CN102243976B - 等离子体加工设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种等离子体加工设备，其电极开启机构包括起吊部件，所述起吊部件的外侧部安装于所述等离子体加工设备的电极壳体(22)的内壁，且在所述电极壳体(22)的带动下随之在竖直方向上移动，所述起吊部件的内侧部可选择地与所述等离子体加工设备的调整支架(23)在竖直方向上卡接或者脱离。避免了起吊部件与调整支架(23)在重新连接的过程中造成的调整支架(23)的倾斜，保证了调整支架(23)起吊后重新落下后与反应腔体(0)之间的定位可靠性，进而提高了上电极重新关闭时的定位可靠性，提高了等离子体处理设备的工作性能。

Description

等离子体加工设备

技术领域

本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种等离子体加工设备。

背景技术

随着我国经济建设的快速发展，市场对于各种微电子元件的需求量日益增大，由此便带动了微电子技术的迅猛发展。等离子体加工设备是一种典型的微电子处理设备，广泛应用于微电子技术领域。

请参考图1，图1为现有技术中一种典型的等离子体加工设备的结构示意图。

一种典型的等离子体加工设备包括反应腔室11，反应腔室11的顶部支承有用于调节其内部空间高度的调整支架13，该调整支架13的上表面支承有用于防止等离子体泄露的石英窗14，石英窗14上方悬有产生电磁场的金属线圈，金属线圈通过连接条连接有匹配器15，反应腔室11的内部固定安装有下电极部分16，反应腔室11的大体中间位置具有静电卡盘（图中未示出），静电卡盘用于支撑和固定被加工件（例如晶圆等），被激发的等离子体直接作用在晶圆的上表面。等离子体加工设备工作时，通过机械夹持装置或静电卡盘将被加工件固定于反应腔室11内特定的工位上，同时通过干泵等真空获得装置在反应腔室11中制造并维持接近真空的状态。在此状态下，通过气体分配装置向反应腔室11中输入工艺气体，并在向反应腔室11中输入适当的射频，从而激活工艺气体，进而在加工件的表面产生并维持等离子体环境。由于具有强烈的刻蚀以及淀积能力，等离子体可以与加工件发生刻蚀或者淀积等物理化学反应，以获得所需要的刻蚀图形或者淀积层，反应的副产物由真空获得装置从反应腔室11中抽出。

等离子体加工设备在工作过程中需要向反应腔室11中输送用于激励工艺气体的射频电磁场，射频电磁场通过固定于反应腔室11上方的射频电源、同轴电缆、匹配器15、线圈等器件产生。在等离子体加工设备中可以将上述调整支架13、石英窗14、匹配器15等需要位于反应腔室11顶部的元器件安装于壳体12中，并将上述各元器件以及壳体12的组件称为上电极部分。

在等离子体加工设备在使用一定时间后，需要对反应腔室11的内部进行维护。在进行一些类型的维护（例如清洗反应腔室11内石英陶瓷部件、更换静电卡盘、调平等）时，需要把整个上电极部分移除或升起；而在进行另外一些类型的维护（例如更换石英窗14、检查喷嘴管路等）时，不要将调整支架13和石英窗14等部件移除，而只需要将上电极部分中的其他部分单独移除或升起。通常在等离子体加工设备中使用电极开启机构来将上电极部分整体或者局部自反应腔室11的顶部移除。

请参考图2、图3以及图4，图2为一种典型的电极开启机构在上电极部分未开启状态时的结构示意图；图3为图2所示电极开启机构在上电极部分整体开启状态时的结构示意图；图4为图2所示电极开启机构在上电极部分局部开启状态时的结构示意图。

该电极开启机构包括固定安装于调整支架13上的起吊柱17，调整支架13具有第一凸缘131，上述起吊柱17通过台阶定位螺栓181安装于该第一凸缘131上，起吊柱17的螺纹段贯穿壳体12的第二凸缘121部分，并且通过锁紧螺母182可选择地将起吊柱17与壳体12的第二凸缘121锁紧。当上电极部分整体开启时，将上述锁紧螺母182旋紧，通过起吊柱17将壳体12和调整支架13固定连接，壳体12在外力的作用下移除时，同时带动调整支架13和调整支架13上的石英窗14自反应腔室11的顶部移除，以实现上电极部分的整体开启；而当上电极部分局部开启时，将上述锁紧螺母182自起吊柱17上旋下，起吊柱17与壳体12之间的固定连接关系解除，当壳体12在外力的作用下移除时，调整支架13和石英窗14不会随壳体12同步移除，从而实现了上电极部分的局部移除。

但是，使用上述电极开启机构的上电极部分在开启后再关闭时的定位准确性无法保证，上述起吊柱17和锁紧螺母182的连接方式属于调节式连接，也即当起吊柱17与壳体12连接时，需分别旋紧周向的各个锁紧螺母182，而各锁紧螺母182的旋转程度很难同步，当分布于壳体12周向各处的锁紧螺母182分别锁紧时，壳体12的外周很可能不在同一水平面上，导致重新关闭时反应腔室11上的定位销无法顺利地进入调整支架13的定位孔内，调整支架13发生偏斜或密封面损伤，甚至使得石英窗14与其它零部件发生撞击而破损。同时，由于壳体12内的维护空间有限，当上电极部分局部开启时，需要使用工具将锁紧螺母182旋下，操作过程中工具很容易撞击石英窗14而使其发生损坏；另外，由于工具的使用空间很受限制，使得工具的使用较为不便，从而进一步延长了设备的维护时间。

因此，如何提高上电极部分在重新关闭时的定位准确性，同时避免其在开启和关闭的过程中对零部件造成损坏，从而提高上电极开启机构的工作可靠性，就成为本领域技术人员亟须解决的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种等离子体加工设备，其电极开启机构能够提高上电极部分在重新关闭时的定位准确性，从而具有较高的工作可靠性。

为解决上述技术问题，本发明提供一种等离子体处理设备，包括腔室以及支承于所述腔室上方的调整支架、上电极、下电极和包括起吊部件的电极开启机构，所述起吊部件的外侧部安装于所述等离子体处理设备的电极壳体的内壁，且在所述电极壳体的带动下随之在竖直方向上移动，所述起吊部件的内侧部与所述等离子体处理设备的调整支架在竖直方向上卡接或者脱离。

优选地，所述起吊部件为与所述调整支架同轴设置的起吊环，且所述起吊环的外侧部可转动地卡入所述电极壳体内侧的卡槽之中，所述起吊环的内侧部具有多个向内凸出的第一弧形卡块，所述调整支架的外侧部具有向外凸出的第二弧形卡块；所述第二弧形卡块的外径大于所述第一弧形卡块的内径，并小于所述起吊环的内径；相邻的两所述第一弧形卡块的周向距离大于或者等于所述第二弧形卡块的周向长度。

优选地，所述第一弧形卡块的周向长度大于所述第二弧形卡块的周向长度。

优选地，所述第一弧形卡块和所述第二弧形卡块的数目均为三个，且分别沿所述起吊环和所述调整支架的周向均匀设置。

优选地，还包括安装于所述电极壳体上的固定部件，所述电极壳体的内壁具有向内凸出的支撑块，所述支撑块与所述固定部件之间具有轴向距离，所述起吊环卡接于所述支撑块和所述固定部件形成的卡槽中。

优选地，所述固定部件朝向所述起吊环的表面开设有凹槽，所述起吊环朝向所述固定部件的表面开设有凸块，所述凸块可旋转地安装于所述凹槽中。

优选地，所述固定部件为均匀安装于所述电极壳体周向的多个弧形块。

优选地，还包括安装于所述起吊环上的旋转手柄。

优选地，还包括固定所述固定部件和所述起吊环的定位销，且所述定位销与所述固定部件之间安装有回位弹簧。

本发明所提供的等离子体加工设备包括腔室以及支承于反应腔室上方的调整支架、上电极、下电极和电极开启机构，电极开启机构进一步包括电极壳体、调整支架和起吊部件，其起吊部件的外侧部安装于等离子体加工设备的电极壳体的内壁，且在电极壳体的带动下随电极壳体在竖直方向上移动，起吊部件的内侧部可选择地与所述等离子体加工设备的调整支架在竖直方向上卡接或者脱离，当起吊部件卡接于调整支架时，调整支架随起吊部件的运动而运动，当起吊部件脱离于调整支架时，调整支架不随起吊部件的运动而运动。在等离子体加工设备处于正常工作状态时，起吊部件卡接于调整支架上，或者不卡接于调整支架上；在需要对等离子体加工设备进行某一些维护作业，而需要将整个上电极部分全部移除或者升起时，令起吊部件卡接于调整支架，实现两者的可靠连接，由于起吊部件与电极壳体是固定连接，此时，电极壳体、起吊部件以及调整支架等部件固定连接，则吊装设备将电极壳体自反应腔体的上方吊起时，带动起吊部件在电极壳体的带动下在竖直方向上向上运动，进而带动调整支架与电极壳体同步移除或者上升，维护完毕，电极壳体、起吊部件和调整支架同步在竖直方向上向下运动，直至移回原位，调整支架与起吊部件重新实现卡接；在需要对等离子体加工设备需要进行另一类维护而无需将调整支架等部件移除时，解除调整支架与起吊部件之间的卡接连接，也即令调整支架与起吊部件相脱离，则起吊部件随电极壳体运动时，调整支架固定不动，当维护完毕后，起吊部件随电极壳体落回原位，并令起吊部件与调整支架重新卡接。

由于卡接对于相关部件的位置要求较为严格，起吊部件与调整支架必须处于预定的位置关系时，才能够使得起吊部件与调整支架之间实现卡接，卡接后调整支架的底面是否是处于水平位置的，取决于调整支架和起吊部件的结构关系，而不会受到安装过程的影响，两者卡接之前调整支架的底面是处于水平位置的，卡接过程中不会造成调整之间在竖直方向上的位置变化，从而避免了起吊部件与调整支架在重新连接的过程中造成的调整支架的倾斜，保证了调整支架起吊后重新落下后与反应腔体之间的定位可靠性，进而提高了上电极部分重新关闭时的定位可靠性；同时，卡接为不可调节的连接，无需通过周向的调节实现调整支架和起吊部件的连接，从而保证了再次连接后调整支架的水平度，进而提高了等离子体处理设备的工作性能。

在一种优选的实施方式中，上述起吊部件为与调整支架同轴设置的起吊环，且起吊环的外侧部可转动地卡入电极壳体内侧的卡槽之中，起吊环的内侧部具有向内凸出的第一弧形卡块，调整支架的外侧部具有向外凸出的第二弧形卡块；第二弧形卡块的外径大于第一弧形卡块的内径，并小于起吊环的内径；相邻的两第一弧形卡块的周向距离大于或者等于第二弧形卡块的周向长度。这样，由于起吊部件为环形结构，当其回落至调整支架的上表面时，起吊部件上的各处能够同时回落，从而进一步提高了电极开启机构的防倾斜性能；同时，该结构无需利用工具对起吊部件和调整支架重新连接，避免了工具对两部件造成的损坏，从而提高了电极开启机构的工作可靠性，进而进一步提高了等离子体处理设备的工作性能。

在另一种优选的实施方式中，本发明所提供的电极开启机构还可以包括安装于电极壳体上的固定部件，电极壳体的内壁具有向内凸出的支撑块，支撑块与固定部件之间具有轴向距离，起吊环卡接于支撑块和固定部件形成的卡槽中。这样，起吊环与固定部件之间为支撑与被支撑的关系，起吊环的上表面与固定部件相接触，固定部件仅仅限制了起吊环在竖直方向上的运动，而没有限制起吊环在水平面上的运动，因此，起吊环能够绕其自身的轴线自由转动，从而保证了起吊环的转动灵活性，提高了机构的使用性能。

附图说明

图1为现有技术中一种典型的等离子体加工设备的结构示意图；

图2为一种典型的电极开启机构在上电极部分未开启状态时的结构示意图；

图3为图2所示电极开启机构在上电极部分整体开启状态时的结构示意图；

图4为图2所示电极开启机构在上电极部分局部开启状态时的结构示意图；

图5为本发明所提供等离子体加工设备的电极开启机构一种具体实施方式的立体图；

图6为图5所示电极开启机构在上电极部分未开启状态时的剖视示意图；

图7为图5所示电极开启机构在上电极部分整体开启状态时的结构示意图；

图8为图5所示电极开启机构在上电极部分准备局部开启状态时的结构示意图；

图9为图5所示电极开启机构在上电极部分局部开启状态时的结构示意图；

图10为本发明所提供的电极开启部分中的定位机构一种具体实施方式的立体图；

图11为本发明所提供的电极开启部分中的锁定机构一种具体实施方式的立体图。

具体实施方式

本发明的核心是提供一种等离子体加工设备，其电极开启机构能够提高上电极部分在重新关闭时的定位准确性，从而具有较高的工作可靠性。

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。

请参考图5和图6，图5为本发明所提供等离子体加工设备的电极开启机构一种具体实施方式的立体图；图6为图5所示电极开启机构在上电极部分未开启状态时的剖视示意图。

在一种具体实施方式中，本发明所提供的等离子体加工设备，包括腔室0以及支承于反应腔室0上方的调整支架23、上电极、下电极和电极开启机构，电极开启机构进一步包括电极壳体22、调整支架23和起吊部件；其中，电极壳体22用于支撑和安装电极部分，调整支架23安装于等离子体加工设备的反应腔室0上方，且调整支架23的上方支撑有石英窗29；起吊部件安装于调整支架23和电极壳体22之间，用于可选择地带动调整支架23随电极壳体22的运动而运动，起吊部件的外侧部安装于等离子体加工设备的电极壳体22的内壁，且在电极壳体22的带动下随之在竖直方向上移动，起吊部件的内侧部可选择地与等离子体加工设备的调整支架23在竖直方向上卡接或者脱离。

起吊部件可以具体为具有环状结构的起吊环21，该起吊环21与所述调整支架23同轴设置，且起吊环21的外侧部可转动地卡入所述电极壳体22内侧的卡槽之中，起吊环21的内侧部具有向内凸出的第一弧形卡块211，调整支架23的外侧部具有向外凸出的第二弧形卡块231；第二弧形卡块231的外径大于第一弧形卡块211的内径，并小于起吊环21的内径；相邻的两第一弧形卡块211的周向距离大于或者等于第二弧形卡块231的周向长度。这样，由于起吊部件为环形结构，当其回落至调整支架23的上表面时，起吊部件上的各处能够同时回落，从而进一步提高了电极开启机构的防倾斜性能；同时，该结构无需利用工具对起吊部件和调整支架重新连接，避免了工具对两部件造成的损坏，从而提高了电极开启机构的工作可靠性。

具体地，上述第一弧形卡块211和第二弧形卡块231均可以为扇形凸缘的形式，且上述第一弧形卡块211数目可以为四个，且大体均匀地设置于起吊环21的周向上，第一弧形卡块211的强度在设计上能够承受整个调整支架23以及之上的所有重物；相应地，上述第二弧形卡块231的数目也为四个，大体均匀地设置于调整支架23的周向上，同样地，第二弧形卡块231的强度在设计上也能够承受调整支架23本身以及之上的所有重物。

上述起吊环21的内径可以适当地大于调整支架23的外径，具体地，在没有其他阻挡的情况下，调整支架23能够顺利地从起吊环21的内径中脱出，同时，也不应使两者的距离过大，此时，上述第一弧形卡块211相对于起吊环21向内凸出，相应地，第二弧形卡块231相对于调整支架23向外凸出；上述起吊环21的外径也可以适当地小于调整支架23的内径，同样的，两者的径向距离应既能够满足两者的分离，又不会使两者的距离过大，此时，上述第一弧形卡块211相对于起吊环21向外凸出，相应地，上述第二弧形卡块231相对于调整支架23向内凸出。需要指出的是，上述向内凸出是指向靠近圆心的方向延伸，相应地，向外凸出是指向远离圆心的方向延伸。

相邻两第一弧形卡块211的周向距离大于第二弧形卡块231的周向长度，这样才能保证电极部分的局部开启。

第一弧形卡块211和第二弧形卡块231的数目可以均为三个，且分别沿起吊环21和调整支架23的周向均匀设置。以便进一步保证起吊环21与调整支架23的安装平稳性。

上述第一弧形卡块211和第二弧形卡块231的数量均不局限于三个，两者的数量也可以为四个或者更多，只要能够保证起吊后调整支架23的水平放置，并能够满足预定的强度要求，第一弧形卡块211和第二弧形卡块231的数量均不应受到本说明书的限制；同时，两卡块的结构形式也不局限于扇形凸缘的形式，其也可以为卡块与卡槽相配合或者方形凸缘的形式。

上述起吊环21与调整支架23的材料可以为本领域中常规使用的各种金属材料，例如铸铁、不锈钢等材料，也可以为符合预定强度要求的非金属材料，例如硬质塑料等；只要能够满足一定的强度要求，起吊环21和调整支架23的具体材料不应受到本说明书的限制。

上述第一弧形卡块211的周向长度大于第二弧形卡块231的周向长度。具体地，起吊环21每个第一弧形卡块211部分在圆弧方向上的大小尽可能大于调整支架23每个第二弧形卡块231在圆弧方向上的开口大小，以便保证调整支架23的设计强度。

上述起吊环21的内侧是指远离电极壳体22内壁的一侧，相应地，其外侧部是指靠近电极壳体22内壁的一侧。

上述起吊部件也不局限于环状结构的起吊环21，其也可以包括沿调整支架23周向设置的多个的扇形起吊块，各扇形的圆心相互重合，并通过扇形的圆弧部分可选择地与调整支架23卡接。

显然地，起吊部件并不局限于上述两种具体实施方式，只要能够实现起吊部件的一部分安装于电极壳体22，另一部分可选择地卡接于调整支架23即可，其具体结构形式不应受到本说明书具体实施方式的限制。例如，上述起吊部件可以为一端与电极壳体22铰接的起吊臂，该起吊臂可以沿电极壳体22的周向均匀设置四个，各起吊臂与电极壳体22之间通过竖直设置的铰接轴铰接，以便起吊臂能够绕铰接轴在水平方向摆动；当电极部分整体开启时，起吊臂摆动至电极壳体22的内部，并与调整支架23卡接，以便带动调整支架23等部件整体移除，当电极部分局部开启时，起吊臂摆动至电极壳体22的外部，与调整支架脱离，此时，起吊臂不会带动调整支架23运动，以便实现电极部分的局部开启。

上述电极壳体22用于安装和支撑电极部分的元器件，例如线圈等，电极壳体22也可以直接由线圈盒或者其他盒体充当，当电极开启时，起重装置将电极壳体22吊起（如果由线圈盒或者其他盒体充当电极壳体22，则将充当电极壳体22的线圈盒或者其他盒体吊起）。电极壳体22上可以设置有方便起重设备起吊的结构，例如起吊板或者起吊耳等，起重设备通过连接部件固定于起吊板或者起吊耳上，以便更为方便地将电极壳体22吊起。

请参考图7、图8以及图9；图7为图5所示电极开启机构在上电极部分整体开启状态时的结构示意图；图8为图5所示电极开启机构在上电极部分准备局部开启状态时的结构示意图；图9为图5所示电极开启机构在上电极部分局部开启状态时的结构示意图。

当起吊部件卡接于调整支架23时，调整支架23随起吊部件的运动而运动，当起吊部件脱离于调整支架23时，调整支架23不随起吊部件的运动而运动。在等离子体加工设备处于正常工作状态时，起吊部件卡接于调整支架23上，或者不卡接于调整支架23上；在需要对等离子体加工设备进行某一些维护作业，而需要将整个上电极部分全部移除或者升起时，令起吊部件卡接于调整支架23，实现两者的可靠连接，由于起吊部件与电极壳体22是固定连接，此时，电极壳体22、起吊部件以及调整支架23等部件固定连接，则吊装设备将电极壳体22自反应腔体的上方吊起时，起吊部件在电极壳体22的带动下在竖直方向上向上运动，进而带动调整支架23与电极壳体22同步移除或者上升，维护完毕，电极壳体22、起吊部件和调整支架23同步在竖直方向上向下运动，直至移回原位，调整支架23与起吊部件重新实现卡接；在需要对等离子体加工设备需要进行另一类维护而无需将调整支架等部件移除时，解除调整支架23与起吊部件之间的卡接连接，也即令调整支架23与起吊部件相脱离，则起吊部件随电极壳体22运动时，调整支架23固定不动，当维护完毕后，起吊部件随电极壳体22落回原位，并令起吊部件与调整支架23重新卡接。

由于卡接对于相关部件的位置要求较为严格，起吊部件与调整支架23必须处于预定的位置关系时，才能够使得起吊部件与调整支架23之间实现卡接，卡接后调整支架23的底面是否是处于水平位置的，取决于调整支架23和起吊部件的结构关系，而不会受到安装过程的影响，两者卡接之前调整支架23的底面是处于水平位置的，卡接过程中不会造成调整之间在竖直方向上的位置变化，从而避免了起吊部件与调整支架23在重新连接的过程中造成的调整支架23的倾斜，保证了调整支架23起吊后重新落下后与反应腔体之间的定位可靠性，进而提高了上电极部分重新关闭时的定位可靠性；同时，卡接为不可调节的连接，无需通过周向的调节实现调整支架23和起吊部件的连接，从而保证了再次连接后调整支架23的水平度。

还可以对上述具体实施方式进行进一步的改进。

请参考图10，并请继续参考图5至图9，图10为本发明所提供的电极开启部分中的定位机构一种具体实施方式的立体图。

本发明所提供的等离子体加工设备中的电极开启机构，还可以包括固定安装于所述电极壳体22上的固定部件24，电极壳体22的内壁具有向内凸出的支撑块221，所述支撑块221与所述固定部件24之间具有轴向距离，所述起吊环21卡接于所述支撑块221和所述固定部件24形成的卡槽中。这样，起吊环21与固定部件24之间为支撑与被支撑的关系，起吊环21的上表面与固定部件24相接触，固定部件24仅仅限制了起吊环21在竖直方向上的运动，而没有限制起吊环21在水平面上的运动，因此，起吊环21能够绕其自身的轴线自由转动，从而保证了起吊环21的转动灵活性，提高了机构的使用性能。

上述固定部件24为均匀安装于所述电极壳体22周向的多个弧形块。该弧形块具体可以设置有四个。

起吊环21的适当位置上还可以安装有旋转手柄27。弧形块对起吊环21压力过紧时，通过旋转手柄27可以很容易地旋转起吊环21到合适的位置。另外，为了保证起吊环21旋转位置的准确性，在起吊环21的侧面可以设置两个定位孔28，保证整体或单独开启时起吊环21旋转位置的准确性。旋转手柄27形状可以为多种形状，通过不同方式安装在起吊环21的侧面或上面。

上述固定部件24也不局限于多个弧形块的形式，也可以为与起吊环21大体同轴设置的固定环，且该固定环通过其外周固定于所述电极壳体22，该起吊环21以其上表面支承于固定环的外周。上述起吊环21通过该固定环支撑于电极壳体22，具体地，可以通过固定环的外周固定于电极壳体22，同时上述起吊环21以其上表面支承于固定环的外周。

上述固定部件24朝向起吊环21的表面开设有卡槽，所述起吊环21朝向所述环形固定部件的表面开设有凸块，所述凸块可旋转地安装于所述凹槽中。这样，限制了起吊环21在沿其径向方向上的运动，进而提高了机构的工作可靠性。

请参考图11，图11为本发明所提供的电极开启部分中的定位机构一种具体实施方式的立体图。

本发明所提供的等离子体加工设备中的电极开启机构，还可以包括可选择地插装于固定环24和起吊环21上的定位销25，且该定位销25与固定环24之间安装有回位弹簧26。其中定位销25在回位弹簧26的作用下始终贴合于起吊环21的侧面。当起吊环21旋转到合适的位置时，定位销25在回位弹簧26的作用下插入起吊环21的定位孔，把起吊环21锁死。当换另外一种开启方式时，手动拔出位于定位孔内的定位销25后旋转起吊环21，当旋转到另外一个合适位置时，定位销25在回位弹簧26的作用下又进入另外一个定位孔，再次锁死，从而进一步提高机构在工作时的定位可靠性。

以上对本发明所提供的等离子体加工设备进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种等离子体处理设备，包括腔室（0）以及支承于所述腔室（0）上方的调整支架（23）、上电极、下电极和包括起吊部件的电极开启机构，其特征在于，所述起吊部件的外侧部安装于所述等离子体处理设备的电极壳体（22）的内壁，且在所述电极壳体（22）的带动下随之在竖直方向上移动，所述起吊部件的内侧部与所述等离子体处理设备的调整支架（23）在竖直方向上卡接或者脱离。

2.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述起吊部件为与所述调整支架（23）同轴设置的起吊环（21），且所述起吊环（21）的外侧部可转动地卡入所述电极壳体（22）内侧的卡槽之中，所述起吊环（21）的内侧部具有多个向内凸出的第一弧形卡块（211），所述调整支架（23）的外侧部具有向外凸出的第二弧形卡块（231）；所述第二弧形卡块（231）的外径大于所述第一弧形卡块（211）的内径，并小于所述起吊环（21）的内径；相邻的两所述第一弧形卡块（211）的周向距离大于或者等于所述第二弧形卡块（231）的周向长度。

3.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述第一弧形卡块（211）的周向长度大于所述第二弧形卡块（231）的周向长度。

4.如权利要求3所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述第一弧形卡块（211）和所述第二弧形卡块（231）的数目均为三个，且分别沿所述起吊环（21）和所述调整支架（23）的周向均匀设置。

5.如权利要求2至4任一项所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括安装于所述电极壳体（22）上的固定部件（24），所述电极壳体（22）的内壁具有向内凸出的支撑块（221），所述支撑块（221）与所述固定部件（24）之间具有轴向距离，所述起吊环（21）卡接于所述支撑块（221）和所述固定部件（24）形成的卡槽中。

6.如权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述固定部件（24）朝向所述起吊环（21）的表面开设有凹槽，所述起吊环（21）朝向所述固定部件的表面开设有凸块，所述凸块可旋转地安装于所述凹槽中。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述固定部件为均匀安装于所述电极壳体（22）周向的多个弧形块。

8.如权利要求7所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括安装于所述起吊环（21）上的旋转手柄（27）。

9.如权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括固定所述固定部件（24）和所述起吊环（21）的定位销（25），且所述定位销（25）与所述固定部件（24）之间安装有回位弹簧（26）。

10.如权利要求9所述的等离子体处理设备，其特征在于，具体为等离子体刻蚀设备。

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