CN102407953A - 压舌板机同步给料机构 - Google Patents

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吴伟平
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Abstract

压舌板机同步给料机构,包括两个相互辊接的对辊和两个给料辊,其中下面的对辊为固定的,上面的对辊的辊轴安装在一预紧弹簧上,所述预紧弹簧抵触在一个推块上,推块通过螺钉安装在外壳上,并且所述推块的位置可通过螺钉调节;在上部的给料辊与两个对辊之间设置有一个导向辊,所述导向辊的下边与上部对辊的下边处于同一水平高度。本发明有益效果是,通过预紧弹簧对两个料带的给料速度进行调节,保证两个给料辊的给料速度完全相同。并且可以根据料带的厚度、摩擦系数以及进料速度的不同,可以实时的调节预紧弹簧的预紧力,使其同步效果更好。而通过导向轮的设置,可以更好的保证对辊的稳定性,不会对对辊带来其他方向上的张力。

Description

压舌板机同步给料机构
技术领域
本发明涉及一种压舌板机同步给料机构,属于常用的医疗器械压舌板的生产设备技术领域。
背景技术
目前压舌板机都还只是采用较为传统的生产设备。在该项技术领域,经过检索之后发现,国内的技术网站还找不到新研发的技术信息,包括国家知识产权局的官方网站、中国机械网等。所以可以概括的认为,目前,至少国内的设备生产企业,在压舌板机的研发方面投入较少或者只是简单的从事传统设备的生产,而针对传统设备中存在的技术问题,没有提出良好的解决方案。
经过本公司的技术人员多年的设计、生产经验,在现有的技术基础上,进行了一定的改进和创新。以下是针对压舌板机的给料机构进行改进的技术方案,是针对目前压舌板机的给料机构是采用两个给料辊单独进行给料,根据进料的需要分别进行驱动,但是显然这样的分别驱动容易导致给料的度量有一些微小的尺寸偏差,这样也就容易造成料带切断后进行热塑包装的过程中,容易产生压痕、密封不严等问题。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有压舌板机的给料机构采用两个给料辊单独给料,料带切断后进行热塑包装的过程中,容易产生压痕、密封不严等问题,提供了一种压舌板机同步给料机构。
为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:
压舌板机同步给料机构,包括两个相互辊接的对辊和两个给料辊,其中下面的对辊为固定的,上面的对辊的辊轴安装在一预紧弹簧上,所述预紧弹簧抵触在一个推块上,推块通过螺钉安装在外壳上,并且所述推块的位置可通过螺钉调节,以此来调节预紧弹簧的预紧力;下面的对辊辊轴固定,并且下面的对辊由一个电机带动减速机驱动;在上部的给料辊与两个对辊之间设置有一个导向辊,所述导向辊的下边与上部对辊的下边处于同一水平高度。
本发明提供的压舌板机同步给料机构,其有益效果是,通过预紧弹簧对两个料带的给料速度进行调节,保证两个给料辊的给料速度完全相同。并且可以根据料带的厚度、摩擦系数以及进料速度的不同,可以实时的调节预紧弹簧的预紧力,使其同步效果更好。而通过导向轮的设置,可以更好的保证对辊的稳定性,不会对对辊带来其他方向上的张力。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明所述的压舌板机同步给料机构的结构图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1所示,本发明所述的压舌板机同步给料机构,包括两个相互辊接的对辊1和两个给料辊2,其中下面的对辊1为固定的,上面的对辊1的辊轴安装在一预紧弹簧4上,所述预紧弹簧抵触在一个推块上,推块通过螺钉安装在外壳上,并且所述推块5的位置可通过螺钉6调节,以此来调节预紧弹簧4的预紧力;下面的对辊辊轴固定,并且下面的对辊由一个电机7带动减速机8驱动;在上部的给料辊2与两个对辊之间设置有一个导向辊,所述导向辊3的下边与上部对辊1的下边处于同一水平高度,以使通过导向辊3的料带进入对辊的时候不会对对辊产生向上的提升力。
本发明提供的压舌板机同步给料机构,其有益效果是,通过预紧弹簧对两个料带的给料速度进行调节,保证两个给料辊的给料速度完全相同。并且可以根据料带的厚度、摩擦系数以及进料速度的不同,可以实时的调节预紧弹簧的预紧力,使其同步效果更好。而通过导向轮的设置,可以更好的保证对辊的稳定性,不会对对辊带来其他方向上的张力。

Claims (1)

1.压舌板机同步给料机构,包括两个相互辊接的对辊和两个给料辊,其特征在于,其中下面的对辊为固定的,上面的对辊的辊轴安装在一预紧弹簧上,所述预紧弹簧抵触在一个推块上,推块通过螺钉安装在外壳上,并且所述推块的位置可通过螺钉调节,以此来调节预紧弹簧的预紧力;下面的对辊辊轴固定,并且下面的对辊由一个电机带动减速机驱动;在上部的给料辊与两个对辊之间设置有一个导向辊,所述导向辊的下边与上部对辊的下边处于同一水平高度。
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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