KR101203377B1 - 히터 레벨링 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 챔버 내부에 위치하는 히터의 레벨을 조절하는 히터 레벨링 장치에 관한 것으로서, 하부지지판과; 히터를 승강시키는 승강구동장치에 연결되어 히터를 지지하며, 하부면에 볼 고정홈이 구비된 상부원판과; 하부지지판과 상부원판에 체결되어 하부지지판에 상부원판을 가압하여 밀착 고정시키는 스프링과; 하부지지판과 상부원판 사이에 배치되며, 볼 안착홈을 가지는 회전부와; 회전부를 회전구동시키는 구동부와; 볼 안착홈과 볼 고정홈 사이에서 위치되며, 회전부의 회전시 볼 안착홈에 안착된 상태에서 회전되면서 볼 고정홈으로부터 이탈하여 상부원판의 볼 고정홈이 형성되지 않은 부분에서 상부원판을 상승시키는 레벨링 볼을 포함하여 구성되고, 상기 상부원판의 하부면에 형성된 삽입홈에 삽입되어 상기 상부원판의 볼 고정홈을 채워 상기 볼을 이탈시키는 레벨링 바를 더욱 구비하여, 히터와 샤워헤드 사이의 간격 조절을 가능하게 하여 막두께의 균일성을 향상시킬 수 있고, 히터의 일정한 레벨을 유지하면서도 쉽고 빠른 레벨링이 가능하고, 챔버내의 하드웨어적인 구성을 변경하지 않고도 챔버내에서 처리되는 공정조건이나 챔버내의 히터나 샤워헤드의 상태에 따라서 기판이 안착된 히터와 샤워헤드의 간격을 미세하게 조정할 수 있다.

Description

히터 레벨링 장치{device for leveling heater}
본 발명은 기판처리장치의 히터 레벨링 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼(Wafer)가 안착되는 히터(Heater)의 레벨(Level)을 용이하게 조절할 수 있도록 히터의 하단부에 히터 레벨링 장치를 구비하여 히터와 샤워헤드간의 간격조절을 용이하게 함으로써, 기판상에 형성되는 막두께의 균일성 (Uniformity)을 향상시키는 히터 레벨링 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 웨이퍼는 사진 공정, 이온확산 공정, 식각 공정, 박막증착 공정 등 제반 공정들을 반복적으로 수행하여 반도체 장치인 칩(Chip)으로 제조되는데, 이와 같은 공정 중에서 박막증착 공정은 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 공정으로, 박막증착 방법에 따라 크게 물리기상증착방법과 화학기상증착 방법으로 나누어지며, 최근에는 기체상태의 화합물을 분해한 후 화학적 반응에 의해 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 화학기상증착 방법이 널리 사용되고 있다.
특히, 이러한 화학기상증착 방법은 다시 박막을 형성시키기 위해서 화학 반응이 발생되는 조건 즉, 압력과 온도와 주입되는 에너지에 따라 크게 대기압에서 화학기상증착이 이루어지는 AP CVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)와 저압에서 화학기상증착이 이루어지는 LP CVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 및 저압상태에서 플라즈마에 의해 화학기상증착이 이루어지는 PE CVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등으로 나누어진다.
이러한 박막 증착 공정을 포함하는 다수의 공정을 위한 반도체 제조 설비들은 각 설비마다 각각 서로 다른 반도체 공정을 수행하기 때문에 각 반도체 공정을 원활하게 수행하기 위해서는 각 반도체 공정에 따라 반응가스, 반응온도, 반응압력 등 공정을 진행하기 위한 여러 가지 조건들을 충족시켜야 한다.
예를 들면, 프로세스 챔버 내부로 소정의 반응가스를 공급해줌과 동시에 프로세스 챔버의 상측과 하측으로 각각 소정 주파수의 전원을 공급해줌으로써 챔버내 플라즈마가 발생되도록 하여 소정 반도체 공정을 수행하는 반도체 제조설비 같은 경우에, 상측과 하측으로 공급되는 전원이 상호 단락되지 않도록 하는 단락방지 조건과, 웨이퍼를 가열시켜 주는 히터의 수평유지 조건이 충족되어야 한다.
이들 중 PE CVD 공정을 수행하는 종래의 박막 증착 설비의 하나를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
종래 반도체 제조설비에는 화학기상증착 공정이 진행되는 프로세스 챔버(Process chamber)가 구비되는 바, 이 프로세스 챔버의 내부 상측에는 프리믹스(Premix)된 반응가스(Gas)가 공급되는 샤워헤드(Shower head)가 설치되고, 프로세스 챔버의 내부 하측에는 웨이퍼가 안착되면 웨이퍼를 소정 온도로 가열하는 히터가 설치된다. 그리고, 이러한 샤워헤드에는 반응가스를 해리시키도록 에너지 소스가 되는 HF RF(High Frequency Radio Frequency)가 인가되며, 히터에 약한 DC 바이오스(Direct Current Bios)가 생기게 하여 웨이퍼에 박막 증착시 프로세스 챔버 내 일부 이온이 박막속으로 주입되게 하는 LF RF(Low Frequency Radio Frequency)가 인가되게 된다.
여기에서, 프로세스 챔버 내부의 하측에 설치되는 히터에는 다수의 웨이퍼가 안착될 수 있으며, 웨이퍼의 막질 형성에 영향을 끼치는 요소로서 가스, 온도, RF 파워(Radio Frequency Power) 이외에 히터와 샤워헤드간의 간격도 중요하게 작용한다.
종래의 기판처리장치에 있어서는 샤워헤드 자체의 구성을 변경하거나 히터와 서셉터를 승강시키는 승강구조 자체를 변경하여 히터와 샤워헤드 사이의 간격을 조정하는 방안이 제시되고 있다.
그러나 상술한 종래의 방안에서는, 히터나 샤워헤드의 하드웨어적인 구성 자체를 변경하여야 하므로, 히터와 샤워헤드 사이의 간격을 조정하기 위해서는 비용과 시간이 많이 소요된다고 하는 문제점이 있었다.
또한, 챔버 내에서 처리되는 공정 조건이나 챔버 내의 샤워헤드의 상태에 따라서는, 기판이 안착된 히터가 막형성 위치로 상승된 후에 미세하게 상승시키거나, 히터에 안착된 기판의 어느 일측만을 미세하게 상승시켜 샤워헤드와 히터 사이의 간격을 미세하게 조정할 필요가 발생하는 경우가 있는데, 종래의 기판처리장치에 있어서는, 이러한 미세 조정에 대하여 적절하게 대응하지 못한다고 하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하고자 하는 것으로서, 기판상에 형성되는 막의 두께에 중요한 요소로 작용하는 히터와 샤워헤드간의 간격 조정을 용이하게 실시할 수 있도록 구현하여 웨이퍼에 형성되는 막두께의 균일성을 향상시킬 수 있는 히터 레벨링 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 챔버내의 하드웨어적인 구성을 변경하지 않고도 챔버내에서 처리되는 공정조건이나 챔버내의 히터나 샤워헤드의 상태에 따라서 기판이 안착된 히터와 샤워헤드의 간격을 미세하게 조정할 수 있는 히터 레벨링 장치를 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 히터 레벨링 장치는 하부지지판과; 히터를 승강시키는 승강구동장치에 연결되어 히터를 지지하며, 하부면에 볼 고정홈이 구비된 상부원판과; 하부지지판과 상부원판에 체결되어 하부지지판에 상부원판을 가압하여 밀착 고정시키는 스프링과; 하부지지판과 상부원판 사이에 배치되며, 볼 안착홈을 가지는 회전부와; 회전부를 회전구동시키는 구동부와; 볼 안착홈과 볼 고정홈 사이에서 위치되며, 회전부의 회전시 볼 안착홈에 안착된 상태에서 회전되면서 볼 고정홈으로부터 이탈하여 상부원판의 볼 고정홈이 형성되지 않은 부분에서 상부원판을 상승시키는 레벨링 볼을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부원판의 하부면에 형성된 삽입홈에 삽입되어 상기 상부원판의 볼 고정홈을 채워 상기 볼을 이탈시키는 레벨링 바를 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 레벨링 바는 상기 레벨링 볼과 맞닿는 면이 경사지게 형성된 볼이탈부와; 상기 볼이탈부와 일체로 형성되어 상기 볼이탈부를 지지하는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상부원판의 하부면에는 볼 고정홈의 내측끝단에서 원주방향으로 연장되어 형성된 볼 가이드홈이 마련되며, 볼 가이드홈은 회전부의 회전시 레벨링 볼의 회전을 가이드하여 레벨링 볼이 볼 안착홈에서 이탈되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 구성에 따라, 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치는 히터와 샤워헤드 사이의 간격 조절을 가능하게 하여 막두께의 균일성을 향상시킬 수 있고, 히터의 일정한 레벨을 유지하면서도 쉽고 빠른 레벨링이 가능하다.
또한, 챔버내의 하드웨어적인 구성을 변경하지 않고도 챔버내에서 처리되는 공정조건이나 챔버내의 히터나 샤워헤드의 상태에 따라서 기판이 안착된 히터와 샤워헤드의 간격을 미세하게 조정할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치의 레벨링 바가 볼을 이탈시키기 전을 나타낸 단면도이고,
도 2는 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치의 레벨링 된 상태를 나타낸 단면도이고,
도 3은 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치의 상부원판의 저면사시도이고,
도 4는 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치의 기어장치의 평면도이고,
도 5는 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치의 레벨링 바가 볼을 이탈시킨 후 기어장치가 180°회전한 상태를 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명에 의한 볼 가이드홈을 나타내는 도면이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들에 대해 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)의 레벨링 바(20)가 볼(70)을 이탈시키기 전을 나타낸 단면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)의 레벨링 된 상태를 나타낸 단면도이다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)는 하부지지판(40)과, 상부원판(10)과, 스프링(30)과, 회전부(80)와, 구동부(50)와, 베어링(60) 및 레벨링 볼(70)을 구비한다.
또한, 상기 히터 레벨링 장치(1)가 장착되는 기판처리장치는 진공상태를 유지하는 챔버(3)와, 챔버(3) 내부의 상부에 위치하여 반응가스를 분사시키는 샤워헤드(5)와, 챔버(3) 내부의 하부에 샤워헤드(5)와 소정의 간격을 두고 설치되어 웨이퍼(W)를 그 상면에 안착시키는 히터(2) 및 챔버(3)의 하부에는 수축 및 팽창 동작을 하며 챔버(3)의 기밀을 유지시키는 벨로우즈(4)가 설치된다.
본 실시예에 있어서, 상기 히터(2)의 높이위치를 변화시키는 것을 레벨링이라 한다.
상기 상부원판(10)은 상기 히터(2)를 승강구동시키는 승강구동축의 하부에 일체로 연결되어 상기 히터(2)를 지지한다. 그리고 상부원판(10)의 하측면에는 레벨링 볼(70)이 위치할 수 있는 상부원판 볼 고정홈(12)이 형성되어 있다.
여기서, 상부원판 볼 고정홈(12)에는 상기 히터(2)의 레벨링을 위하여 후술하는 회전부(80)가 회전구동을 시작하기 이전에는 레벨링 볼(70)이 수용되어 있다. 따라서, 히터(2)의 레벨링을 원하지 않는 경우에는 상기 회전부(80)는 회전하지 않고 상부원판 볼 고정홈(12)에 상기 레벨링 볼(70)은 고정되어 있게 된다.
상기 하부지지판(40)은 히터(2)의 레벨링, 즉 상기 회전부(80)의 회전에 의하여 상기 상부원판(10)이 볼(70)에 의하여 상승하는 기준면이 되며, 상기 상부원판(10)의 하부측에 배치된다.
상기 스프링(30)은 상기 하부지지판(40)과 상기 상부원판(10)에 체결되어 상기 하부지지판(40)에 상기 상부원판(10)을 가압하여 밀착 고정시키며, 상기 하부지지판(40)을 기준으로 상기 회전부(80)의 회전으로 인하여 상기 레벨링 볼(70)이 회전하여 상기 상부원판(10)이 상승될 때 상기 스프링(30)의 탄성력에 의하여 상기 레벨링 볼(70)이 상기 회전부(80)의 볼 안착홈(81)에서 이탈되는 것을 방지한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 스프링(30)은 상부원판(10)과 하부지지판(40)의 측면에 결합되어 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 상부원판과 하부원판을 밀착고정시킬 수 있으면 좋다.
도 4는 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)의 회전부(80)의 평면도이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 상기 회전부(80)는 하부지지판(40)과 상부원판(10) 사이에 배치되며, 외주면에는 상기 구동부(50)에 장착된 기어치와 맞물림하는 기어치가 형성되어, 상기 구동부(50)의 회전구동에 의해 기어 맞물림에 의해 회전 구동된다.
또한, 상기 회전부(80)에는 상기 레벨링 볼을 수용하는 볼 안착홈(81)이 형성되어 있고, 상기 볼 안착홈(81)은 상기 레벨링 볼(70)이 쉽게 이탈되지 않는 직경으로 형성되어, 레벨링을 위하여 상기 회전부(80)가 회전하더라도 상기 레벨링 볼(70)은 상기 볼 안착홈(81)에 안착한 채로 상기 회전부(80)와 함께 회전하게 된다.
여기서, 상기 회전부(80)를 회전시키는 구동부(50)는, 예를 들면 구동모터 등으로 형성되어 상기 회전부(80)를 회전시키는 구동장치의 일 예일 뿐이며, 이외에도 다양한 구동장치가 장착될 수 있다.
상기 베어링(60)은 상기 회전부(80)와 상기 하부지지판(40) 사이에 배치되어 상기 회전부(80)가 회전구동될 때에 상기 하부지지판(40)에 대하여 상기 회전부(80)가 원활히 회전되도록 한다.
상기 레벨링 볼(70)은 상부원판의 상기 상부원판 볼 고정홈(12)과 회전부(80)의 상기 볼 안착홈(81)에 위치한 상태에서, 상기 회전부(80)의 회전에 따라 상기 볼 안착홈(81)에 안착한 상태로 함께 회전하게 되며, 상기 레벨링 볼(70)이 상기 상부원판(10)의 하부면에 접하여 회전하게 되면 상부원판 볼 고정홈(12)의 깊이만큼 레벨링 즉, 상부원판(10)이 상승하게 된다.
따라서, 히터(2)와 샤워헤드(5)와의 거리인 d는 상부원판 볼 고정홈(12)의 깊이 또는 상기 레벨링 볼(70)의 직경에 따라 상승높이 d1으로 조절될 수 있다. 또한 도면에는 도시되지 아니하였으나, 상기 레벨링 볼(70)이 안착되는 회전부(80)의 상기 볼 안착홈(81)에 볼트 등을 장착하여 레벨링 볼(70)의 크기를 조절하지 않고도 히터(2)와 샤워헤드(5)와의 거리인 d를 조절할 수 있다.
도 3은 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)의 상부원판(10)의 저면사시도이다. 도 3을 참조하여 살펴보면, 상부원판 볼 고정홈(12)의 깊이가 상기 회전부(80)의 볼 안착홈(81)의 깊이보다 작은 경우, 회전부(80)의 회전시 레벨링 볼(70)은 회전부(80)의 볼 안착홈(81)에 계속 유지되면서 회전부(80)와 함께 회전할 수 있다. 즉, 상부원판 볼 고정홈(12)의 깊이가 회전부(80)의 볼 안착홈(81)의 깊이보다 작기 때문에 상기 회전부(80)의 회전시 레벨링 볼(70)은 볼 안착홈(81)에 안착된 상태로 상부원판 볼 고정홈(12)을 이탈하게 된다.
한편, 상기 회전부(80)가 회전함에 따라 레벨링 볼(70)은 상부원판 볼 고정홈(12)을 지날 때 마다 상부원판 볼 고정홈(12)의 홈 깊이에 따라 진동이 발생될 수 있고, 이러한 진동은 웨이퍼(W)의 균일성(Uinformity)에 방해가 될 수 있기 때문에 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)는 상부원판(10)의 측면에서 결합하는 레벨링 바(20)를 더욱 구비할 수 있다.
여기서, 레벨링 바(20)는 일측에 레벨링 볼과 맞닿는 면을 경사지게 형성한 볼 이탈부(22)를 포함함으로써, 용이하게 레벨링 볼(70)이 상부원판 볼 고정홈(12)으로부터 이탈될 수 있도록 구성된다.
또한, 상기 레벨링 바(20)는 볼이탈부(22)와 일체로 형성된 지지부(21)를 포함한다. 또한, 상부원판(10)의 하부면에는 상부원판(10)의 측면에서 레벨링 바(20)가 용이하게 결합할 수 있도록 레벨링 바(20)의 결합을 안내하는 삽입홈 (11)을 더욱 마련할 수 있다.
상기 회전부(80)의 회전에 의해 상기 레벨링 볼(70)이 상부원판 볼 고정홈(12)으로부터 이탈된 후에 레벨링 바(20)의 지지부(21)는 상부원판 볼 고정홈(12)을 메움으로써, 상기 회전부(80)의 회전에 의하여 레벨링 볼(70)이 회전구동될 때에 생성될 수 있는 진동을 방지한다.
한편, 본 실시예에 있어서는 상기 레벨링 볼(70)이 상기 상부원판의 하부면에 맞닿아 상기 히터를 레벨링하는 것을 예로 하였으나, 상기 상부원판의 하부면에 볼 가이드홈(13)을 더욱 구비하도록 구성할 수 있다.
상기 볼 가이드 홈(13)은 상기 레벨링 볼(70)의 반경 및 상기 볼 안착홈(81)의 깊이보다 작게 형성되며, 상기 상부원판의 하부면에서 상기 볼 안착홈에 상응하는 위치에서 상기 상부원판의 하부면의 둘레를 따라 원형으로 형성되어, 상기 레벨링 볼이 상기 회전부의 회전에 따라 회전할 때에 상기 볼 안착홈에서 이탈되는 것을 방지하면서 보다 용이하게 회전될 수 있도록 구성된다.
한편, 상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 상기 히터레벨링 장치의 구동에 있어서는, 상기 구동부를 고속으로 구동하여, 상기 레벨링 볼의 직경에서 상기 볼 안착홈에 수용된 깊이를 제외한 거리만큼을 상기 히터를 상승시키도록 상기 히터를 레벨링할 수 있지만, 챔버내에서 처리되는 공정조건이나 챔버내의 히터나 샤워헤드의 상태에 따라서 기판이 안착된 히터의 어느 일측만을 상승시켜야 할 필요가 있는 경우에는, 상기 레벨링 볼 및 상기 회전부를 일정 위치만큼만 회전시켜 상기 히터의 일측만을 미세하게 상승시켜 레벨링할 수 있다.
도 5는 본 발명에 따른 히터 레벨링 장치(1)의 레벨링 바(20)가 레벨링 볼(70)을 이탈시킨 후 회전부(80)가 180°회전한 상태를 나타낸 단면도이다. 상술된 구동부(50)는 DC 모터, 로터리 솔레노이드 등을 사용하여 방향, 속도 등을 조절할 수 있으며, 제어장치(도면에 도시되지 아니함)를 추가로 장착하여 레벨링 볼(70)을 설정된 위치에 위치하게 할 수 있다.
예를 들면, 도 5에서와 같이 상기 회전부(80)가 180°회전한 상태에 레벨링 볼(70)이 위치하게 되면 히터(2)는 수평을 기준으로 도 1에서와는 달리 90°- θ의 기울기를 갖게 된다. 여기서 히터(2)의 기울기는 레벨링 볼(70)의 직경에 따라 변경될 수 있으며, 히터(2)에 구배(기울기)를 줄 수 있으므로 설정된 레벨링 볼(70)의 위치에서의 히터(2)와 샤워헤드(5) 사이의 거리 d를 d1으로 변경할 수 있고, 그에 따라 챔버(3) 내의 공정상태에 따라 레벨링 볼(70)의 위치를 변경하여 웨이퍼(W)의 막두께를 원하는 바대로 조정할 수 있게 된다.
이상에서 설명한 본 발명은 바람직한 실시 예들을 통하여 상세하게 설명되었지만, 본 발명은 이러한 실시 예들의 내용에 한정되는 것이 아님을 밝혀둔다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 비록 실시 예에 제시되지 않았지만 첨부된 청구항의 기재 범위 내에서 다양한 본 발명에 대한 모조나 개량이 가능하며, 이들 모두 본 발명의 기술적 범위에 속함은 너무나 자명하다 할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
1 : 히터 레벨링 장치 2 : 히터
3 : 챔버 4 : 벨로우즈
5 : 샤워헤드 10 : 상부원판
11 : 삽입홈 12 : 상부원판 볼고정홈
20 : 레벨링 바 30 : 스프링
40 : 하부지지판 50 : 구동부
60 : 베어링 70 : 레벨링 볼
80 : 회전부 W : 웨이퍼

Claims (4)

  1. 챔버 내부에 배치된 히터의 레벨을 조절하는 히터 레벨링 장치에 있어서,
    하부지지판과;
    상기 히터를 승강시키는 승강구동장치에 연결되어 상기 히터를 지지하며, 하부면에 볼 고정홈이 구비된 상부원판과;
    상기 하부지지판과 상기 상부원판에 체결되어 상기 하부지지판에 상기 상부원판을 가압하여 밀착 고정시키는 스프링과;
    상기 하부지지판과 상기 상부원판 사이에 배치되며, 볼 안착홈을 가지는 회전부와;
    상기 회전부를 회전구동시키는 구동부와;
    상기 볼 안착홈과 상기 볼 고정홈 사이에서 위치되며, 상기 회전부의 회전시 상기 볼 안착홈에 안착된 상태에서 회전되면서 상기 볼 고정홈으로부터 이탈하여 상기 상부원판의 상기 볼 고정홈이 형성되지 않은 부분에서 상기 상부원판을 상승시키는 레벨링 볼을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부원판의 하부면에 형성된 삽입홈에 삽입되어 상기 상부원판의 볼 고정홈을 채워 상기 볼을 이탈시키는 레벨링 바를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 레벨링 바는
    상기 볼과 맞닿는 면이 경사지게 형성된 볼이탈부와;
    상기 볼이탈부와 일체로 형성되어 상기 볼이탈부를 지지하는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 상부원판의 하부면에는 상기 볼 고정홈의 내측끝단에서 원주방향으로 연장되어 형성된 볼 가이드홈이 마련되며,
    상기 볼 가이드홈은 상기 회전부의 회전시 상기 레벨링 볼의 회전을 가이드하여 상기 레벨링 볼이 상기 볼 안착홈에서 이탈되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 히터 레벨링 장치.
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