CN102397859A - 石墨舟（框）干式清洗机 - Google Patents

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黄冲
蒋维楠
季高明
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Abstract

本发明涉及一种用于硅晶太阳能电池生产设备维护的装置，具体是一种石墨舟（框）干式清洗机。该石墨舟（框）干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔，反应腔的入口通过进气管与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵连接；所述进气管上安装有等离子体发生器。本发明可以利用等离子体氮化硅的反应将石墨舟表面的氮化硅去除，不仅清洗效果好，并且结构简单制造、操作方便、清洗效率高；与传统的湿法槽式清洗相比，清洗过程中不用将石墨舟拆分，不用额外的烘干，效率高并能避免石墨舟的机械损伤。

Description

石墨舟(框)干式清洗机
技术领域
本发明涉及一种用于硅晶太阳能电池生产设备维护的装置，具体是一种石墨舟（框）干式清洗机。
背景技术
在晶硅太阳能电池生产过程中，有一个关键的氮化硅减反射膜沉积工艺。在该氮化硅减反射膜沉积过程中，晶硅电池片的承载物为石墨舟或者石墨框。一般在工艺生产过程中，石墨舟（框）也会被沉积到氮化硅薄膜，到一定厚度以后（一般大于10um），需要对石墨舟（框）做清洗处理。目前业界普遍采用的传统清洗方法是使用HF/HCl混合液湿法槽式清洗，即将石墨舟浸泡在存有HF/HCl的槽中4-8小时，再用清水漂洗，再高温烘箱烘4-8小时烘干。这种方法要想完全清洗干净，必须较长的浸泡时间和较高浓度的HF/HCl，同时需要将石墨舟拆分开来，以避免有清洗死角，清洗完后，还必须经过长时间的高温烘干（400度，4-8小时），才能将石墨舟上的水气去除掉。因而其存在以下缺点：1、清洗效率偏低，耗时长；2、使用高浓度的HF/HCl，存在一定的危险性；3、需要拆分石墨舟，存在额外机械损伤的风险。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种结构简单、清洗效率高、清洗效果好、不操损伤设备的石墨舟（框）干式清洗机。
本发明的的一个方案是：该石墨舟（框）干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔，反应腔的入口通过进气管与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵连接；所述进气管上安装有等离子体发生器。
本发明的的另一个方案是：该石墨舟（框）干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔，反应腔的入口通过进气管与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵连接；反应腔外设置有射频发生器，射频发生器的引出电极连接到反应腔内的石墨舟或石墨框上。
上述两个方案中，反应腔的入口处还可设置有匀流板，以使进入的气流分布更加均匀，提高清洗效果。
本发明可以利用等离子体氮化硅的反应将石墨舟表面的氮化硅去除，不仅清洗效果好，并且结构简单制造、操作方便、清洗效率高；与传统的湿法槽式清洗相比，清洗过程中不用将石墨舟拆分，不用额外的烘干，效率高并能避免石墨舟的机械损伤。
附图说明
图1是本发明一个实施例的结构示意图；
图2是本发明另一个实施例的结构示意图。
具体实施方式
图1所示的实施例中，石墨舟（框）干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔1，反应腔的入口通过进气管2与NF3气体源连接，反应腔入口处还设置有匀流板3，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵4连接；所述进气管上安装有等离子体发生器5。
图2所示的实施例中，该石墨舟（框）干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔1，反应腔的入口通过进气管2与NF3气体源连接，反应腔入口处还设置有匀流板3，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵4连接；反应腔外设置有射频发生器6，射频发生器的引出电极连接到反应腔内的石墨舟或石墨框上。

Claims (4)

1.一种石墨舟（框）干式清洗机，其特征是：它包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔（1），反应腔的入口通过进气管（2）与NF（3）气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵（4）连接；所述进气管上安装有等离子体发生器（5）。
2.根据权利要求1所述的石墨舟（框）干式清洗机，其特征是：反应腔入口处设置有匀流板（3）。
3.一种石墨舟（框）干式清洗机，其特征是：它包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔（1），反应腔的入口通过进气管（2）与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵（4）连接；反应腔外设置有射频发生器（6），射频发生器的引出电极连接到反应腔内的石墨舟或石墨框上。
4.根据权利要求3所述的石墨舟（框）干式清洗机，其特征是：反应腔入口处还设置有匀流板（3）。
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