CN102522287B - 等离子显示屏的制备方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种等离子显示屏制备方法及方法。该方法包括以下步骤：将上基板和下基板涂覆有粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内；对涂覆有粘结剂的上基板和下基板进行第一次升温-降温处理，并同时对密闭空间进行第一次抽真空处理；将降温后的上基板翻转180度，与下基板对合在一起，并对密闭空间进行第二次抽真空处理；向密闭空间内充入工作气体；使充入工作气体后上基板与下基板封接在一起。由本发明提供的等离子显示屏制备方法及设备，通过将等离子显示屏的封装步骤在抽真空条件下进行，使得高温下等离子显示屏玻璃基板中受热分解的杂质气体被排除，减少了安装排气孔的步骤，保证了基板玻璃的洁净，减少了污染，提高了产品质量。

Description

等离子显示屏的制备方法及装置

技术领域

本发明属于等离子显示屏领域，尤其涉及一种等离子显示屏的制备方法及装置。

背景技术

目前通用的交流气体放电等离子显示屏均采用表面放电型结构，包括一个上基板及与之封接在一起的下基板，上基板上配置有透明电极ITO和汇流电极，透明电极和汇流电极构成放电电极，放电电极包括维持放电电极X和扫描放电电极Y，在放电电极的表面覆盖有一层介质层，介质层上覆盖保护层该保护层是氧化镁膜。下基板上配置有与放电电极相互垂直的寻址电极，寻址电极上覆盖一层介质层，介质层上配置有与其寻址电极平行的条状障壁，且在条状障壁的底部覆盖有荧光粉层，前下基板用低熔点玻璃粉封接在一起，并且在其间充有放电气体。

现有的PDP显示屏面板制作过程中，在屏的下基板的有效面之外的部分设有一个小孔，用以安装排气管，排气管周围涂覆低玻粉浆料，屏封接时，排气管与屏连接在一起。封排设备的真空系统，依靠它，将屏内的杂质气体抽出，把工作气体充入屏内。

这种排气管的制作工艺复杂,制作成本高，且生产效率低。如果能够省略该排气管的制备工艺,可以降低屏的制作成本,提高生产效率,增强产品竞争力,同时提高屏的质量.本专利是一种没有排气管的屏的制作工艺技术和设备。

发明内容

为了解决现有技术中排气管的制作工艺复杂,制作成本高，且生产效率低的不足，本发明提供了一种等离子显示屏的制备方法及设备。

在本发明的一个方面，提供了一种等离子显示屏制备方法，包括以下步骤：在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘结剂，并将上基板和下基板涂覆有粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内；对涂覆有粘结剂的上基板和下基板进行第一次升温-降温处理，并在升温-降温处理的同时对密闭空间进行第一次抽真空处理；将降温后的上基板翻转180度，与下基板对合在一起，并对密闭空间进行第二次抽真空处理；完成第二次抽真空处理后，向密闭空间内充入工作气体；对充入工作气体后的上基板和下基板进行第二次升温-降温处理，使上基板与下基板封接在一起。

进一步地，上述第一次升温-降温的步骤重复运行1-3次。

进一步地，上述第一次升温-降温处理过程中，升温到420℃～490℃，保温25～58分钟，降温至360℃～400℃，保持3～7小时。

进一步地，上述第一次升温-降温处理过程中，降温步骤以2～5℃/分钟的速度进行降温。

进一步地，上述第一次抽真空处理过程中，密封空间的真空度为2.0×10-4Pa～7.8×10-4Pa；第二次抽真空处理过程中，密封空间的真空度为3.5×10-3Pa～4.0×10-3Pa。

进一步地，上述密封空间内工作气体的压力为70kPa～80kPa。

进一步地，上述第二次升温-降温处理过程中，升温至430℃～480℃，保温20～45分钟，使上下玻璃基板封接后，降温至25℃～40℃。

进一步地，上述第二次升温-降温处理过程中，升温过程是以3～4℃/分钟速度进行升温。

在本发明的另外一个方面，还提供了一种等离子显示屏制备装置，包括：箱体；安装部，设置在箱体中，用以放置等离子显示屏；抽真空系统，与箱体相连通，用以对箱体抽真空；充气系统，与箱体相连通，用以向箱体中充入工作气体；加热系统，用以加热放置在安装部上的等离子显示屏。

进一步地，上述安装部包括：第一安装部，设置在箱体中，用以放置等离子显示屏的下基板；第二安装部，设置在箱体中，位于第一安装部放置空间的上部，第二安装部相对第一安装部具有远离第一安装部的第一位置，以及靠近第一安装部的第二位置；第二安装部位于第一位置时，第二安装部相对第一安装部可翻转180度，第二安装部位于第二位置时，位于第一安装部上的下基板与位于第二安装部的上基板相接合。

在本发明的另外一个方面，还提供了一种等离子显示屏，包括上基板和下基板，等离子显示屏由上述方法制备而成，下基板不具有排气孔。

由本发明提供的等离子显示屏制备方法及设备，通过将等离子显示屏的封装步骤在抽真空条件下进行，使得高温下等离子显示屏玻璃基板中受热分解的杂质气体被排除，减少了安装排气孔的步骤，保证了基板玻璃的洁净，减少了污染，提高了产品质量。

除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。

附图说明

附图构成本说明书的一部分、用于进一步理解本发明，附图示出了本发明的优选实施例，并与说明书一起用来说明本发明的原理。图中：

图1示出了根据本发明实施例中等离子显示屏制备设备的结构示意图；

具体实施方式

应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本发明提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

在本发明的一种典型实施方式中，一种等离子显示屏制备方法，包括以下步骤：在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘结剂，并将上基板和下基板涂覆有粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内；对涂覆有粘结剂的上基板和下基板进行第一次升温-降温处理，并在第一次升温-降温处理的同时对密闭空间进行第一次抽真空处理；将降温后的上基板翻转180度，与下基板对合在一起，并对密闭空间进行第二次抽真空处理；完成第二次抽真空处理后，向密闭空间内充入工作气体；对充入工作气体后的上基板和下基板进行第二次升温-降温处理，使上基板与下基板封接在一起。

由本发明提供的等离子显示屏制备方法，通过在密闭空间中对上基板和下基板进行第一次升温-降温处理，使得上、下基板的基板玻璃中杂质气体被排除，并通过抽真空的方式将所排出的杂质气体外排，使所制备的等离子显示屏中杂质气体减少，提高了产品性能。另外，通过向密闭的环境中充入工作气体后封接上基板和下基板，减少了安装排气管的工序，降低了等离子显示屏的制备成本，并提高了生产效率。

优选地，在上述制备等离子显示屏的制备方法中，第一次升温-降温的步骤重复运行1-3次。重复第一次升温-降温的步骤，有利于使得上基板和下基板的基板玻璃中的杂质气体被排除，在第一次升温-降温的步骤运行的同时，运行抽真空的步骤，使得所排出的杂质气体被从密闭空间排除。这种抽真空的方式，能够有效地收集杂质气体，避免其流入大气中，减少了对环境的污染。

优选地，上述第一次升温-降温处理过程中，升温到420℃～490℃，保温25～58分钟，降温至360℃～400℃，保持3～7小时。该温度使粘接剂中的有机物充分挥发，同时又不会使高温时间过长，影响屏的特性。更为优选地，第一次升温-降温处理过程中，降温步骤以2～5℃/分钟的速度进行降温。降温速度过快，过慢都影响屏的特性。过快玻璃基板容易破裂，过慢容易对屏造成污染。该参数为最佳。

优选地，上述第一次抽真空处理过程中，密封空间的真空度为2.0×10^-4Pa～7.8×10^-4Pa；第二次抽真空处理过程中，密封空间的真空度为3.5×10^-3Pa～4.0×10^-3Pa。该真空度能够使屏的杂质气体充分排净。优选地，上述密封空间内工作气体的压力为70kPa～80kPa。将工作气体的压力设定在该范围内有利保证所制备的等离子显示屏中工作气体的压力，进而达到使用要求。

优选地，上述第二次升温-降温处理过程中，升温至430℃～480℃，保温20～45分钟，使上下玻璃基板封接后，降温至25℃～40℃。该温度可使屏中，障壁，荧光粉，氧化镁中的残存气体排干净，又不会减少屏寿命。更为优选地，第二次升温-降温处理过程中，升温过程是以3～4℃/分钟速度进行升温。该温度保证屏玻璃不会由于降温速度太快而破裂。

由上述方法所制备的等离子显示屏，包括上基板和下基板，且下基板不具有排气孔。这种等离子显示屏制作工艺简单，效率高，而且产品质量有明显提高。

如图1所示，在本发明的一种典型的实施方式中，等离子显示屏制备装置，包括：箱体1、安装部2、抽真空系统3、充气系统4和加热系统5。安装部2设置在箱体1中，用以放置等离子显示屏；抽真空系统3与箱体1相连通，用以对箱体1抽真空；充气系统4与箱体1相连通，用以向箱体1中充入工作气体；加热系统5用以加热放置在安装部2上的等离子显示屏。

这种装置结构简单、容易制备，且能够实现上述等离子显示屏制备，制备出不需要排气孔的等离子显示屏，降低了等离子显示屏的制备成本，并提高了生产效率，同时，还提高了等离子显示的性能。

优选地，上述制备装置中安装部2包括：第一安装部21和第二安装部23。第一安装部21设置在箱体1中，用以放置等离子显示屏的下基板；第二安装部23，设置在箱体1中位于第一安装部21放置空间的上部，第二安装部23相对第一安装部21具有远离第一安装部21的第一位置，以及靠近第一安装部21的第二位置；第二安装部23位于第一位置时，第二安装部23相对第一安装部21可翻转180度，第二安装部23位于第二位置时，位于第一安装部21上的下基板与位于第二安装部23的上基板相接合。

以下将结合具体实施例1-3，进一步说明本发明的有益效果。

实施例1

等离子显示屏：60寸。

制备方法：

在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘结剂，并将所述上基板和下基板涂覆有所述粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内

将涂覆有所述粘结剂的上基板和下基板加热到420℃，保温25分钟，然后以2℃/分钟的速度降温至360℃，保持3小时(第一次升温-降温处理)，并在第一次升温-降温处理的同时对所述密闭空间进行第一次抽真空处理，真空度为2.0×10^-4Pa。

将降温后的上基板翻转180度，与所述下基板对合在一起，并对所述密闭空间进行第二次抽真空处理，真空度为3.5×10^-3Pa。

完成第二次抽真空处理后，向所述密闭空间内充入工作气体，密闭空间中工作气体的压力为70kPa。

对充入所述工作气体后的所述上基板和下基板升温至430℃，保温20分钟，使上下玻璃基板封接后以3℃/分钟速度降温至25℃，使上基板与所述下基板封接在一起。

实施例2

等离子显示屏：60寸。

制备方法：

在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘结剂，并将所述上基板和下基板涂覆有所述粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内

将涂覆有所述粘结剂的上基板和下基板加热到490℃，保温58分钟，然后以5℃/分钟的速度降温至400℃，保持7小时(第一次升温-降温处理)，并在第一次升温-降温处理的同时对所述密闭空间进行第一次抽真空处理，真空度为7.8×10^-4Pa。重复第一次升温-降温步骤2次。

将降温后的上基板翻转180度，与所述下基板对合在一起，并对所述密闭空间进行第二次抽真空处理，真空度为4.0×10^-3Pa。

完成第二次抽真空处理后，向所述密闭空间内充入工作气体，密闭空间中工作气体的压力为80kPa。

对充入所述工作气体后的所述上基板和下基板升温至480℃，保温45分钟，使上下玻璃基板封接后以4℃/分钟速度降温至40℃，使所述上基板与所述下基板封接在一起。

实施例3

等离子显示屏：60寸。

制备方法：

在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘结剂，并将所述上基板和下基板涂覆有所述粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内

将涂覆有所述粘结剂的上基板和下基板加热到460℃，保温38分钟，然后以3℃/分钟的速度降温至380℃，保持5小时(第一次升温-降温处理)，并在第一次升温-降温处理的同时对所述密闭空间进行第一次抽真空处理，真空度为4.8×10^-4Pa。重复第一次升温-降温处理3次。

将降温后的上基板翻转180度，与所述下基板对合在一起，并对所述密闭空间进行第二次抽真空处理，真空度为3.8×10^-3Pa。

完成第二次抽真空处理后，向所述密闭空间内充入工作气体，密闭空间中工作气体的压力为75kPa。

对充入所述工作气体后的所述上基板和下基板升温至460℃，保温35分钟，使上下玻璃基板封接后以3.5℃/分钟速度降温至28℃，使所述上基板与所述下基板封接在一起。

对比例1

等离子显示屏：60寸。

制备方法：

将下基板的有效面之外的部分设一个小孔；将排气管装入到小孔中；

将上基板和安装有排气管的下基板封接在一起，形成预备屏；

利用排气管将预备屏中的杂质气体排出，并充入工作气体，形成等离子显示屏。

将实施例1-3中所制备的等离子显示屏和由对比例1所制备的等离子显示屏进行测试，测试结构如表1所示。

表1

	着火电压	灭火电压	屏发光效率
				实施例1	235V	196V	0.88
实施例2	233V	192V	0.86
				实施例3	236V	194V	0.89
对比例1	243V	198V	0.81

由表1中数据可知，本发明由于是在完全密闭的环境条件下制造屏，因此屏内减少污染，实施例1-3所制备的等离子显示屏质量明显优于对比例1所制备的等离子显示屏的质量。而且本发明所制备的饿等离子显示屏无需安装排气管，不但节省了工艺步骤，而且提高了工作效率。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种等离子显示屏制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘结剂，并将所述上基板和下基板涂覆有所述粘结剂的一侧朝上放置于密闭空间内；

对涂覆有所述粘结剂的上基板和下基板进行第一次升温-降温处理，并在所述升温-降温处理的同时对所述密闭空间进行第一次抽真空处理；

将降温后的所述上基板翻转180度，与所述下基板对合在一起，并对所述密闭空间进行第二次抽真空处理；

完成第二次抽真空处理后，向所述密闭空间内充入工作气体；

对充入所述工作气体后的所述上基板和下基板进行第二次升温-降温处理，使所述上基板与所述下基板封接在一起。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一次升温-降温处理重复运行1-3次。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第一次升温-降温处理过程中，升温到420℃～490℃，保温25～58分钟，降温至360℃～400℃，保持3～7小时。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述第一次升温-降温处理过程中，降温步骤以2～5℃/分钟的速度进行降温。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第一次抽真空处理过程中，所述密封空间的真空度为2.0×10^-4Pa～7.8×10^-4Pa；所述第二次抽真空处理过程中，所述密封空间的真空度为3.5×10^-3Pa～4.0×10^-3Pa。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述密闭空间内工作气体的压力为70kPa～80kPa。

7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第二次升温-降温处理过程中，升温至430℃～480℃，保温20～45分钟，使上下玻璃基板封接后，降温至25℃～40℃。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述第二次升温-降温处理过程中，升温过程是以3～4℃/分钟速度进行升温。

9.一种等离子显示屏制备装置，其特征在于，包括：

箱体(1)；

安装部(2)，设置在所述箱体(1)中，用以放置所述等离子显示屏；

抽真空系统(3)，与所述箱体(1)相连通，用以对所述箱体(1)抽真空；

充气系统(4)，与所述箱体(1)相连通，用以向所述箱体(1)中充入工作气体；

加热系统(5)，用以加热放置在所述安装部(2)上的等离子显示屏；其中，

所述安装部(2)包括：

第一安装部(21)，设置在所述箱体(1)中，用以放置所述等离子显示屏的下基板；

第二安装部(23)，设置在所述箱体(1)中，位于所述第一安装部(21)放置空间的上部，所述第二安装部(23)相对所述第一安装部(21)具有远离所述第一安装部(21)的第一位置，以及靠近所述第一安装部(21)的第二位置；

所述第二安装部(23)位于所述第一位置时，所述第二安装部(23)相对所述第一安装部(21)可翻转180度，所述第二安装部(23)位于所述第二位置时，位于所述第一安装部(21)上的所述下基板与位于所述第二安装部(23)的上基板相接合。

10.一种等离子显示屏，包括上基板和下基板，其特征在于，所述等离子显示屏由权利要求1-8所述的制备方法制备而成，所述下基板不具有排气孔。