具体实施方式
下面结合附图通过具体实施方式进一步详细描述本发明,但本发明并不仅仅限于此。
为了提高透明发光屏体的透视率,本发明通过改变现有OLED的发光像素单元的图形设计,将现有OLED中不透明的阴极条分段并搭接在设置于阳极层 两侧的透明导电膜条上,从而减少透明发光屏体中不透明的阴极条在OLED基板上所占的面积,增加透明发光屏体的整体透光率。
基于上述思想,本发明首先提供一种OLED,其包括基板及形成于基板上的多个像素单元,所述像素单元排列成一阵列,每个像素单元包括依次层叠的阳极层、有机功能层、和阴极层,其中阳极层由导电膜形成且位于基板侧,有机功能层包括发光层;阳极层的导电膜的上下两侧均形成有短条形导电膜,所述阴极层包括一个或多个平行、等间隔的阴极块,每个阴极块搭接在其上下两侧的短条形导电膜上;其中每个阴极块与其层叠的有机功能层和阳极层一起构成一个微发光单元。另外,位于所述阵列的同一行中的各个像素单元的阳极层的导电膜连接在一起。
在本发明的上述OLED中,为了减少每个像素单元中阴极层所占的比例,将阴极层制作成不连续的阴极块,使每个阴极块通过位于阳极层的上下两侧的短条形导电膜条而连接在一起,由此替代现有技术中的长条形的阴极条。
另外,为了增加像素单元的透光性,一种可选方式是,可以将每个像素单元中的阴极层分解成多个阴极块;另一种可选方式是,可以将每个像素单元中的阳极层的导电膜分解成为两行以上的平行的导电膜块,且在平行的导电膜块之间形成有短条形导电膜,在每个导电膜块上分别依次层叠有机功能块、和一个或多个阴极块,每个阴极块搭接在其上下两侧的短条形导电膜上;另外,也可以将上述两种方式进行组合。
本发明的OLED可以制作成透明的OLED,这时为了增加透明性,所述基板、阳极层的导电膜、有机功能层均和短条形导电膜由透明的材料形成,所述阴极块由不透明材料形成。而且,每个阴极块的最长部位的尺寸小于人眼最小分辨尺寸从而使人眼不能看到阴极块的存在。另外,在每个像素单元中,使不透明阴极块的总面积占整个像素单元的面积的10-50%。
根据本发明的上述透明的OLED,当每个像素单元包含多个微发光单元时,所述多个阴极块之间的间距大于人眼最小分辨尺寸,从而使人眼能够分辨出两个相邻的阴极块而不会将它们视为一个阴极块。在本发明的上述OLED中,每个像素单元的阴极块可以为条形、椭圆形或菱形。
关于微发光单元的尺寸(在本发明中其实主要取决于阴极层的最长部位的尺寸)根据如下公式,即人眼对特定波长光的最小分辨角进行设计。
其中λ为人眼所接受到的光的波长,D为人眼瞳孔直径,δθ为人眼的最小分辨角。
下面举例对上述公式进行说明。例如对于目视观测,通常取λ为肉眼最敏感的黄光550nm,如果设定瞳孔直径D的单位为毫米,则人眼最小分辨角δθ为140/D,这时δθ的单位为秒。以人眼的瞳孔直径D为3mm的观察者为例,则人眼最小分辨角δθ为46.67秒≈1分,其中1分=60秒。在开口角度为一分的情况下,人眼在35cm远处可分辨的两点之间的间距约为0.1mm,即
350mm×2×3.14÷(360×60)=0.1017mm≈100微米=0.1mm。
同理,在开口角度为一分的情况下,人眼在9m远处可分辨的两点之间的间距约为2mm。
因此,如果将本发明的OLED应用于视距为35cm的显示器上,则微发光单元的最长部位的尺寸设计为小于或等于0.1mm。而如果将本发明的OLED应用于户外视距较远的显示器上,根据上面公式所述,微发光单元的面积可适当放大。本发明基于此原理来确定阴极层的最长部位的最大尺寸,以减少阴极层的尺寸对OLED的透视性效果产生的影响。同理,当阴极层包括多个平行、等间隔排列的阴极块,例如条形阴极时,为了不使人眼将相邻的条形阴极看成一个条形阴极,相邻的条形阴极之间的间距要大于人眼分辨尺寸,例如在本发明的OLED应用于视距为35cm的显示器上,条形阴极之间的间距要大于0.1mm。
可选地,所述有机功能层还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层,且从靠近阳极层以空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子传输层顺序依次沉积。
可选地,所述微发光单元还可以包括位于阳极层与有机功能层之间的绝缘层。所述绝缘层例如可以采用光刻胶来形成,尤其在制作透明的OLED时,所述绝缘层可以采用透明光刻胶。本发明的透明的OLED中的微发光单元在平行于基板方向上形成阵列排布的图形,其面积和为整体基板面积的一小部分,大约为1-50%,从而使OLED的整体的透光性为50-99%。
利用本发明的透明的OLED可以制作透视性单向发光屏体,即,将本发明的透明的OLED封装,然后将所述有机电致发光器件的每个像素单元分别与驱动电路连接,所述驱动电路用于分别控制各个像素单元的发光与否。当每个像素单元包括多个微发光单元时,在同一像素单元中的微发光单元,其阳极相互连通,其阴极也相互连通,同一像素单元中的微发光单元同时控制而不 单独控制。这样可以得到具有较高透光性的单向发光屏体。
本发明的透视性单向发光屏体,如图1所示,可以具有显示信息的功能,另外,观察者10也可以透过该发光屏体20观察到该发光屏体20后面的景物30的功能。因此,本发明可以用作显示装置,也可以用作发光装置,还可以用于其它相关领域。例如,本发明可以应用于汽车前挡风玻璃或者展览馆或博物馆中的带有定向导向光的透明橱窗,即可显示一定画面,又不阻挡观察视窗。利用本发明的透明的OLED制作的透视性单向发光屏体,可以解决现有透视性单向发光屏体中电极长条容易被人眼识别从而导致透光率差的问题。
本发明的透视性单向发光屏体的屏体基板或者OLED基板可以是玻璃或是柔性基片,柔性基片可采用有机类材料,如聚酯类、聚酰亚胺、酚醛树脂类化合物中的一种或几种材料。
像素单元的阳极层可以采用无机材料或有机导电聚合物,无机材料一般为ITO、氧化锌、氧化锡锌等金属氧化物或金、铜、银等功函数较高的金属,优选为ITO,有机导电聚合物优选为聚噻吩/聚乙烯基苯磺酸钠(简称PEDOT:PSS)、聚苯胺(简称PANI)中的一种材料。
像素单元的阴极层可以采用锂、镁、钙、锶、铝、铟等功函数较低的金属或它们与铜、金、银的合金,或金属与金属氟化物交替形成的电极层,本发明优选为Al层。
像素单元的有机功能层包括发光层,还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层等功能层。所述空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子传输层从阳极层侧依序蒸镀沉积。
所述发光层的材料可采用小分子材料,也可采用聚合物材料。小分子材料可以为荧光材料,如金属有机配合物(如Alq3、Gaq3、Al(Saph-q)或Ga(Saph-q))类化合物。所述发光层的材料中还可以包括发光染料,染料一般为芳香稠环类(如rubrene)、香豆素类(如DMQA、C545T)或双吡喃类(如DCJTB、DCM)材料。
所述电子传输层的材料一般采用小分子电子传输材料,可以为金属有机配合物(如Alq3、Gaq3、Al(Saph-q)、BAlq或Ga(Saph-q))、芳香稠环类(如pentacene、苝)或邻菲咯啉类(如Bphen、BCP)化合物。
所述空穴传输层的材料一般采用芳胺类和枝聚物族类低分子材料,如N,N’-二-(1-萘基)-N,N’-二苯基-1,1-联苯基-4,4-二胺(NPB)、N,N’-二苯基-N,N’-双(间甲基苯基)-1,1’-联苯基-4,4’-二胺(TPD)等。
利用本发明的透明的OLED还可以制作触摸屏,其在本发明的透明的OLED基板的另一侧集成触摸屏膜层。所述触摸屏膜层可以采用电容式触摸屏膜层,也可以采用电阻式触摸屏膜层。
另外,本发明还提供一种制作OLED的方法,该方法包括:
对带有导电膜的基板进行清洗;
对基板上的导电膜通过掩膜、刻蚀工艺,以形成一行或多行平行、等间隔排列的长条形导电膜、并且在垂直于长条形导电膜的一条或多条等间隔的平行线上且在每条长条形导电膜的上下两侧形成短条形导电膜;
在所述长条形导电膜的夹在其上下两侧的短条形导电膜之间的区域上形成有机功能层;
在每块有机功能层上蒸镀形成阴极层,并使所述阴极层搭接在其所在的长条形导电膜的上下两侧的短条形导电膜上,所述阴极层包含一个或多个平行、等间距的阴极块;每个阴极块与其层叠的有机功能层和长条形导电膜一起形成一微发光单元。
在本发明的上述方法中,可以使每个阴极块形成为条形、椭圆形或菱形。
在本发明的上述制作OLED的方法中,在阳极层与有机功能层之间还可以通过旋涂涂胶、掩膜曝光、刻蚀的工艺制备绝缘层,例如光刻胶。另外,在蒸镀有机功能层的发光层之前,还可以从靠近阳极层依次沉积空穴注入层和空穴传输层,在蒸镀发光层之后还沉积电子传输层。
在本发明的上述制作OLED的方法中,可以使有机电致发光器件的每个像素单元包含一行长条形导电膜的一部分及依次层叠于其上的一块有机功能层、阴极层,所述阴极层可以包括一个或多个平行且等间隔排列的阴极块。
在本发明的上述制作OLED的方法中,也可以使有机电致发光器件的每个像素单元包含相邻的两行以上的长条形导电膜的每一个的一部分,并在每行长条形导电膜的相应部分上依次层叠有机功能块以及一个或多个平行且等间隔排列的阴极块,每个像素单元所包含的相邻的两行以上的长条形导电膜的部分的左右两侧或一侧通过导电膜条连接在一起。。
本发明还提供一种透视性单向发光屏体的制作方法,其中,在上述制作OLED的方法中,所述基板、长条形导电膜、短条形导电膜、有机功能层、以及绝缘层均由透明材料制作,所述阴极块可以由不透明材料制作。这时,每个阴极块的最长部位的尺寸小于人眼最小分辨尺寸,在每个像素单元中,不透明阴极块的总面积占整个像素单元的面积的10-50%;而且,当每个像素 单元的阴极层包含多个阴极块时,所述多个阴极块之间的间距大于人眼最小分辨尺寸。将这样制作得到的透明的OLED封装,并将其与驱动芯片连接,由驱动芯片分别驱动OLED中的各个像素单元。由此,可以得到透视性单向发光屏体。这里,OLED与驱动芯片的连接方式属于公知技术,因此不再详细描述。
图2给出本发明的制作透视性单向发光屏体的方法的流程图,如图2所示,其包括:
步骤S100,对带有透明ITO导电膜的透明玻璃基板进行清洗;
步骤S200,在玻璃基板上涂敷光刻胶,通过掩模、曝光、显影、刻蚀对玻璃基板上的ITO导电膜进行处理,形成ITO导电层,该ITO导电层包括平行的两条以上的长条形导电膜、以及在垂直于长条形导电膜的两条以上平行线上且在长条形导电膜的上下两侧形成短条形导电膜;
步骤S300,用透明的光刻胶将上述形成的ITO导电层的边缘包覆起来;
步骤S400,采用蒸镀掩模板在所述长条形导电膜的夹在短条形导电膜之间的区域之上依次蒸镀透明的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层,即透明的有机功能层;
步骤S500,采用蒸镀掩模板在每块有机功能层上蒸镀金属条形阴极,并使所述条形阴极搭接在长条形导电膜的上下两侧的短条形导电膜上,该条形阴极最长部位的尺寸小于人眼分辨尺寸,人眼分辨尺寸根据人眼对所用波长光的最小分辨角确定。
步骤S600:将通过上述步骤S100~S500制作而成的OLED封装,并与驱动芯片连接。
在上述步骤S500中,当在每块有机功能层上蒸镀两个以上的金属条形阴极时,条形阴极之间的间距要大于人眼分辨尺寸。
利用本发明的上述OLED制作方法,可以克服现有技术中制作OLED时溅射阴极的困难。
下面结合实施例,具体说明本发明的技术方案。应当注意到,下面的实施例仅用于帮助理解发明,而不是对本发明的限制。
实施例一:
本实施例的OLED包括:透明基板、透明阳极层310、透明绝缘层330、透明有机功能层340、和不透明的金属阴极层。
其中基板采用带透明氧化铟锡(ITO)导电膜的玻璃,透明绝缘层采用有机的透明光刻胶,有机功能层部分采用精密蒸镀工艺制备,阴极层选用厚的 金属Al层。
为了详细说明OLED的制作方法,将OLED放大,采用OLED局部图进行说明。如图3至图6所示,图3示出了根据本发明的一个实施例的透明ITO导电层的图形局部放大图;图4示出了图3所示的ITO导电层用透明光刻胶包覆后的示意图;图5示出了图4的透明光刻胶上蒸镀了有机功能层后的示意图;图6示出了在图5的有机功能层上蒸镀了一条金属条形阴极层后的示意图。
本实施例的OLED的制作方法具体如下:
清洗带ITO导电膜的玻璃基板;
在玻璃基板上涂敷透明光刻胶,通过掩模、曝光、显影、刻蚀的方法将ITO导电膜制备成如图3所示的图形的ITO导电层,其中ITO导电层包括短条形ITO导电膜320和长条形ITO导电膜310,二者相间且平行排布,短条形ITO导电膜320形成阵列排布图形。这里的长条形ITO导电膜310用于形成OLED的阳极层。
然后,如图4所示,用透明的光刻胶,将ITO导电层边缘部分包覆起来,形成OLED的透明绝缘层330,以防止ITO导电层边缘的毛刺间断放电及引线搭接不良。
接下来,在图4所示的图形的基础上,蒸镀透明的有机功能层340。有机功能层340采用蒸镀掩模板制备。有机功能层340的蒸镀位置如图5中阴影部分所示,其位于长条形ITO导电膜310的夹在短条形ITO导电膜320之间的区域上,形成一个阵列排布图形,在图5中为4×2阵列,即包含8块有机功能层340。另外,有机功能层340可以依次包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层。
制备完有机功能层340后,用蒸镀掩膜板在有机功能层340上蒸镀阴极层,所述阴极层的图形如图6中的黑色实心条纹所示,在每块有机功能层上蒸镀一个条形阴极350,且每个条形阴极350搭接在上下两侧的短条形ITO导电膜320上。这时,图6所示的OLED包含8个像素单元,每个像素单元包含1个条形阴极,从而每个像素单元具有1个微发光单元(即1个发光点)。另外,每个条形阴极由完全不透明材料制成,当然也可以由透明材料制作。
制备完阴极层后,就制作成了本发明的OLED。
对OLED进行封装,并绑定驱动芯片(图中未示出),具体地,所述OLED的每个长条形ITO导电膜310连接阳极引线,而垂直于长条形ITO导电膜310 的各列阴极层连接阴极引线,由于各列上的各个条形阴极均搭接在上下两侧的短条形导电膜320上,所以,各列上的条形阴极实际上是连接在一起的,因此只需要将阴极引线分别连接在图6中上下两侧的短条形导电膜上即可。所述阳极引线和阴极引线分别与驱动芯片连接,形成本发明的透视性单向发光屏体。
实施例二:
在实施例一中,每个像素单元包含一个微发光单元(即一个发光点)。为了保证发光点不被人眼观察到,还可以将每个像素单元中的一个发光点分解成多个发光点。
本实施例的OLED的制作方法具体如下:
清洗带ITO导电膜的玻璃基板;
在基板上涂敷光刻胶,通过掩模、曝光、显影、刻蚀的方法将ITO导电膜制备成如图2所示的图形的ITO导电层,其中ITO导电层包括短条形导电膜320和长条形导电膜(阳极层)310,二者相间排列且平行,短条形ITO导电膜320形成阵列排布图形。
然后,如图4所示,用透明的光刻胶,将ITO导电层边缘部分包覆起来,形成OLED的透明绝缘层330,以防止ITO导电层边缘的毛刺间断放电及引线搭接不良。
在图4所示的图形的基础上,蒸镀透明的有机功能层340。有机功能层340采用蒸镀掩模板制备。有机功能层340的蒸镀位置如图5中阴影部分所示,其位于长条形ITO导电膜310的夹在短条形ITO导电膜320之间的区域之上,形成一个阵列排布图形,在图5中为4×2阵列,即包含8块有机功能层340。另外,有机功能层340可以依次包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层。
制备完有机功能层340后,采用蒸镀掩模板在有机功能层340上蒸镀阴极层,所述阴极层的图形如图7中的黑色实心条纹所示,在每块有机功能层上蒸镀四个平行、等间隔排列的条形阴极350,并且每个条形阴极350搭接在上下两侧的短条形ITO导电膜320上,相邻两个条形阴极350之间的间距大于人眼分辨尺寸,所述人眼分辨尺寸根据人眼对所用的光波长的最小分辨角确定。这时,图7中的OLED包含8个像素单元,每个像素单元包含4个条形阴极,从而每个像素单元具有4个微发光单元(即4个发光点)。另外,每 个条形阴极由完全不透明材料制成,当然也可以由透明材料制作。
制备完阴极层后,就制作成了本发明的OLED。
对OLED进行封装,并绑定驱动芯片(图中未示出),具体地,所述OLED的每个长条形ITO导电膜310连接阳极引线,而垂直于长条形ITO导电膜310的各列阴极层连接阴极引线,所述阳极引线和阴极引线分别与驱动芯片连接,形成本发明的透视性单向发光屏体。其中,在本实施例二中,由于各列上的各个条形阴极350均搭接在上下两侧的短条形导电膜320上,所以,各列上的条形阴极实际是连接在一起的,因此只需要将阴极引线分别连接在图6中上下两侧的短条形导电膜上即可。
实施例三:
本实施例的OLED包括:透明基板、透明阳极层310、透明绝缘层330、透明有机功能层340和不透明的金属阴极层。
其中基板采用带透明的IZO(氧化铟锌)导电膜的基板。透明绝缘层330采用有机的透明光刻胶,有机功能层340采用精密蒸镀工艺制备,阴极层选用厚的金属Al层。
本实施例的OLED的制作方法具体如下:
将带透明的IZO(氧化铟锌)导电膜的基板进行清洗;
在基板上涂敷透明光刻胶,通过掩模、曝光、显影、刻蚀的方法将IZO导电膜制备成如图8所示的图形IZO导电层,其中IZO导电层包括短条形IZO导电膜320和长条形IZO导电膜310,二者相间排布且彼此平行,短条形IZO导电膜320形成阵列排布图形。其中,OLED的每个像素单元包括相邻的两条平行的长条形IZO导电膜310的一部分,即导电膜块,两个导电膜块之间形成有在短条形IZO导电膜320,且每个像素单元的左右两侧分别用IZO透明导电膜条315连接起来。
然后,如图8所示,用透明的光刻胶,将ITO导电层边缘部分包覆起来,形成OLED的透明绝缘层330,以防止ITO导电层边缘的毛刺间断放电及引线搭接不良。
接下来,在图8所示的图形的基础上,蒸镀透明的有机功能层340。有机功能层340采用蒸镀掩模板制备。有机功能层340的蒸镀位置如图9中阴影部分所示,其位于每个像素单元的导电膜块之上,形成了一个阵列排布图形,在图9中,有机功能层340包含8个有机功能块,其中每个像素单元包 含两个有机功能块。另外,有机功能层340可以依次包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层。
制备完有机功能层340后,采用蒸镀掩模板在有机功能层340上蒸镀阴极层,所述阴极层的图形如图10中的黑色实心条纹所示,在每个有机功能块上蒸镀四个平行、等间隔排列的条形阴极350,每个条形阴极350搭接在上下两侧的短条形IZO导电膜320上。这时,由于每相邻的两个长条形IZO导电膜310的在短条形IZO导电膜320两侧的区域分别用IZO透明导电膜条315连接起来,从而使得在行方向上每相邻两个导电膜条315之间的部分形成一个像素单元,即图10中包含4个像素单元,每个像素单元包含两个有机功能块,8个条形阴极350,即每个像素单元具有8个微发光单元(即8个发光点)。,其中,每个条形阴极的最长部位的尺寸小于人眼分辨尺寸,而相邻的两个条形阴极350之间的间距大于人眼分辨尺寸。
制备完阴极层后,就制作成了本发明的OLED。
如实施例一或二那样,对上面所制作的OLED进行封装,并绑定驱动芯片,实现显示功能,就制作成了本发明的透视性单向发光屏体。
与实施例一、二相比,该实施例中,每个像素单元的微发光单元被分解为8个发光点。每个发光点的面积非常小,保证人眼在一定距离内分辨不出各点,从而实现透明效果。
在本实施例中的IZO导电层也可以用ITO导电膜制作。
实施例四:
在本实施例中,除了采用带透明的ITO导电膜的柔性塑料作为基板之外,其余同实施例二。
该实施例可以实现柔性的透明显示效果。
实施例五:
本实施例如图11所示,除了每个像素单元的阴极层由四个平行的椭圆形阴极350形成之外,其它与实施例二相同。
实施例六:
在如实施例一至五制备完OLED后,在基板的另一侧集成触摸屏膜层,制备触摸屏。图12示出了在OLED 100的基板的另一侧集成了电容式触摸屏膜 层200的示意图。由于将本发明的OLED100与触摸屏膜层200整合,可达到透明触摸显示的效果。
实施例七:
如图13所示,其示出了在例如实施例一至五制备完OLED 100之后,在OLED 100的基板的另一侧集成用电阻式触摸屏膜层200的示意图。由于将本发明的OLED100与触摸屏膜层200整合,可达到透明触摸显示的效果。
另外,想要说明的是,用上述本发明的制作方法制作的OLED可以是无源OLED也可以是有源OLED。
尽管已经结合特定的实施例描述了本发明,但是并不是限定于此处描述的特定形式。而是,本发明的范围仅仅由后附的权利要求限制。在权利要求中,术语“包括”不排除存在其它部件或步骤。此外,尽管各个特征可以包括在不同的权利要求中,但是这些特征可以被有利地组合,且在不同权利要求中包含的内容不意味着特征的组合是不可行和/或不利的。此外,单个的含义不排除多个。因此,“一个”、等的含义不排除多个。此外,权利要求中的附图标记不应被解释为对范围的限制。
以上所述仅是本发明的具体实施方式,应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明精神的前提下,可以作出若干改进、修改、和变形,这些改进、修改、和变形都应视为落在本申请的保护范围内。