CN112813427A - 一种电解铜箔新型防氧化槽装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例涉及电解铜箔技术领域，具体涉及一种电解铜箔新型防氧化槽装置，包括设置于支架上的防氧化槽，所述防氧化槽包括设置于所述支架上的外槽体、设置于所述外槽体内部的内槽体，所述内槽体的顶部一端开设满溢开槽，所述内槽体与所述满溢开槽同一端外侧壁顶部开设导流槽，所述外槽体的底部与所述满溢开槽靠近的一端开设回流口，所述回流口外接用于使防氧化液循环回流的回流机构。本发明实施例的有益效果为：对流速、流向起到缓冲作用，确保内槽体内的防氧化液始终处于盛满的状态，确保防氧化液的稳定性，提高铜箔的防氧化性能。
Description
技术领域
本发明涉及电解铜箔技术领域，具体涉及一种电解铜箔新型防氧化槽装置。
背景技术
电解铜箔的定义是：由电解液中的铜离子在光滑旋转不锈钢板(或钛板)圆形阴极滚筒上沉积而成，铜箔紧贴阴极滚筒面的面称为光面，而另一面称为毛面。电解铜箔生产的方法:目前国内多采用辊式阴极、不溶性阳极以连续法生产电解铜箔。在辊式连续电解法生产电解铜箔的工艺过程中，需进行表面钝化处理，即镀阻挡层后的铜箔用铬酸盐(或铬酸盐和锌盐)溶液进行表面钝化(即防氧化处理)，使铜箔表面形成以铬(或铬锌)为主体的结构复杂的膜层，使铜箔不会因直接与空气接触而氧化变色，同时也提高了铜箔的耐热性。
防氧化处理过程需用到防氧化槽装置，现有的防氧化槽装置包括支架、转动安装在支架上的挤压辊和两个液下辊、安装在支架上的防氧化槽，防氧化槽内盛装防氧化液，两个液压辊转动传输铜箔的过程中使铜箔沉浸在防氧化液中，挤压辊和其中一个液压辊相配合对铜箔进行挤压，这里用到的防氧化槽为单层槽体，该单层槽体的底部开设回流口，回流口外接用于使防氧化液循环回流的回流机构，即通过管子外接水泵达到回流的目的。但是，回流口直接开设在单层槽体的底部，防氧化液流速较大，扰乱能力较强，使得单层槽体内盛装的防氧化液的稳定性受到影响，进而影响到铜箔的防氧化性能。因此，需要一种电解铜箔新型防氧化槽装置，以克服上述问题的发生。
发明内容
为了解决上述问题，本发明实施例提供了一种电解铜箔新型防氧化槽装置。
本发明的目的是这样实现的：
一种电解铜箔新型防氧化槽装置，包括设置于支架上的防氧化槽，所述防氧化槽包括设置于所述支架上的外槽体、设置于所述外槽体内部的内槽体，所述内槽体的顶部一端开设满溢开槽，所述内槽体与所述满溢开槽同一端外侧壁顶部开设导流槽，所述外槽体的底部与所述满溢开槽靠近的一端开设回流口，所述回流口外接用于使防氧化液循环回流的回流机构。
优选的，所述支架上沿水平方向设置安装座，所述外槽体可拆卸设置于所述安装座的顶部。
优选的，所述安装座的外侧壁上均匀设置若干固定板，所述固定板上开设开孔，所述外槽体的外侧壁上开设与所述开孔相配合的螺纹孔，所述开孔与螺纹孔内穿装安装螺栓。
优选的，所述外槽体的底部与所述回流口相对应的位置设置弯管，所述回流机构与所述弯管连接。
优选的，所述回流机构包括水泵、设置于所述弯管和水泵的进液口之间的进液管、与所述水泵的出液口连接的出液管、与所述出液管的另一端连接且位于所述内槽体上方的下液管，所述下液管的底部均匀开设若干下液孔。
本发明实施例的有益效果为：本发明结构简单，使用方便，防氧化槽包括外槽体和设置于外槽体内部的内槽体，内槽体的顶部一端开设满溢开槽，内槽体与满溢开槽同一端外侧壁顶部开设导流槽，外槽体的底部与满溢开槽靠近的一端开设回流口，使得内槽体盛满防氧化液之后才会通过满溢开槽和导流槽流入外槽体内，然后才会通过回流口流出，对流速、流向起到缓冲作用，确保内槽体内的防氧化液始终处于盛满的状态，确保防氧化液的稳定性，提高铜箔的防氧化性能。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为图1的右视图；
图3为本发明防氧化槽的结构示意图；
图4为图3中A-A方向的剖面结构示意图；
图中：1、支架；2、安装座；3、固定板；4、安装螺栓；5、外槽体；6、内槽体；7、弯管；8、进液管；9、水泵；10、出液管；11、支撑板；12、下液管；13、挤压辊；14、第一液下辊；15、铜箔；16、第二液下辊；17、满溢开槽；18、导流槽。
具体实施方式
下面参照附图来描述本发明的优选实施方式。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理，并非旨在限制本发明的保护范围。
实施例1
如图1-图4所示，一种电解铜箔新型防氧化槽装置，包括安装在支架1上的防氧化槽，防氧化槽内盛装防氧化液。支架1上转动安装有一个挤压辊13和两个液下辊，两个液下辊分别为位于挤压辊13前侧的第一液下辊14和位于第一液下辊14下侧的第二液下辊16，第一液下辊14和第二液下辊16对铜箔15进行导向传输，挤压辊13和第一液下辊14合力对位于二者之间的铜箔15进行挤压。第一液下辊14和第二液下辊16在转动过程中底部始终沉浸在防氧化液中，使得铜箔15在传输过程中经过防氧化液的浸泡，保证浸泡充分。该部分结构为现有技术，不做进一步赘述。防氧化槽包括安装在支架1上的外槽体5、安装在外槽体5内部的内槽体6。支架1上沿水平方向焊接安装座2，外槽体5可拆卸安装在安装座2的顶部。安装座2的外侧壁上均匀焊接若干固定板3，固定板3上开设开孔，外槽体5的外侧壁上开设与开孔相配合的螺纹孔，开孔与螺纹孔内穿装安装螺栓4，固定牢靠，拆装便捷。内槽体6的顶部后端开设满溢开槽17，保证内槽体6盛装满防氧化液之后，多余的防氧化液会经过满溢开槽17溢流而出，流入外槽体5内。内槽体6的后侧壁顶部开设有与满溢开槽17连通的导流槽18，保证从满溢开槽17流出的防氧化液经过导流槽18的导流，贴着内槽体6的后侧外壁缓慢流淌，流速稳定、平缓，从而对防氧化液的流向、流速起到缓冲作用，确保内槽体6内的防氧化液始终处于盛满状态的同时，保证防氧化液的流速、流向稳定，提高铜箔15的防氧化性能。
外槽体5的底部后端开设回流口，外槽体5的底部与回流口相对应的位置安装弯管7，弯管7外接回流机构。回流机构包括水泵9、连接在弯管7和水泵9的进液口之间的进液管8、与水泵9的出液口连接的出液管10、与出液管10的另一端连接且位于内槽体6上方的下液管12，下液管12的底部均匀开设若干下液孔。支架1上安装有支撑板11，支撑板11对下液管12起支撑、固定作用。下液管12位于第二液下辊16的上方，从下液孔内流出的防氧化液均匀的流到第二液下辊16上，随着第二液下辊16的转动，平缓地汇聚入内槽体6中，避免流速过大或者流向过于集中而扰乱内槽体6内盛装的防氧化液的稳定性，提高铜箔15的防氧化性能。
需要说明的是，在本发明的描述中，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外，还需要说明的是，在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
术语“包括”或者任何其它类似用语旨在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、物品或者设备/装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其它要素，或者还包括这些过程、物品或者设备/装置所固有的要素。
至此，已经结合附图所示的优选实施方式描述了本发明的技术方案，但是，本领域技术人员容易理解的是，本发明的保护范围显然不局限于这些具体实施方式。在不偏离本发明的原理的前提下，本领域技术人员可以对相关技术特征作出等同的更改或替换，这些更改或替换之后的技术方案都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种电解铜箔新型防氧化槽装置，包括设置于支架上的防氧化槽，其特征在于：所述防氧化槽包括设置于所述支架上的外槽体、设置于所述外槽体内部的内槽体，所述内槽体的顶部一端开设满溢开槽，所述内槽体与所述满溢开槽同一端外侧壁顶部开设导流槽，所述外槽体的底部与所述满溢开槽靠近的一端开设回流口，所述回流口外接用于使防氧化液循环回流的回流机构。
2.根据权利要求1所述的电解铜箔新型防氧化槽装置，其特征在于：所述支架上沿水平方向设置安装座，所述外槽体可拆卸设置于所述安装座的顶部。
3.根据权利要求2所述的电解铜箔新型防氧化槽装置，其特征在于：所述安装座的外侧壁上均匀设置若干固定板，所述固定板上开设开孔，所述外槽体的外侧壁上开设与所述开孔相配合的螺纹孔，所述开孔与螺纹孔内穿装安装螺栓。
4.根据权利要求1所述的电解铜箔新型防氧化槽装置，其特征在于：所述外槽体的底部与所述回流口相对应的位置设置弯管，所述回流机构与所述弯管连接。
5.根据权利要求4所述的电解铜箔新型防氧化槽装置，其特征在于：所述回流机构包括水泵、设置于所述弯管和水泵的进液口之间的进液管、与所述水泵的出液口连接的出液管、与所述出液管的另一端连接且位于所述内槽体上方的下液管，所述下液管的底部均匀开设若干下液孔。
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