CN102254793A - 一种硅片清洗用双层石英槽 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及
一种硅片清洗用双层石英槽
，包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管，所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体、位于石英内槽体外周且与石英内槽体外壁之间构成液体通道的石英外槽体，所述石英外槽体的下部设有出液口，石英槽还包括一端连接在石英外槽体的出液口处的石英回流管以及与石英回流管的另一端部相连通用于将石英回流管中的液体输入至石英内槽体中的输送装置
。
本发明
实现了
清洗液体自动循环流动，在避免资源浪费的同时，提高了清洗硅片的速度和效果，降低了劳动力。
Description
技术领域
本发明涉及一种硅片清洗用双层石英槽。
背景技术
在半导体行业中，硅片的清洗通常在石英槽中进行。石英槽一般包括石英槽体和设置在石英槽体内的热电偶保护管，石英槽体的底部开设有排液口，该石英槽将清洗后废液从排液口排出，然而清洗一般需要HF酸、H
2
O
2
等酸性溶液进行清洗，在清洗过程中生成一些产物沉淀在石英槽的底部，这样需要经常清洗石英槽的内部，同时在清洗过程中易出现向石英槽内添加某种特殊的清洗液，由于该石英槽容积有限，只能从废液排液口排出，难以实现清洗液的自动循环流动，造成资源的浪费。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种硅片清洗用双层石英槽，实现清洗液体自动循环流动。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种硅片清洗用双层石英槽，包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管，所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体、位于石英内槽体外周且与石英内槽体外壁之间构成液体通道的石英外槽体，所述石英外槽体的下部设有出液口，石英槽还包括一端连接在石英外槽体的出液口处的石英回流管以及与石英回流管的另一端部相连通用于将石英回流管中的液体输入至石英内槽体中的输送装置。
优选地，所述石英回流管与外槽体之间螺纹连接。
根据本发明的进一步实施方案：所述输送装置包括一端部插入外槽体设置的第一进液管、连接在第一进液管的另一端部与石英回流管之间的过滤增压器以及位于内槽体内且与第一进液管连通的第二进液管。优选地，第二进液管安装在内槽体的底部，其上布满了大小一致的出液孔使得液体能够均匀地流至所述内槽体中。根据本发明的一个具体方面，所述的第二进液管有2根， 2根第二进液管分别位于所述内槽体的两相对侧，且均沿着所述槽体的长度方向延伸，2根的第二进液管的伸出所述内槽体的端部分别与一水平设置的连接管连接，所述连接管在中部连接第一进液管的位于外槽体内的端部。
优选地，所述的第一进液管与外槽体的侧壁之间螺纹连接；第二进液管与内槽体的侧壁之间螺纹连接。
根据本发明的一个优选方面，所述内槽体的底倾斜设置，废液排出口位于内槽体较低的一侧，在所述废液排出口位置连接有废液排放管。将底倾斜设置，便于杂质沉淀滑动至废液排出口的位置，从而通过废液排放管排出。
根据本发明的又一优选方面，所述内槽体在槽口位置呈齿形，如此，内槽体中的液体可以很均匀地溢出而进入到内槽体与外槽体之间的液体通道中。
根据本发明的又一优选方面，所述的外槽体的底也是倾斜设置的，出液口即开设在所述的外槽体（2）的底部。
根据本发明的一个具体方面，所述内槽体的内壁上设有护栏，电热偶护管插设在所述护栏内。
本发明的石英双层槽的工作过程如下：在内槽体中注满清洗液，并使得清洗液通过内槽体的槽口溢出至液体通道中，进入液体通道中的液体经回流管和输送装置又返回到内槽体中，实现清洗液的循环清洗。当石英双层槽工作一段时间后，可通过位于内槽体的底部的废液排放口将沉淀在底部的杂质随同废液一起排放掉。
由于采用以上技术方案的实施，本发明与现有技术相比具有如下优点：
本发明实现了清洗液体自动循环流动，在避免资源浪费的同时，提高了清洗硅片的速度和效果，降低了劳动力。
附图说明
下面结合附图和具体的实施例对本发明做进一步详细的说明。
图1为根据本发明的双层石英槽的主视示意图；
图2为图1的右视示意图；
图3为图1的俯视示意图；
其中：1、内槽体；10、内槽体的底；11、废液排放管；12、护栏；2、外槽体；20、外槽体的底；3、液体通道；4、回流管；5、第一进液管；6、过滤增压器；7、第二进液管；70、出液孔；8、连接管。
具体实施方式
如图1至图3所示，按照本实施例的硅片清洗用双层石英槽包括槽体、设置在槽体内的电热偶护管以及输送装置。
槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体1、位于石英内槽体1外周且与石英内槽体1外壁之间构成液体通道3的石英外槽体2，所述石英外槽体2的下部设有出液口，石英槽还包括一端螺纹连接在石英外槽体2的出液口处的石英回流管4。内槽体1的底10倾斜设置，废液排出口位于内槽体1较低的一侧，在废液排出口位置连接有废液排放管11。将底倾斜设置，便于杂质沉淀滑动至废液排出口的位置，从而通过废液排放管11排出。另外，内槽体1在槽口位置呈齿形，如此，内槽体1中的液体可以很均匀地溢出而进入到内槽体1与外槽体2之间的液体通道3中。外槽体2的底20也是倾斜设置的，出液口即开设在外槽体2的底部。内槽体1的内壁上设有护栏12，用于插设电热偶护管。
所述输送装置包括一端部插入外槽体2设置的第一进液管5、连接在第一进液管5的另一端部与石英回流管4之间的过滤增压器6以及位于内槽体1内且与第一进液管5连通的第二进液管7。第二进液管7安装在内槽体1的底部，其上布满了大小一致的出液孔70使得液体能够均匀地流至所述内槽体中。本例中，第二进液管7有2根， 2根第二进液管7分别位于所述内槽体1的两相对侧，且均沿着所述槽体的长度方向延伸，2根第二进液管7的伸出内槽体1的端部分别与一水平设置的连接管8连接，该连接管8在中部连接第一进液管5的位于外槽体2内的端部。其中，第一进液管5与外槽体2的侧壁之间螺纹连接；第二进液管7与内槽体1的侧壁之间螺纹连接。采用螺纹连接，密封性较好。
本发明的石英双层槽的工作过程如下：在内槽体中注满清洗液，并使得清洗液通过内槽体的槽口溢出至液体通道中，进入液体通道中的液体经回流管和输送装置又返回到内槽体中，实现清洗液的循环清洗。当石英双层槽工作一段时间后，可通过位于内槽体的底部的废液排放口将沉淀在底部的杂质随同废液一起排放掉。
综上，本实施例的双层石英槽能够实现清洗液的自动循环流动，提高了清洗速度和清洗的效果，节省了劳动力，而且废液沉淀的排放，槽自身的清洗容易。
以上对本发明做了详尽的描述，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明的精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1. 一种硅片清洗用双层石英槽，包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管，其特征在于：所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体（1）、位于所述石英内槽体（1）外周且与所述石英内槽体（1）外壁之间构成液体通道（3）的石英外槽体（2），所述石英外槽体（2）的下部设有出液口，所述石英槽还包括一端连接在所述石英外槽体（2）的出液口处的石英回流管（4）以及与所述石英回流管（4）的另一端部相连通用于将石英回流管（4）中的液体输入至所述石英内槽体（1）中的输送装置。
2. 根据权利要求1或所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述石英回流管（4）与所述的外槽体（2）之间螺纹连接。
3. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述输送装置包括一端部插入所述外槽体（2）设置的第一进液管（5）、连接在所述的第一进液管（5）的另一端部与所述石英回流管（4）之间的过滤增压器（6）以及位于所述内槽体（1）内且与所述第一进液管（5）连通的第二进液管（7）。
4. 根据权利要求3所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述第二进液管（7）安装在所述内槽体（1）的底部，其上布满了大小一致的出液孔（70）使得液体能够均匀地流至所述内槽体（1）中。
5. 根据权利要求4所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述的第二进液管（7）有2根， 2根所述的第二进液管（7）分别位于所述内槽体（1）的两相对侧，且均沿着所述槽体（1）的长度方向延伸，2根所述的第二进液管（7）的伸出所述内槽体（1）的端部分别与一水平设置的连接管（8）连接，所述连接管（8）在中部连接所述的第一进液管（5）的位于所述外槽体（2）内的端部。
6. 根据权利要求3或4或5所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述的第一进液管（5）与所述外槽体（2）的侧壁之间螺纹连接，所述第二进液管（）与所述内槽体（1）的侧壁之间螺纹连接。
7. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述内槽体（1）的底（10）倾斜设置，所述的废液排出口位于所述的内槽体（1）较低的一侧，在所述废液排出口位置连接有废液排放管（11）。
8. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述内槽体（1）在槽口位置呈齿形。
9. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述的外槽体（2）的底（20）倾斜设置，所述的出液口开设在所述的外槽体（2）的底部。
10. 根据权利要求1所述的硅片清洗用双层石英槽，其特征在于：所述内槽体（1）的内壁上设有护栏（12），所述的电热偶护管插设在所述护栏（12）内。
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| CN 201110198571 CN102254793A (zh) | 2011-07-15 | 2011-07-15 | 一种硅片清洗用双层石英槽 |
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Publications (1)
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2011
- 2011-07-15 CN CN 201110198571 patent/CN102254793A/zh active Pending
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