CN102453879A - 镀膜装置 - Google Patents

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王仲培
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Abstract

一种镀膜装置包括一镀膜腔体,及一同心料架。所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部,所述同心料架可绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架具有一内圈料架,及一围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架。所述镀膜装置进一步包括多个内靶座,及多个外靶座,所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材。所述多个内靶座设置于所述内圈料架与所述外圈料架之间的区域且围绕所述内圈料架间隔分布,所述多个外靶座设置于所述外圈料架的外围且围绕所述外圈料架间隔分布。所述多个内靶座与所述多个外靶座相互错开。所述镀膜装置分别在内、外圈料架之间的区域及外圈料架的外围设置非对置的靶座,可有效地降低设置于不同靶座的靶材之间相互干扰。

Description

镀膜装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其设计一种镀膜装置。
背景技术
随着各种电子产品的普及应用,消费者的要求越来越高,除要求满足使用功能外,消费者对电子产品的外观、触摸质感等也有了新的要求。比如,要求产品外壳具有绚丽的色彩、金属质感、耐磨损等。利用反应式磁控溅射镀膜法对产品外壳进行镀膜加工,可使电子产品获得具有各种色彩的、高金属质感的多层膜外壳,满足目前消费者的需求。
传统的磁控溅镀装置基本都是采用平面对靶的设置方式,将承载靶材的平面靶座相对地设置于单一圆周料架的内侧与外侧。但是,采用平面对靶的方式设置靶材,在实际的镀膜加工过程中,较易因相对的靶材距离较近而发生相互干扰,影响镀膜质量。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种易于实现的、可有效解决现有技术中存在的问题的镀膜装置。
一种镀膜装置,其包括一个镀膜腔体,及一个同心料架。所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部,所述同心料架可以绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架具有一个内圈料架,及一个围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架。所述镀膜装置进一步包括多个内靶座,及多个外靶座,所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材。所述多个内靶座设置于所述内圈料架与所述外圈料架之间的区域且围绕所述内圈料架间隔分布,所述多个外靶座设置于所述外圈料架的外围且围绕所述外圈料架间隔分布。所述多个内靶座与所述多个外靶座相互错开。
相对于现有技术,本发明的镀膜装置具有如下优点:其一,采用同心设置的内圈料架与外圈料架,分别在内圈料架与外圈料架之间的区域及外圈料架的外围设置多个内靶座与外靶座,且内靶座与外靶座之间均不相对设置,可有效地降低设置于不同靶座的靶材之间相互干扰,保证镀膜质量。其二,采用同心料架可以大幅提供待镀膜件的承载量,并可有效的利用镀膜装置的内部空间,而结合内靶座与外靶座的设置,又可以有效地提高待镀膜件的镀膜效率。
附图说明
图1是本发明一实施例提供的镀膜装置的镀膜腔体局部剖开后的示意图,所述镀膜装置包括一个同心料架。
图2是图1所示的镀膜装置的俯视图。
图3是图1所示的同心料架的传动机构的局部示意图。
图4是图3所示的同心料架的工作原理图。
主要元件符号说明
镀膜腔体              10
同心料架              20
内圈料架              21
外圈料架              23
连接臂                25
内靶座                30
外靶座                40
传动机构              50
第一驱动齿轮          51
第二驱动齿轮          52
第一从动齿轮          53
第二从动齿轮          54
中间齿轮              55、56
驱动机构              60
驱动轴                61
镀膜装置              100
内圈安装架          211
内圈挂件杆          213
外圈安装架          231
外圈挂件杆          233
第一端              251
第二端              252
具体实施方式
下面将结合附图及实施例对本技术方案作进一步详细说明。
请一并参阅图1与图2,本发明一实施例提供一种镀膜装置100,其用于对待镀膜件进行镀膜加工,所述镀膜装置100包括一个镀膜腔体10,一个同心料架20,六个内靶座30,及六个外靶座40。
所述镀膜腔体10为真空腔体,其内部的真空环境通过与所述镀膜腔体10相连通的真空泵(图未示)获得。本实施例中,所述镀膜腔体10为筒状腔体。
所述同心料架20设置于所述镀膜腔体10内部,所述同心料架20可以绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架20具有一个内圈料架21,一个外圈料架23,及两个连接臂25。本实施例中,所述同心料架20位于所述镀膜腔体10的中央区域,且所述同心料架20的中心轴与所述镀膜腔体10的中心轴同轴。所述内圈料架21与所述外圈料架23用于承载待镀膜件(图未示),所述连接臂25用于连接所述内圈料架21与所述外圈料架23。
所述内圈料架21具有一个内圈安装架211,及多个内圈挂件杆213。所述多个内圈挂件杆213平行设置于所述内圈安装架211。本实施例中,所述内圈安装架211为圆形结构,所述多个内圈挂件杆213沿所述内圈安装架211的圆周均匀间隔设置。每一所述内圈挂件杆213均可以绕其自身的中心轴旋转。
所述外圈料架23具有一个外圈安装架231,及多个外圈挂件杆233。所述多个外圈挂件杆233平行设置于所述外圈安装架231。本实施例中,所述外圈安装架231为圆形结构,所述多个外圈挂件杆233沿所述外圈安装架231的圆周均匀间隔设置。每一所述外圈挂件杆233均可以绕其自身的中心轴旋转。
所述内圈料架21与所述外圈料架23同心设置,所述外圈料架23围绕所述内圈料架21,所述内圈料架21与所述外圈料架23具有一个共同中心轴,即所述同心料架20的中心轴。所述内圈料架21的内圈挂件杆213与所述外圈料架23的外圈挂件杆233相互平行,且均平行于所述内圈料架21与所述外圈料架23的共同中心轴,即所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233均平行于所述同心料架20的中心轴。
所述连接臂25连接所述内圈料架21与所述外圈料架23,使所述内圈料架21与所述外圈料架23可以同时绕所述同心料架20的中心轴旋转。本实施例中,所述两个连接臂25相对地设置于所述内圈料架21与所述外圈料架23的顶部,且于所述内圈料架21与所述外圈料架23之间连接所述内圈料架21与所述外圈料架23。每一所述连接臂25均具有一个第一端251,及一个与所述第一端251相对的第二端252。所述第一端251与所述内圈料架21的内圈安装架211相连接。所述第二端252与所述外圈料架23的外圈安装架231相连接。由此,所述连接臂25使所述内圈料架21与所述外圈料架23形成一个整体,便于简化设计所述同心料架20的驱动源,实现所述同心料架20的整体驱动。
可以理解的是,所述连接臂25与所述内圈料架21及所述外圈料架23之间可以通过销与孔、螺栓与螺纹孔、或者凸缘与凹槽的配合结构实现连接,只要能够使所述内圈料架21与所述外圈料架23形成一个整体即可。
本实施例中,每一所述内圈挂件杆213及每一所述外圈挂件杆233均沿其长度方向设置有多个用于承载待镀膜件的承载盘(图未示)。
可以理解的是,设置于所述内圈挂件杆213及所述外圈挂件杆233上的承载盘,也可以与对应的挂件杆设成不同角度,如,承载盘与对应的挂件杆相平行、相垂直或相倾斜,由此,可以调节承载于所述承载盘上的待镀膜件的待镀表面的角度,便于待镀膜件的待镀表面进行不同角度的膜层镀制。
优选地,所述同心料架20的中心轴与任意一个所述内圈挂件杆213及任意一个所述外圈挂件杆233均不在同一直线上。由此,可以避免所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233之间的待镀膜件因相互遮挡,而影响同一方向的镀膜。
优选地,任意两个相邻的所述外圈挂件杆233的中垂线上均设置有一个所述内圈挂件杆213。
所述六个内靶座30与所述六个外靶座40均用于设置镀膜靶材(图未示)。本实施例中,所述内靶座30与所述外靶座40均为长方形板状结构,每一所述内靶座30的长度方向与每一所述外靶座40的长度方向均平行于所述同心料架20的中心轴。
所述六个内靶座30设置于所述内圈料架21与所述外圈料架23之间的区域,且围绕所述内圈料架21间隔地分布。所述六个外靶座40设置于所述外圈料架23的外围,且围绕所述外圈料架23间隔分布。所述六个内靶座30与所述六个外靶座40在所述外圈料架23的两侧沿圆周方向彼此间隔、错开分布。即,每一个所述内靶座30均不与任意一个所述外靶座40相对。由此,可以减少设置于所述内靶座30与所述外靶座40上的靶材(图未示)因相互对置且距离较近,而产生的相互干扰。
本实施例中,所述六个内靶座30围绕所述内圈料架21均匀间隔地分布。具体地,所述六个内靶座30在所述内圈料架21与所述外圈料架23之间的区域,沿圆周方向围绕所述内圈料架21等间距间隔分布,任意相邻的两个所述内靶座30之间的圆心角为60度。所述六个外靶座40中的三个外靶座40与另外三个外靶座40分别作为一组,所述两组外靶座40对称地分布于所述同心料架20的一个直径的两侧,同一组中的三个所述外靶座40均匀间隔分布,且同一组中相邻的两个所述外靶座40之间的圆心角为45度。
本实施例中,以设置六个所述内靶座30与六个所述外靶座40的镀膜装置100为例进行说明,当然,所述内圈料架21与所述外圈料架23之间的区域也可以设置四个或八个所述内靶座30,所述外圈料架23的外围也可以设四个、八个、十个、或十二个所述外靶座40,具体可以根据所述镀膜装置100的结构、尺寸及镀膜加工的需要进行设置,并不局限于本实施例,只要可以使每一个所述内靶座30均不与任意一个所述外靶座40相对即可。
请一并参阅图3与图4,进一步地,所述镀膜装置100包括一个传动机构50,及一个驱动机构60。所述传动机构50连接所述内圈料架21与所述外圈料架23及所述驱动机构60。所述驱动机构60驱动所述内圈料架21与所述外圈料架23同时绕所述同心料架20的中心轴旋转,且驱动每一所述内圈挂件杆213及每一所述外圈挂件杆233绕各自的中心轴旋转。
相邻的两个所述内圈挂件杆213之间、相邻的两个所述外圈挂件杆233之间、以及所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233之间,通过所述传动机构50实现相互连接。由此,可以实现所述多个内圈挂件杆213之间、所述多个外圈挂件杆233之间的动力传递,以及所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233之间的动力传递。
本实施例中,所述传动机构50为齿轮传动机构,其设置于所述同心料架20的底部。当然,相邻的两个所述内圈挂件杆213之间、相邻的两个所述外圈挂件杆233之间,以及所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233之间,也可以分别通过皮带或链条实现相互连接。只要能分别实现所述多个内圈挂件杆213之间、所述多个外圈挂件杆233之间,以及所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233之间的动力传递即可。
可以理解的是,由于所述多个内圈挂件杆213之间相互动力传递,以及所述多个外圈挂件杆233之间相互动力传递,因此,只需在相邻的一个内圈挂件杆213与一个外圈挂件杆233之间设置齿轮传动、皮带传动、或链条传动,即可实现所述多个内圈挂件杆213与所述多个外圈挂件杆233之间的动力传递。
所述传动机构50包括一个第一驱动齿轮51,一个第二驱动齿轮52,多个第一从动齿轮53,多个第二从动齿轮54,及多个中间齿轮55、56。所述驱动机构60具有一个驱动轴61。所述第一驱动齿轮51与所述第二驱动齿轮52均套设于所述驱动轴61上。所述多个第一从动齿轮53一一对应地套设于所述多个外圈挂件杆233上。所述多个第二从动齿轮54一一对应地套设于所述多个内圈挂件杆213上。所述第一驱动齿轮51与设置于所述内圈料架21的内圈安装架211的外沿的齿(圈未示)相互啮合,实现所述驱动机构60与所述内圈料架21的机械传动。所述第二驱动齿轮52与一个所述外圈挂件杆233上的第一从动齿轮53相互啮合,实现所述驱动机构60与所述外圈挂件杆233的机械传动。所述第一从动齿轮53通过一个所述中间齿轮55与一个所述内圈挂件杆213上的第二从动齿轮54相互啮合,实现所述外圈挂件杆233与所述内圈挂件杆213之间的动力传递。相邻的两个所述第一从动齿轮53直接相互啮合,实现相互之间的动力传递,当然,相邻的两个所述第一从动齿轮53之间也可以通过一个中间齿轮相互啮合。相邻的两个所述第二从动齿轮54之间通过一个所述中间齿轮56相互啮合,实现相邻的两个所述第二从动齿轮54之间的动力传递。所述第一驱动齿轮51与所述内圈料架21的传动比与所述第二驱动齿轮52与所述第一从动齿轮53的传动比不相等。由此,所述同心料架20只需一个所述驱动机构60,即可实现所述内圈料架21与所述外圈料架23的整体转动,同时实现所述内圈挂件杆213与所述外圈挂件杆233的分别转动。
镀膜加工时,通过所述驱动机构60,驱动所述同心料架20绕其中心轴整体转动,并驱动所述同心料架20中的内圈挂件杆213及外圈挂件杆233分别绕各自的中心轴旋转。由此,可以控制承载于所述内圈挂件杆213及所述外圈挂件杆233上的待镀膜件,调节待镀膜件相对于镀膜源的整体镀膜角度及局部镀膜角度,使待镀膜件的各个镀膜表面得到充分的镀膜,获得具有较佳质量的膜层。
相对于现有技术,本发明的镀膜装置具有如下优点:其一,采用同心设置的内圈料架与外圈料架,分别在内圈料架与外圈料架之间的区域及外圈料架的外围设置多个内靶座与外靶座,且内靶座与外靶座之间均不相对设置,可有效地降低设置于不同靶座的靶材之间相互干扰,保证镀膜质量。其二,采用同心料架可以大幅提供待镀膜件的承载量,并可有效的利用镀膜装置的内部空间,而结合内靶座与外靶座的设置,又可以有效地提高待镀膜件的镀膜效率。
另外,本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化,当然,这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种镀膜装置,其包括:
一个镀膜腔体;及
一个同心料架,所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部,所述同心料架可以绕其自身的中心轴旋转;
其特征在于:
所述同心料架具有一个内圈料架,及一个围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架;所述镀膜装置进一步包括多个内靶座,及多个外靶座,所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材,所述多个内靶座设置于所述内圈料架与所述外圈料架之间的区域且围绕所述内圈料架间隔分布,所述多个外靶座设置于所述外圈料架的外围且围绕所述外圈料架间隔分布;所述多个内靶座与所述多个外靶座相互错开。
2.如权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述多个内靶座与所述多个外靶座沿平行于所述同心料架的中心轴的方向设置。
3.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置具有六个所述内靶座,所述六个内靶座围绕所述内圈料架均匀间隔地分布。
4.如权利要求3所述的镀膜装置,其特征在于,所述外圈料架具有六个所述外靶座,所述六个外靶座中的三个外靶座与另外三个外靶座分别作为一组,所述两组外靶座对称地分布于所述同心料架的一个直径的两侧,且同一组中相邻的两个所述外靶座之间的圆心角为45度。
5.如权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述同心料架具有两个连接臂,所述两个连接臂以所述同心料架的中心轴为中心相对地设置于所述内圈料架与所述外圈料架的顶部,且于所述内圈料架与所述外圈料架之间连接所述内圈料架与所述外圈料架,每一所述连接臂均具有一个第一端及一个与所述第一端相对的第二端,所述第一端与所述内圈料架相连接,所述第二端与所述外圈料架相连接。
6.如权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于,所述内圈料架与所述外圈料架均具有多个平行设置的挂件杆,每一所述挂件杆均平行于所述同心料架的中心轴,且每一所述挂件杆均可以绕其自身的中心轴旋转。
7.如权利要求6所述的镀膜装置,其特征在于,每一所述挂件杆均沿其长度方向设置有多个用于承载待镀膜件的承载盘。
8.如权利要求6所述的镀膜装置,其特征在于,任意一个所述内圈料架的挂件杆与任意一个所述外圈料架的挂件杆及所述同心料架的中心轴不在同一直线上。
9.如权利要求8所述的镀膜装置,其特征在于,所述外圈料架的任意两个相邻的挂件杆的中垂线上均具有一个所述内圈料架的挂件杆。
10.如权利要求6所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置进一步包括一个传动机构及一个驱动机构;所述传动机构连接所述内圈料架与所述外圈料架及所述驱动机构,所述驱动机构驱动所述内圈料架与所述外圈料架同时绕所述同心料架的中心轴旋转,且驱动每一所述挂件杆绕自身的中心轴旋转。
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US5618388A (en) * 1988-02-08 1997-04-08 Optical Coating Laboratory, Inc. Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus
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