CN102527858B - 一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺 - Google Patents

一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，是通过以下的步骤实现的：(1)确定两卷待接取向硅钢带尺寸，将两卷待接取向硅钢带的带头搭接在一起，后卷带头在上，前卷带头在下；(2)将两卷带头的搭接部分进行压制，在所述搭接部分压制两条与取向硅钢带运动方向垂直的等距但不连续的圆弧形下凹槽；(3)在每一个圆弧形下凹部分的通道中穿一条钢带条，钢带条长度与搭接部分的取向硅钢带的宽度和材质相同。本发明接带速度快、接头牢靠光滑、所穿钢带条的取材方便、操作简单。

Description

一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺
技术领域
本发明涉及一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，应用于取向硅钢带的连续生产，属功能性磁性材料技术领域。
背景技术
取向硅钢带是一种新型的功能性磁性材料，由于它电阻大，所以，运行过程中，铁芯上消耗的电能小；由于它的磁化具有强烈的方向性，所以，所需方向上的磁感高，铁芯的利用率高，运行效率高，冷轧取向硅钢带是变压器、互感器等电磁定向转换产品中最关键最主要的铁芯材料，冷轧取向硅钢带的生产技术水平，直接关系到国家大量变压器的升级换代，直接关系到国家能源的利用效率，它与国民经济的持续发展和人民生活息息相关。根据中国金属学会电工钢分会《2010中国电工钢产业发展年度报告》披露，2010年国内共消耗取向硅钢带78.6万吨，其中进口23.6万吨，进口占国内总消耗量的30％，冷轧取向硅钢带是国家长期政策扶持的产品。冷轧取向硅钢带生产工艺复杂、参数窗口窄、工序过程长、技术含量高而被誉为钢铁产品中的工艺品。
取向硅钢带的热拉伸退火涂漆是在连续生产线上进行的，即一卷钢带处理结束前，把另一卷钢带接上，从而使钢带的处理得以延续。钢带的连接通常有电焊、气焊和铆接等连接方法。但对取向硅钢带来说，这些连接方法不是行不通，就是不适合。因为：一是取向硅钢带经高温退火处理后，钢带表面有一层绝缘的硅酸镁(Mg2SiO4)底层，因此，取向硅钢带就无法用电极的方法进行焊接；二是取向硅钢带很薄，一般公称厚度只有0.23～0.35mm，如果用气焊的方法进行接带，很容易被高温火焰把钢带吹穿，且气焊的速度太慢，工艺上不允许；三是取向硅钢带接带后需进行800℃～850℃的高温处理，如果用铆接的方法进行接带，铆接点少，则钢带在有拉力的情况下，铆接处钢带的局部应力太大，钢带在高温下容易拉豁；铆接点多，则铆接处钢带的断面面积减小，钢带在高温下容易拉断；铆接的铆钉凸出在钢带表面，在钢带的运行过程中，凸出的铆钉会损坏高温下的炉底辊。
因此，表面已生成绝缘的硅酸镁(Mg2SiO4)底层的取向硅钢带的接带，是取向硅钢生产工艺中关键的技术之一。
发明内容
本发明提供一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，提高工作效率，连接处强度高，不损坏带材，连接处平整光滑。
本发明是通过以下的技术方案实现的：
一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，将待接带的两卷取向硅钢带采用以下的工艺技术与参数：
(1)将待接的两卷取向硅钢带的带头搭接在一起，后卷带头在上，前卷带头在下：
待接的取向硅钢带宽度为600～650mm；
待接的取向硅钢带厚度为0.28～0.30mm；
(2)将两卷带头的搭接部分放在压机模具中间进行压制，在所述搭接部分压制出两条与取向硅钢带运动方向垂直的等距但不连续的圆弧形下凹槽。
所述搭接部分重叠长度为220～270mm；
(3)在每一个圆弧形下凹部分的通道中穿一条钢带条，钢带条长度与搭接部分的取向硅钢带的宽度相同，所述钢带条的厚度和材质与待接的两卷取向硅钢带相同。
所述步骤(2)中两条圆弧形下凹槽中心之间的间距为120～150mm。
所述步骤(2)中的圆弧形下凹部分的中心与所述搭接部分的边缘的间距为50～60mm。
所述步骤(2)中圆弧形下凹部分的宽度为20mm。
所述步骤(2)中每一条连接带中的每一个圆弧形下凹部分之间的宽度相等。
所述步骤(2)中圆弧形下凹部分的弦长为25mm，弦高为2～2.5mm。
所述步骤(3)中钢带条的宽度为12～14mm。
本发明的有益效果为：接带速度快、接头牢靠光滑、所穿钢带条的取材方便、操作简单。
附图说明
图1是本发明取向硅钢带带头搭接部分示意图
a-硅钢带宽度，c-搭接部分重叠长度，d-圆弧形下凹部分的中心与所述搭接部分的边缘的间距，e-圆弧形下凹部分的宽度，f-每一个圆弧形下凹部分之间的宽度，j-两条圆弧形下凹槽中心之间的间距。
图2是图1的A向视图
b-取向硅钢带厚度，g-圆弧形下凹部分的弦长，h-圆弧形下凹部分的弦高，i-钢带条的宽度。
图3是图2的B-B剖视图
具体实施方式
以下结合附图，对本发明做进一步说明。
如图1，是本发明取向硅钢带带头搭接部分示意图，在前带与后带的搭接部分压制两条与取向硅钢带运动方向垂直的圆弧形下凹槽，组成连接带形式，分别为101和102，每条连接带是由若干在同一直线上的圆弧形下凹部分2组成；如图2，是图1的A向视图，带头搭接部分是后卷带头在上，前卷带头在下，在每一个圆弧形下凹部分2的通道中穿一条钢带条3；如图3，是图2的B-B剖视图。
以下结合实施例，对本发明做进一步说明。
实施例1
1.所接表面已生成绝缘层的取向硅钢带的宽度a为650mm。
2.所接表面已生成绝缘层的取向硅钢带的厚度b为0.285mm。
3.把需接的前后二卷钢带的带头搭接在一起，后卷带头在上，前卷带头在下。
4.把搭接部分的二卷钢带的带头放在压机上的模具的中间。
5.带头搭接部分的长度c为250mm。
6.压机把带头搭接的部分压出两条与取向硅钢带运动方向垂直的等距但不连续的圆弧形下凹槽。
7.两条圆弧形下凹槽中心之间的间距j为150mm。
8.圆弧形下凹部分的中心与所述搭接部分的边缘的间距d为50mm。
9.圆弧形下凹部分的宽度e为20mm。
10.每一个圆弧形下凹部分之间的宽度f相等。
11.圆弧形下凹部分的弦长g为25mm。
12.圆弧形下凹部分的弦高h为2.5mm。
13.在每一个圆弧形下凹部分的通道中穿一条钢带条
14.钢带条长度与搭接部分的取向硅钢带的宽度相同。
15.钢带条的宽度i为14mm。
16.钢带条的厚度和材质与待接的两卷取向硅钢带相同。
实施例2
1.所接表面已生成绝缘层的取向硅钢带的宽度a为600mm。
2.所接表面已生成绝缘层的取向硅钢带的厚度b为0.295mm。
3.把需接的前后二卷钢带的带头搭接在一起，后卷带头在上，前卷带头在下。
4.把搭接部分的二卷钢带的带头放在装在压机上的模具的中间。
5.带头搭接部分的长度c为270mm。
6.压机把带头搭接的部分压出两条与取向硅钢带运动方向垂直的等距但不连续的圆弧形下凹槽。
7.两条圆弧形下凹槽中心之间的间距j为120mm。
8.圆弧形下凹部分的中心与所述搭接部分的边缘的间距d为60mm。
9.圆弧形下凹部分的宽度e为20mm。
10.每一个圆弧形下凹部分之间的宽度f相等。
11.圆弧形下凹部分的弦长g为25mm。
12.圆弧形下凹部分的弦高h为2mm。
13.在每一个圆弧形下凹部分的通道中穿一条钢带条
14.钢带条长度与搭接部分的取向硅钢带的宽度相同。
15.钢带条的宽度i为12mm。
16.钢带条的厚度和材质与待接的两卷取向硅钢带相同。
实施例3
1.所接表面已生成绝缘层的取向硅钢带的宽度a为625mm。
2.所接表面已生成绝缘层的取向硅钢带的厚度b为0.29mm。
3.把需接的前后二卷钢带的带头搭接在一起，后卷带头在上，前卷带头在下。
4.把搭接部分的二卷钢带的带头放在装在压机上的模具的中间。
5.带头搭接部分的长度c为220mm。
6.压机把带头搭接的部分压出两条与取向硅钢带运动方向垂直的等距但不连续的圆弧形下凹槽。
7.两条圆弧形下凹槽中心之间的间距j为135mm。
8.圆弧形下凹部分的中心与所述搭接部分的边缘的间距d为55mm。
9.圆弧形下凹部分的宽度e为20mm。
10.每一个圆弧形下凹部分之间的宽度f相等。
11.圆弧形下凹部分的弦长g为25mm。
12.圆弧形下凹部分的弦高h为2.25mm。
13.在每一个圆弧形下凹部分的通道中穿一条钢带条
14.钢带条长度与搭接部分的取向硅钢带的宽度相同。
15.钢带条的宽度i为13mm。
16.钢带条的厚度和材质与待接的两卷取向硅钢带相同。

Claims (7)

1.一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于将待接带的两卷取向硅钢带采用以下的工艺技术与参数：
(1)将待接的两卷取向硅钢带的带头搭接在一起，后卷带头在上，前卷带头在下：
待接的取向硅钢带宽度为600～650mm；
待接的取向硅钢带厚度为0.28～0.30mm；
(2)将两卷带头的搭接部分装载在压机模具中间进行压制，在所述搭接部分压制两条与取向硅钢带运动方向垂直的等距但不连续的圆弧形下凹槽；
所述搭接部分重叠长度为220～270mm；
(3)在每一个所述圆弧形下凹槽的圆弧形下凹部分的通道中穿一条钢带条，所述一条钢带条穿过所有所述通道，钢带条长度与搭接部分的取向硅钢带的宽度相同，所述钢带条的厚度和材质与待接的两卷取向硅钢带相同。
2.如权利要求1所述的一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于所述步骤(2)中两条圆弧形下凹槽中心之间的间距为120～150mm。
3.如权利要求1所述的一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于所述步骤(2)中的圆弧形下凹部分的中心与所述搭接部分的边缘的间距为50～60mm。
4.如权利要求1所述的一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于所述步骤(2)中圆弧形下凹部分的宽度为20mm。
5.如权利要求1所述的一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于所述步骤(2)中每一条连接带中的每一个圆弧形下凹部分之间的宽度相等。
6.如权利要求1所述的一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于所述步骤(2)中圆弧形下凹部分的弦长为25mm，弦高为2～2.5mm。
7.如权利要求1所述的一种表面已生成绝缘硅酸镁底层的取向硅钢带的接带工艺，其特征在于所述步骤(3)中钢带条的宽度为12～14mm。
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