CN102368512A - 电化学和固体硫化法在基片上制备CuInS2的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种采用常规电化学方法:在Ni基片上先后生长成薄的铜层和铟层,然后加热150~320℃进行30~40min的合金化和固体硫化处理,最终得到CuInS2薄膜。通过用X射线衍射图谱和矿物(PDF)卡比较,有CulnS2薄膜呈黄铁矿结构相特征衍射峰。CuInS2薄膜组分的摩尔比即S/(Cu+In)为2~2.5。它为P型导电类型的深褐色的CuInS2薄膜。该方法操作简单,绿色环保,易于实现工业化生产。
Description
技术领域
本发明涉及一种由电化学和固体硫化法制备CuInS2的方法,属于化合物半导体材料制备工艺技术领域。
背景技术
我国是世界上消耗能源的大国之一,现阶段出现能源利用方面所造成的环境问题促使可再生能源特别是太阳电池研究和产业化迅速发展。目前、太阳电池市场中硅晶体太阳电池占据90%的份额,居于主导地位。随着新型薄膜太阳电池的开发,其低成本、低能耗、高性能等优点引起人们的关注。特别是CuInS 2 等Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ 2 族化合物薄膜电池具有高理论转换效率、高吸收系数、禁带宽度与太阳光匹配好及热稳定性好等优势被看作具有发展前景的下一代薄膜电池候选材料,并成为国际研究的热点。
目前制备CuInS 2 的主要方法有磁控等离子溅射气相反应法、真空多元共蒸发法、电化学沉积法、雾化化学气相沉积法、射频溅射法、有机金属化学气相沉积法、喷雾热解法等。
发明内容
本发明目的是提供一种电化学和固体硫化法制备CuInS2的方法,,该方法操作简单,绿色环保,易于实现工业化生产。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案。
本发明一种电化学和固体硫化法在基片上制备CuInS2薄膜的方法,其特征在于该方法具有以下的工艺过程和步骤:
a)将纯度99.9~99.99 % 衬底Ni基片和99.999%Cu片放置到0.78~0.80M的CuSO4和0.046~0.048M H2SO4混合溶液中,使用YJ63直流稳压稳流电源,通电流20~30mA ,经40~60秒,制备前期样片;
b)将纯度99.9~99.99%In片和上述前期样片放置到0.086~0.088M的In2(SO4)3和0.030~0.032M 的Na2SO4混合溶液中,用电化学法在15~35℃温度下,通电流10~20mA, 经60~80秒,制备得Culn薄膜样片;
c)将上述制备出的CuIn薄膜样片和纯度为99.5%的粉末S一起放入箱式电炉中,加热150~320℃,进行30~40min的合金化和固体硫化处理;最终在Ni基片上制得CulnS2薄膜。
本工艺操作简单,反应温度低(150~320℃),是一种名符其实的绿色工艺,易于实现工业化生产。
附图说明
图1为本发明实施例1由电化学和固体硫化在Ni基片上制备CuInS2薄膜制备的的X射线衍射图谱。
具体实施方式
结合以下具体实施例,对本发明作进一步详细说明。
实施例
a)用99.9~99.99 %(有色金属所生产) 衬底Ni基片和99.999%(国药化学试剂生产)Cu片放置到0.78~0.80M的CuSO4和0.046~0.048M 的H2SO4混合溶液中,使用设备型号为: YJ63直流稳压稳流电源(上海沪光仪器厂),通电流20~30mA ,经40~60秒制备前期样片。
b)将纯度99.9~99.99%(上海冶金所)In片和上述前期样片放置到0.086~0.088M的In2(SO4)3和0.030~0.032M 的Na2SO4混合溶液中,用电化学法在15~35℃温度下,通电流10~20mA, 经60~80秒,制备得CuIn薄膜样片。
c)将上述制备出的CuIn薄膜样片和纯度为99.5%(国药化学试剂生产)的粉末S一起放入箱式电炉中,加热150~320℃进行30~40min的合金化和固体硫化处理;最后在Ni基片上制得P型深褐色的CuInS2薄膜。其中成分的摩尔比S/(Cu+In)为2~2.5。
对实施例所得CuInS2薄膜样品的XRD检测
经XRD检测,得到的结果示于图1中。从图1的X射线衍射图谱与矿物标准(PDF)卡作比较,显示出有CuInS2薄膜样品呈黄铁矿结构相特征衍射峰。
Claims (1)
1.一种电化学和固体硫化法在基片上制备CuInS2薄膜的方法,其特征在于该方法具有以下的工艺过程和步骤:
a.将纯度99.9~99.99 % 衬底Ni基片和99.999%Cu片放置到0.78~0.80M的CuSO4和0.046~0.048M H2SO4混合溶液中,使用YJ63直流稳压稳流电源通电流20~30mA ,经40~60秒,制备前期样片;
b.将纯度99.9~99.99%In片和上述前期样片放置到0.086~0.088M的In2(SO4)3和0.030~0.032M 的Na2SO4混合溶液中,用电化学方法在15~35℃温度下,通电流10~20mA ,经60~80秒,制备得CuIn薄膜样片;
c.将上述制备出的CuIn样片和99.5%的粉末S放入箱式电炉中,加热150~320℃,进行30~40min的合金化和固体硫化处理,最终在Ni基片制得CuInS2薄膜。
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