CN102187884A

CN102187884A - 一种陶瓷擀面杖及其加工工艺

Info

Publication number: CN102187884A
Application number: CN2010101229857A
Authority: CN
Inventors: 王安英; 岳孝清; 徐东昌; 孟姗姗; 马宁; 刘林杰
Original assignee: SHANDONG SILICON NEW MATERIAL CO Ltd
Current assignee: SHANDONG SILICON NEW MATERIAL CO Ltd
Priority date: 2010-03-12
Filing date: 2010-03-12
Publication date: 2011-09-21

Abstract

本发明属于陶瓷材料制品领域，尤其涉及一种陶瓷擀面杖。本发明还涉及一种陶瓷擀面杖的加工工艺。本发明中采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体，因其不吸水，从而使产品一端形成一插孔，孔深1-6厘米，采用插烧工艺，保证了产品表面的全面施釉。该陶瓷擀面杖既环保，又卫生，且强度高，能够满足高档次要求，而且使用时省力；采用本发明所述的加工工艺，采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，从而使产品一端形成一插孔，采用插烧工艺，避免了产品烧成时的变形，同时也保证了产品表面的全面施釉。

Description

一种陶瓷擀面杖及其加工工艺

技术领域

本发明属于陶瓷材料制品领域，尤其涉及一种陶瓷擀面杖。本发明还涉及一种陶瓷擀面杖的加工工艺。

背景技术

随着国民生活的日益提高，对家居产品的要求也越来越高，人们不再仅限于用品的实用，更在乎其品位，这主要表现在产品的美观程度，文化内涵、制作的精致程度。在国内外市场上，擀面杖为木质、石头等，在长期的使用中，木质容易吸水，附着面，不容易清洗，容易滋生细菌，不卫生；石头的表面粗燥，表面带有小孔，容易将面嵌在孔里，清洗不方便，而且石头制成棒状后，强度很低，容易断，总之，现有擀面杖的材料，不环保、不卫生，无法满足高档次生活要求。瓷擀面杖的使用在国际、国内尚无先例。

发明内容

本发明克服了上述技术上的缺陷，提供了一种陶瓷擀面杖及其加工工艺。

一种陶瓷擀面杖，它包括陶瓷擀面杖本体，擀面杖本体外表面附着有陶瓷釉层。

本发明中的擀面杖本体的一端设置有插孔，插孔的设置可以使发明采用插烧工艺，避免了产品烧成时的变形，同时也保证了产品表面的全面施釉。

本发明中所述陶瓷擀面杖的釉层厚度为：0.05-3mm；其釉层厚度具体可以为：0.3mm。该高温釉能够与工业瓷相匹配，不易出现釉泡、流釉现象。

其中，陶瓷釉层的外表面可有装饰层。装饰层可经过贴花纸或彩绘后彩烧，形成良好的装饰层，能够满足高档次生活的使用要求。

本发明中陶瓷擀面杖的加工工艺为：

按配方入球磨→泥浆测细度出磨过筛→高强度除铁器除铁→泥浆储存(泥浆池)→成型→半成品干燥→修坯→第一次高温烧坯→素坯振动抛光→施釉→第二次釉烧→装饰→彩烤→成品。

本发明的创新点

1)采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体，因其不吸水，从而使产品一端形成一插孔，孔深1-6厘米，采用插烧工艺，保证了产品表面的全面施釉。

2)通过设计与氧化铝陶瓷匹配的高温釉，从而实现了在国内外首次将陶瓷花纸装饰在了氧化铝陶瓷上，将氧化铝陶瓷的高强、高韧性与高耐磨的釉料、高雅的花纸完美地结合在一起，从而成功地将氧化铝陶瓷首次从工业用瓷的领域引用到民用，为民用瓷增添了一种高性能新瓷种。在氧化铝陶瓷上施釉、装饰花纸，这是创新。

本项目采用了高性能的工业瓷作为擀面杖材质，这就又为我们提出了一个更大的难题，必须研制与工业瓷相匹配的釉，我们在日用瓷釉的基础上，经过了一系列的配方试验，最终试验成功了在1100℃--1480℃烧成的釉面，该釉强度高，釉面亮度高，与工业瓷匹配性能好。在正常情况下，氧化铝瓷的热膨胀系数为5.5--6.5(×10^-6/℃)(25℃-200℃)，7.2--8.3(×10^-6/℃)(25℃-1000℃)，长期以来，氧化铝瓷因釉料配置难度较大，工艺操作困难，施釉厚度、烧成温度范围均较窄，极易出现釉泡、流釉现象，工艺很难控制，故一般不施釉。我们通过一系列的设计，制定了釉的组成二氧化硅62％-75％、氧化铝8％-21％、氧化钙0.2％-1％、氧化镁3％-5.1％、氧化钾4.8％-7.8％、氧化钠1.25％-1.99％、氧化钛1.2％-3.0％，通过控制二氧化硅中熔融石英含量为10-28％来降低釉层的膨胀系数，保证釉的膨胀系数应稍低于坯体的膨胀系数，使釉层少受正压力，从而提高产品的抗折强度和抗热震性能，釉料制备的工艺要点：

(1)、釉料的基本组成及重量配比：二氧化硅62％-75％、氧化铝8％-21％、氧化钙0.2％-1％、氧化镁3％-5.1％、氧化钾4.8％-7.8％、氧化钠1.25％-1.99％、氧化钛1.2％-3.0％；釉料需要加添加剂熔融石英，加入量10-28％；配制釉料的结合剂，挑选软质粘土，其Fe₂o₃含量小于0.02；

(2)、釉料研磨细度控制采用万孔筛，万孔筛余：0.02-0.04％；

(3)、施釉厚度控制在0.05-3mm，陶瓷釉层的厚度优选为：0.3mm；

(4)、高温素烧瓷胎一定要充分瓷化。

施釉的工艺采用本技术领域的常规工艺即可。

上述高温釉料配方及制备工艺除适用于工业陶瓷，还可适用于日用陶瓷。

该釉与骨质瓷釉相比，白度更高，泛青白色，釉面更亮，玉白细润。主要技术指标如下：白度：85％；透明度：2.15％；釉面光泽：105％。这主要与氧化铝陶瓷用料纯度较高，坯体白度很高有关。设计的与之匹配的高温装饰花纸设计华贵大气，高雅美观，带给您贵族般的享受。该高性能全陶瓷擀面杖整体时尚美观、玉白细润、品质高雅，是新材料与现代科技的完美结合，真正体现了现代人环保健康的理念。

陶瓷的成型工艺为：挤出成型、干压成型、热压铸成型、注浆成型、等静压成型、热等静压成型、注射成型、直接凝固注模成型、凝胶注成型、离心注浆成型与固体自由成型。

陶瓷种类：日用陶瓷、工业陶瓷；

工业陶瓷：氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷；

氧化物陶瓷：氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、石英陶瓷、莫来石陶瓷、镁质瓷、锆英石陶瓷；

非氧化物陶瓷：氮化物陶瓷、碳化物陶瓷、硼化物陶瓷、硅化物陶瓷。

氧化铝陶瓷是一种以Al₂O₃为主要原料，以刚玉(α-Al₂O₃)为主晶相的陶瓷材料.因其具有机械强度高，硬度大，高频介电损耗小，高温绝缘电阻高，耐化学腐蚀性和导热性良好等优良综合技术性能，已被广泛应用于电子，电器，机械，化工，纺织，汽车，冶金和航空航天等行业，同时氧化铝陶瓷又具有白度高、高抗摔、烧成收缩小(以同样的成型工艺氧化铝为10％左右，而日用瓷为18％左右，因而产品变形小，成品率高。)、原料纯度高，无毒、无害、健康环保，应用于民用是一种高品质的瓷种。我公司是国内唯一一家提出工业陶瓷民品化这一思路。

本发明的有益效果：该陶瓷擀面杖既环保，又卫生，且强度高，能够满足高档次要求，而且使用时省力；采用本发明所述的加工工艺，采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，从而使产品一端形成一插孔，采用插烧工艺，避免了产品烧成时的变形，同时也保证了产品表面的全面施釉；通过设计与氧化铝陶瓷匹配的高温釉，从而实现了在国内外首次将陶瓷花纸装饰在了氧化铝陶瓷上，将氧化铝陶瓷的高强、高韧性与高耐磨的高温釉、高雅的花纸完美地结合在一起，从而成功地将氧化铝陶瓷首次从工业用瓷的领域引用到民用，为民用瓷增添了一种高性能新瓷种。

具体实施方式

下面通过具体实施例进一步说明本发明，但是本发明的技术方案不以实施例为限。

实施例1

一种陶瓷擀面杖，它包括陶瓷擀面杖本体，擀面杖本体外表面附着有陶瓷釉层，擀面杖本体的一端设置有插孔，插孔的设置可以使发明采用插烧工艺，擀面杖本体的材料为工业陶瓷，所述陶瓷釉层为高温釉，陶瓷釉层的厚度为：0.05mm；陶瓷釉层的外表面可有装饰层，装饰层可经过贴花纸或彩绘后彩烧，形成良好的装饰层。

陶瓷擀面杖的高温釉配方为：二氧化硅62％、氧化铝17.5％、氧化钙0.2％、氧化镁3％、氧化钾4.8％、氧化钠1.25％、氧化钛1.25％，其中二氧化硅中作为添加剂的熔融石英为10％。

配制釉料的结合剂，挑选软质粘土，其Fe₂o₃含量为0.015；

釉料研磨细度控制采用万孔筛，万孔筛余：0.02％。

施釉的工艺采用本技术领域的常规工艺。

本发明中的陶瓷擀面杖的加工工艺为：

按配方入球磨、泥浆测细度出磨过筛、高强度除铁器除铁、泥浆储存(泥浆池)、成型、半成品干燥、修坯、第一次高温烧坯、素坯振动抛光、施釉、第二次釉烧、装饰、彩烤、成品，其中在成型工艺中，采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体，因其不吸水，从而使产品一端形成一插孔，孔深2厘米，采用插烧工艺，保证了产品表面的全面施釉。

实施例2

一种陶瓷擀面杖，它包括陶瓷擀面杖本体，擀面杖本体外表面附着有陶瓷釉层，擀面杖本体的一端设置有插孔，插孔的设置可以使发明采用插烧工艺，擀面杖本体的材料为工业陶瓷，所述陶瓷釉层为高温釉，陶瓷釉层的厚度为：0.3mm；陶瓷釉层的外表面可有装饰层，装饰层可经过贴花纸或彩绘后彩烧，形成良好的装饰层。

陶瓷擀面杖的高温釉配方为：二氧化硅70％、氧化铝11.2％、氧化钙1％、氧化镁5.1％、氧化钾7.8％、氧化钠1.90％、氧化钛3.0％，其中二氧化硅中作为添加剂的熔融石英为18％。

配制釉料的结合剂，挑选软质粘土，其Fe₂o₃含量为0.01；

釉料研磨细度控制采用万孔筛，万孔筛余：0.03％。

施釉的工艺采用本技术领域的常规工艺。

本发明中的陶瓷擀面杖的加工工艺为

按配方入球磨、泥浆测细度出磨过筛、高强度除铁器除铁、泥浆储存(泥浆池)、成型、半成品干燥、修坯、第一次高温烧坯、素坯振动抛光、施釉、第二次釉烧、装饰、彩烤、成品，其中在成型工艺中，采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体，因其不吸水，从而使产品一端形成一插孔，孔深4厘米，采用插烧工艺，保证了产品表面的全面施釉。

实施例3

陶瓷擀面杖的高温釉配方为：二氧化硅75％、氧化铝11％、氧化钙1％、氧化镁4％、氧化钾6％、氧化钠1.5％、氧化钛1.5％，其中二氧化硅中作为添加剂的熔融石英为28％。

配制釉料的结合剂，挑选软质粘土，其Fe₂o₃含量为0.005；

釉料研磨细度控制采用万孔筛，万孔筛余：0.04％。

施釉的工艺采用本技术领域的常规工艺。

本发明中的陶瓷擀面杖的加工工艺为

按配方入球磨、泥浆测细度出磨过筛、高强度除铁器除铁、泥浆储存(泥浆池)、成型、半成品干燥、修坯、第一次高温烧坯、素坯振动抛光、施釉、第二次釉烧、装饰、彩烤、成品，其中在成型工艺中，采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体，因其不吸水，从而使产品一端形成一插孔，孔深6厘米，采用插烧工艺，保证了产品表面的全面施釉。

Claims

1.一种陶瓷擀面杖，其特征是：它包括陶瓷擀面杖本体，擀面杖本体外表面附着有陶瓷釉层。

2.根据权利要求1所述的陶瓷擀面杖，其特征是：所述擀面杖本体的一端设置有插孔。

3.根据权利要求1或2所述的陶瓷擀面杖，其特征是：所述陶瓷釉层的厚度为：0.05-3mm。

4.如权利要求3所述的陶瓷擀面杖，其特征是：所述的陶瓷釉层的厚度优选0.3mm。

5.根据权利要求1或2所述的陶瓷擀面杖，其特征是，所述陶瓷釉层的外表面有装饰层。

6.如权利要求1所述的一种陶瓷擀面杖的加工工艺：按配方入球磨、泥浆测细度出磨过筛、高强度除铁器除铁、泥浆储存、成型、半成品干燥、修坯、第一次高温烧坯、素坯振动抛光、施釉、第二次釉烧、装饰、彩烤、成品，其特征在于：在成型工艺中，采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺，在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体，因其不吸水，从而使产品一端形成一插孔，孔深1-6厘米，采用插烧工艺，保证产品表面的全面施釉。

7.如权利要求3所述的陶瓷擀面杖，其特征在于：所述的釉层由以下组分制备而成(按重量份计)：二氧化硅62％-75％、氧化铝8％-21％、氧化钙0.2％-1％、氧化镁3％-5.1％、氧化钾4.8％-7.8％、氧化钠1.25％-1.99％、氧化钛1.2％-3.0％；其中二氧化硅中作为添加剂的熔融石英占10-28％。

8.如权利要求7所述的陶瓷擀面杖，其特征在于：挑选软质粘土即Fe₂o₃含量小于0.02的作为釉料粘合剂。

9.如权利要求3所述的陶瓷擀面杖，其特征在于：釉的研磨细度控制采用万孔筛，万孔筛余：0.02-0.04％。