附图中示出的本发明实施方案描述了本发明，但是其不限于此。本领域的技术人员明显知道，可以对其进行多种替代、修改和变化，而不脱离本发明的范围和精神。
如图14所示，根据本发明的线格栅偏振器可形成在液晶显示板200的下方，或者可以形成在液晶显示板200的上部之上，或者在背光单元230中包括的光学片的任一表面上。
此外，根据本发明的线格栅偏振器可以附着至液晶模块的表面，如图所示。多个线格栅偏振器可以以一定的间隔布置。而且，第二格栅可以朝上或朝下取向。
此外，根据本发明的线格栅偏振器包括以特定间隔布置在液晶显示板200的下部上的第一格栅110和在第一格栅110上形成的第二格栅112。
除了上述液晶装置之外，根据本发明的线格栅偏振器可应用于能够实现3D立体图像的显示装置。相应地，根据本发明的线格栅偏振器可广泛用于实施高亮度和实现高可靠性。

Claims (17)

1.一种线格栅偏振器，包括：
基材上的第一格栅层，所述第一格栅层包括具有特定节距和高度的至少一个第一格栅；和
在所述第一格栅上的第二格栅层，所述第二格栅层包括具有特定节距和高度的至少一个第二格栅，
其中所述第一格栅的宽度与所述第二格栅的宽度之比满足1∶(0.2至1.5)。
2.根据权利要求1所述的线格栅偏振器，其中：
所述第一格栅和所述第一格栅层由聚合物材料制成，和
所述第二格栅由金属材料制成。
3.根据权利要求2所述的线格栅偏振器，其中所述第二格栅的宽度对于所述第二格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)。
4.根据权利要求2所述的线格栅偏振器，其中所述第二格栅的宽度与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)。
5.根据权利要求2所述的线格栅偏振器，其中所述第二格栅的节距与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的线格栅偏振器，其中所述第一格栅的宽度对于所述第一格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)。
7.根据权利要求6所述的线格栅偏振器，其中所述第一格栅的宽度与所述第一格栅的高度之比满足1∶(0.2至5)。
8.根据权利要求1所述的线格栅偏振器，其中所述第二格栅的节距或所述第一格栅的节距为50nm至1μm。
9.根据权利要求8所述的线格栅偏振器，其中所述第一和第二格栅的各自的横截面为圆形、椭圆形或多边形。
10.一种制造线格栅偏振器的方法，所述方法包括：
第一步骤：通过加工堆叠在基材上的第一格栅基础层形成多个第一格栅，所述多个第一格栅每个均具有特定节距；
第二步骤：在所述第一格栅上形成第二格栅基础层；和
第三步骤：通过蚀刻所述第二格栅基础层形成多个第二格栅，其中所述第一格栅的宽度与所述第二格栅的宽度之比满足1∶(0.2至1.5)。
11.根据权利要求10所述的方法，其中在所述第一步骤中，通过挤压具有多个沟槽的压印模具，在由聚合物材料制成的所述第一格栅基础层上与所述多个沟槽分别对应的区域中形成所述多个第一格栅。
12.根据权利要求10所述的方法，其中在所述第二步骤中，通过沉积过程形成由金属材料制成的材料层。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的方法，其中在所述第一步骤中，所述第一格栅形成为使得所述第一格栅的宽度对于所述第一格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)、或所述第一格栅的宽度与所述第一格栅的高度之比满足1∶(0.2至5)。
14.根据权利要求13所述的方法，其中：
利用湿式蚀刻过程实施所述第三步骤，和
利用蚀刻过程实施所述第三步骤，使得所述第二格栅的宽度对于所述第二格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)，所述第二格栅的宽度与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)，或者所述第二格栅的节距与所述第二格栅的高度之比满足1∶(1至5)。
15.一种液晶装置，包括：
液晶显示板；
背光单元，所述背光单元配置为向所述液晶显示板提供光；和
根据权利要求1至5中任一项所述的线格栅偏振器，其中所述线格栅偏振器形成在所述液晶显示板的上部或下部上、或者形成在所述背光单元中包括的多个光学片的任一表面上，并且配置为提高光效率。
16.根据权利要求15所述的液晶装置，其中所述线格栅偏振器形成为使得所述第一格栅的宽度对于所述第一格栅之间的间隔之比满足1∶(0.2至1.5)、或所述第一格栅的宽度与所述第一格栅的高度之比满足1∶(0.2至5)。
17.一种3D立体图像显示装置，包括根据权利要求1至5中任一项所述的线格栅偏振器。
CN2010800162627A 2009-04-10 2010-04-12 线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、包括线格栅偏振器的3d立体图像显示装置和制造线格栅偏振器的方法 Pending CN102549482A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2009-0031463 2009-04-10
KR1020090031463A KR101610376B1 (ko) 2009-04-10 2009-04-10 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
PCT/KR2010/002236 WO2010117249A2 (ko) 2009-04-10 2010-04-12 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 액정 표시 장치, 3차원 입체영상 디스플레이장치 및 와이어 그리드 편광자의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102549482A true CN102549482A (zh) 2012-07-04

Family

ID=42936752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010800162627A Pending CN102549482A (zh) 2009-04-10 2010-04-12 线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、包括线格栅偏振器的3d立体图像显示装置和制造线格栅偏振器的方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9599762B2 (zh)
JP (1) JP2012523582A (zh)
KR (1) KR101610376B1 (zh)
CN (1) CN102549482A (zh)
WO (1) WO2010117249A2 (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105074554A (zh) * 2013-01-03 2015-11-18 英派尔科技开发有限公司 包括无机部件的显示设备及其制作方法和使用方法
CN107167863A (zh) * 2017-07-07 2017-09-15 深圳市华星光电技术有限公司 纳米线栅偏光片的制作方法
CN109471289A (zh) * 2017-09-07 2019-03-15 三星Sdi株式会社 偏振片和包括其的光学显示器
CN110927721A (zh) * 2018-08-31 2020-03-27 麦格纳覆盖件有限公司 反射表面后面的汽车雷达/激光雷达
US10802189B2 (en) 2017-09-22 2020-10-13 Au Optronics Corporation Wire grid polarizer and display panel using the same
WO2022001447A1 (zh) * 2020-06-30 2022-01-06 京东方科技集团股份有限公司 一种线栅偏光片及其制造方法
WO2022001449A1 (zh) * 2020-06-29 2022-01-06 京东方科技集团股份有限公司 金属线栅偏振器及其制作方法、显示装置
CN116053288A (zh) * 2023-01-28 2023-05-02 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种图像传感器及其制作方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8960915B2 (en) * 2010-03-30 2015-02-24 Nec Corporation Optical element, light source device, and projection display device
KR20130118729A (ko) * 2010-04-27 2013-10-30 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시건 플라스몬 컬러 필터 및 태양광 기능을 가지는 디스플레이 장치
KR20120032776A (ko) * 2010-09-29 2012-04-06 엘지이노텍 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 이를 포함하는 백라이트유닛
KR101319444B1 (ko) * 2010-10-20 2013-10-17 엘지이노텍 주식회사 액정표시장치
US20150077851A1 (en) * 2010-12-30 2015-03-19 Moxtek, Inc. Multi-layer absorptive wire grid polarizer
US8552439B2 (en) * 2011-04-07 2013-10-08 Himax Display, Inc. Light-emitting diode package
WO2012145677A2 (en) 2011-04-20 2012-10-26 The Regents Of The University Of Michigan Spectrum filtering for visual displays and imaging having minimal angle dependence
KR101775163B1 (ko) * 2011-07-28 2017-09-05 엘지이노텍 주식회사 나노 임프린트용 몰드 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 나노 임프린트용 몰드
FR2994602B1 (fr) * 2012-08-16 2014-09-12 Commissariat Energie Atomique Dispositif de filtrage spectral dans les domaines visible et infrarouge
KR20140030382A (ko) 2012-08-27 2014-03-12 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
US9547107B2 (en) 2013-03-15 2017-01-17 The Regents Of The University Of Michigan Dye and pigment-free structural colors and angle-insensitive spectrum filters
AU2013100685B4 (en) * 2013-05-21 2013-09-12 Innovia Security Pty Ltd Optical device including vertical pixels
JP5929860B2 (ja) 2013-09-24 2016-06-08 ウシオ電機株式会社 グリッド偏光素子製造方法
WO2015060941A1 (en) * 2013-10-24 2015-04-30 Moxtek, Inc. Polarizer with wire pair over rib
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
US10447040B2 (en) 2014-10-15 2019-10-15 Cummins Power Generation Ip, Inc. Programmable inverter for controllable grid response
KR20160049162A (ko) * 2014-10-24 2016-05-09 삼성디스플레이 주식회사 몰드의 제조 방법 및 편광 소자의 제조 방법
KR20170062590A (ko) * 2015-11-27 2017-06-08 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광판 및 이의 제조방법
KR102567008B1 (ko) * 2016-03-18 2023-08-14 삼성디스플레이 주식회사 금속선 편광자를 포함하는 표시 장치 및 그 제조 방법
JP6720625B2 (ja) * 2016-03-25 2020-07-08 大日本印刷株式会社 偏光子及び偏光子の製造方法
JP6230689B1 (ja) * 2016-12-28 2017-11-15 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP7226936B2 (ja) * 2018-07-26 2023-02-21 デクセリアルズ株式会社 偏光板及び光学機器
US20200041807A1 (en) * 2018-08-02 2020-02-06 Christie Digital Systems Usa, Inc. Light emitting diode display with a monolithic wire-grid polarizer for producing three-dimensional images
CN109031507B (zh) * 2018-08-15 2020-01-24 京东方科技集团股份有限公司 导光板及其制造方法、背光模组及显示装置
PH12020050192A1 (en) * 2019-07-17 2021-05-17 Moxtek Inc Reflective wire grid polarizer with transparent cap
KR102703701B1 (ko) * 2021-11-02 2024-09-05 한국과학기술원 니켈 스탬프 및 이의 제조 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1497273A (zh) * 2002-10-15 2004-05-19 伊斯曼柯达公司 线栅偏振器
CN1520524A (zh) * 2001-04-26 2004-08-11 日本板硝子株式会社 偏光元件及其制造方法
CN1952700A (zh) * 2005-10-17 2007-04-25 旭化成株式会社 线栅偏振片及其制造方法
CN101080656A (zh) * 2004-12-16 2007-11-28 东丽株式会社 偏振光片、其制造方法和使用该偏振光片的液晶显示装置
US20080094547A1 (en) * 2006-10-20 2008-04-24 Tatsuya Sugita Wire grid polarized and liquid crystal display device using the same
US20080278811A1 (en) * 2004-12-06 2008-11-13 Perkins Raymond T Selectively Absorptive Wire-Grid Polarizer

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3293331A (en) * 1962-11-13 1966-12-20 Little Inc A Method of forming replicas of contoured substrates
DE60325555D1 (de) * 2002-02-12 2009-02-12 Oc Oerlikon Balzers Ag Optisches bauteil mit submikrometer-hohlräumen
KR100483352B1 (ko) * 2004-07-27 2005-04-14 (주)파버나인 박판 편광판과 위상차판을 구비한 액정표시장치
TWI256491B (en) 2004-07-27 2006-06-11 Pavonine Inc Liquid crystal display device having thin polarizing film and thin phase retardation film
JP4442760B2 (ja) * 2004-08-06 2010-03-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 無機物の選択的パターン形成方法及びグリッド型偏光素子
US20060056024A1 (en) 2004-09-15 2006-03-16 Ahn Seh W Wire grid polarizer and manufacturing method thereof
US7570424B2 (en) * 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
KR100656999B1 (ko) 2005-01-19 2006-12-13 엘지전자 주식회사 선 격자 편광필름 및 선 격자 편광필름의 격자제조용 몰드제작방법
KR20090006066A (ko) 2006-04-07 2009-01-14 아사히 가라스 가부시키가이샤 와이어 그리드형 편광자 및 그 제조 방법
JP5933910B2 (ja) * 2006-08-15 2016-06-15 ポラリゼーション ソリューションズ エルエルシー 偏光子薄膜及びこの製作方法
US8755113B2 (en) * 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
JP4520445B2 (ja) * 2006-10-11 2010-08-04 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光板
JP2008181113A (ja) 2006-12-27 2008-08-07 Toray Ind Inc 反射型偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
US8027086B2 (en) * 2007-04-10 2011-09-27 The Regents Of The University Of Michigan Roll to roll nanoimprint lithography
JP5069036B2 (ja) 2007-04-16 2012-11-07 旭化成イーマテリアルズ株式会社 高偏光度を持つ偏光板
KR100922186B1 (ko) 2007-06-18 2009-10-19 미래나노텍(주) 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
KR100980284B1 (ko) 2007-09-07 2010-09-06 미래나노텍(주) 접착력이 향상된 나노 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법
JP2009075265A (ja) 2007-09-19 2009-04-09 Nippon Zeon Co Ltd グリッド偏光フィルムの製造方法
KR101457254B1 (ko) * 2007-09-28 2014-10-31 아사히 가라스 가부시키가이샤 광경화성 조성물, 미세 패턴 형성체의 제조 방법 및 광학 소자
JP5206029B2 (ja) 2008-03-04 2013-06-12 ソニー株式会社 液晶表示装置
KR100952137B1 (ko) 2008-04-18 2010-04-09 실리콘 디스플레이 (주) 입체 영상 디스플레이 장치 및 그 제조방법
KR20110031440A (ko) 2008-07-10 2011-03-28 아사히 가라스 가부시키가이샤 와이어 그리드형 편광자 및 그 제조 방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1520524A (zh) * 2001-04-26 2004-08-11 日本板硝子株式会社 偏光元件及其制造方法
CN1497273A (zh) * 2002-10-15 2004-05-19 伊斯曼柯达公司 线栅偏振器
US20080278811A1 (en) * 2004-12-06 2008-11-13 Perkins Raymond T Selectively Absorptive Wire-Grid Polarizer
CN101080656A (zh) * 2004-12-16 2007-11-28 东丽株式会社 偏振光片、其制造方法和使用该偏振光片的液晶显示装置
CN1952700A (zh) * 2005-10-17 2007-04-25 旭化成株式会社 线栅偏振片及其制造方法
US20080094547A1 (en) * 2006-10-20 2008-04-24 Tatsuya Sugita Wire grid polarized and liquid crystal display device using the same

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9261730B2 (en) 2013-01-03 2016-02-16 Empire Technology Development Llc Display devices including inorganic components and methods of making and using the same
CN105074554B (zh) * 2013-01-03 2018-04-17 英派尔科技开发有限公司 包括无机部件的显示设备及其制作方法和使用方法
CN105074554A (zh) * 2013-01-03 2015-11-18 英派尔科技开发有限公司 包括无机部件的显示设备及其制作方法和使用方法
CN107167863A (zh) * 2017-07-07 2017-09-15 深圳市华星光电技术有限公司 纳米线栅偏光片的制作方法
CN107167863B (zh) * 2017-07-07 2019-09-10 深圳市华星光电技术有限公司 纳米线栅偏光片的制作方法
CN109471289B (zh) * 2017-09-07 2021-10-22 三星Sdi株式会社 偏振片和包括其的光学显示器
CN109471289A (zh) * 2017-09-07 2019-03-15 三星Sdi株式会社 偏振片和包括其的光学显示器
US10802189B2 (en) 2017-09-22 2020-10-13 Au Optronics Corporation Wire grid polarizer and display panel using the same
CN110927721A (zh) * 2018-08-31 2020-03-27 麦格纳覆盖件有限公司 反射表面后面的汽车雷达/激光雷达
WO2022001449A1 (zh) * 2020-06-29 2022-01-06 京东方科技集团股份有限公司 金属线栅偏振器及其制作方法、显示装置
CN113933924A (zh) * 2020-06-29 2022-01-14 京东方科技集团股份有限公司 金属线栅偏振器及其制作方法、显示装置
WO2022001447A1 (zh) * 2020-06-30 2022-01-06 京东方科技集团股份有限公司 一种线栅偏光片及其制造方法
CN116053288A (zh) * 2023-01-28 2023-05-02 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种图像传感器及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012523582A (ja) 2012-10-04
WO2010117249A2 (ko) 2010-10-14
KR101610376B1 (ko) 2016-04-08
US9599762B2 (en) 2017-03-21
US20120086887A1 (en) 2012-04-12
WO2010117249A3 (ko) 2011-01-20
KR20100112926A (ko) 2010-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102549482A (zh) 线格栅偏振器、包括线格栅偏振器的液晶装置、包括线格栅偏振器的3d立体图像显示装置和制造线格栅偏振器的方法
US11237429B2 (en) Light guiding assembly and fabricating method thereof, backlight module and display device
EP2523038B1 (en) Color filter substrate capable of polarizing and manufacturing method thereof
US9645439B2 (en) Wire grid polarizer and method for fabricating thereof, liquid crystal display panel and liquid crystal display device having the same
WO2017140077A1 (zh) 可切换防窥装置及其制备方法、显示装置
KR100659249B1 (ko) Ｏｃｂ모드 반투과 반사형 액정표시장치
WO2017020518A1 (zh) 阵列基板、液晶显示面板及显示装置
CN100510859C (zh) 反射型显示器和生产该显示器的方法
US9703027B2 (en) Wire grid polarizer, liquid crystal display having the same and method of manufacturing the same
JP2006201782A (ja) ワイヤグリッド偏光フィルム、偏光フィルムの製造方法、これを用いた液晶ディスプレイ及びワイヤグリッド偏光フィルムのグリッド製造用モールドの製造方法
CN101782218B (zh) 导光板、背光模组以及光线传导方法
KR102248876B1 (ko) 표시장치 어레이 기판 및 표시장치
KR20160061416A (ko) 내로우 베젤 액정 디스플레이의 팬아웃 영역 구조
CN111183316A (zh) 包括光栅的光导
US20160033701A1 (en) Wire grid polarizer and method of fabricating the same
KR101714035B1 (ko) 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 액정 표시 장치, 3차원 입체영상 디스플레이장치 및 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
KR20120032776A (ko) 와이어 그리드 편광자 및 이를 포함하는 백라이트유닛
CN102879947B (zh) 彩色滤光片及其制造方法,半透半反式液晶显示装置
US9188729B2 (en) Prism sheet, backlight unit including the same, and method of manufacturing the same
CN105652510B (zh) 显示面板及其制造方法、显示装置
EP3428519B1 (en) Backlight unit and display device including the same
TWI408419B (zh) 光學薄膜及具有此種薄膜之顯示裝置
US20090174837A1 (en) Structure for Increasing the Efficiency of Light Utilization and Luminance of a Display
KR20150102132A (ko) 표시장치용 복합 기판, 이를 갖는 표시장치 및 그 제조방법
KR101826719B1 (ko) 도광판 및 이를 포함하는 액정표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20120704