CN102154669B - 一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法 - Google Patents

一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102154669B
CN102154669B CN 201110075454 CN201110075454A CN102154669B CN 102154669 B CN102154669 B CN 102154669B CN 201110075454 CN201110075454 CN 201110075454 CN 201110075454 A CN201110075454 A CN 201110075454A CN 102154669 B CN102154669 B CN 102154669B
Authority
CN
China
Prior art keywords
plating
gold
current
cylinder
washing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 201110075454
Other languages
English (en)
Other versions
CN102154669A (zh
Inventor
林能文
李伟东
谢军里
林晓红
李柳琴
曾平
丘远洪
曾艳平
杨带平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong crown Polytron Technologies Inc
Original Assignee
GUANFENG ELECTRONIC SCIENCE AND TECH (MEIZHOU) Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GUANFENG ELECTRONIC SCIENCE AND TECH (MEIZHOU) Co Ltd filed Critical GUANFENG ELECTRONIC SCIENCE AND TECH (MEIZHOU) Co Ltd
Priority to CN 201110075454 priority Critical patent/CN102154669B/zh
Publication of CN102154669A publication Critical patent/CN102154669A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102154669B publication Critical patent/CN102154669B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其技术要点是,依次包括下述步骤:表面处理除油,水洗,微蚀,水洗,电镀镍,纯水洗,电镀金,其特征在于,所述的电镀金时,将电镀时间设定为2分钟,镀板进缸后输入电流根据受镀面积所计算出的电流值,受镀时间80~130秒时将电流归零,2秒钟后又重新输入电流,这样反复给镀液输入电流使得镀液正负极反复存在,致使电镀液中的正极凝集,通过调整给电镀液输入电流的次数,使镀金层达到所需的厚度;本发明利用电镀薄金缸就可以直接电镀厚软金,降低了生产成本,提高了利润,并且对一次性生产厚软金的数量没有限制,可以满足用户的多种需求,具有广阔的市场前景;本发明属于电镀技术领域。

Description

一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法
技术领域
本发明涉及一种电镀的方法,具体的说,是一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,属于电镀技术领域。
技术背景
线路板在制作过程中客户经常要求在电路板表面电镀硬金或软金。硬金一般电镀在手指或按键处,这样有利于磨擦,厚度可以达到60微英寸,但它需要“工艺导线”达到互连,因此受高密度印制板SMT安装限制。软金采用闪镀方法,具有很好的邦定效果,且镀层平坦、接触电阻低、可焊性好,耐磨等优点,特别适合打线工艺的印制板,特别是随着印制板导线微细化、小孔径化的发展,软金层成为不可缺少的镀层,但目前市场上的电器多为镀薄软金,即版面金层为24K纯金,镀层厚度为0.01—0.05um,它有良好的导电性和可焊性,镀层均匀细致,纯度且内应力低,次产品适应于打线,但金层太薄导致防护性能变坏,影响了电子器件安装后系统的可靠性,稳定性和安全性,特别是现在线路板需绑定的PAD越来越精小,一般都需要软金厚度为0.05um以上的镀层,即厚软金层,它不但具有薄软金的优点外,还具有保护电子器件安装后系统的可靠性,稳定性和安全性等优点。特别是对于一些关键的连接器部件增加金层厚度,达到即可打线又可耐磨擦,以保护元器件部位焊接层不受损坏。
而镀厚金线采用高速镀金液,通过改变设备,药水成分等来达到其电镀厚金要求,为此要生产厚软金,原生产薄金线就不能满足其要求,这就需投入一条电镀厚软金生产线,但存在投资成本高,而且只有一次性生产要达到一定数量,才能收回投资。这样,对于那些小批量电镀厚软金的生产,存在这生产成本高,利润低等问题,限制了生产厂家的发展,同时也给用户带来了不便,因此迫切需要一种即不增加设备和其他投资又能满足了客户要求的厚软金的生产方法。
发明内容
针对上述问题,本发明公开一种不需要增加生产线,通过反复给镀液输入电流使得电镀液中的正极凝集,通过调整给电镀液输入电流的次数,使镀金层达到所需的厚度的方法
本发明的技术方案是这样的:一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,依次包括下述步骤:表边处理除油,水洗,微蚀,水洗,电镀镍,纯水洗,电镀金,其特征在于,电镀金时,将电镀时间设定为2分钟,镀板进缸后输入电流根据受镀面积所计算出的电流值,受镀时间80~130秒时将电流归零,2秒钟后又重新输入电流,这样反复给镀液输入电流使得镀液正负极反复存在,致使电镀液中的正极凝集,镀金层增厚,通过调整给电镀液输入电流的次数,使镀金层达到所需的厚度。
上述的一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其中,所述的电镀金液成份为KAu(CN)2、导电盐、光泽剂、稳定剂。
进一步的,上述的一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其中,所述的电镀金液导电盐为柠檬酸盐 ,光泽剂为镍光泽剂,稳定剂为铁离子稳定剂。
进一步的,上述的一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其特征在于,所述的电镀金液的PH值范围为3.9~4.2,波美度为5~6.7,Au含量为0.8~1.2g/L、温度为室温。
更进一步的,上述的一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其中,所述的电镀金液的PH值为4.0、波美度为5.5、Au含量为1.0g/L。
上述的一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其特征在于,所述的电流密度参数为0.6~1.2 ASD。
本发明的原理是:电镀指借助外界直流电的作用,在溶液中进行电解反应,使导电体例如金属的表面沉积一金属或合金层,即将直流电流的正负极分别用导线连接到镀的阴、阳极上,当直流电通过两电极及两极间含金属离子的电解液时,电镀液中的阴、阳离子由于受到电场作用,发生有规则的移动,阴离子移向阳极,阳离子移向阴极,这种现象叫“电迁移”。此时,金属离子在阴极上还原沉积成镀层,而阳极氧化将金属转移为离子。
镀层厚度与电镀电流和电镀时间成比例,同时影响电镀层质量还有:镀液的成分含量、PH值、电流参数、温度等等,电镀电压或者电功率与镀层厚度没有直接关系。
电镀金是在含金电解液中的正极凝集,只要保证正负极存在,金的积淀就会持续下去,原理上金层厚度可以无限厚,厚度2-40U"不等。
现有技术相比,本发明具有如下优点:
1.不需要再额外增加固定资产投资,降低了生产成本,提高了利润率;
2.对一次性生产厚软金的数量没有限制,可以满足用户的各种需求;
3. 所生产的厚软金品质优良,电镀厚软金后的电子器件即可打孔,又比较耐磨,而且安装后系统的可靠性,稳定性和安全性良好。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步的详细说明,但不构成对本发明的任何限制。
实施例1
 生产尺寸为300*500mm,正反面受镀面积分别为为8%,10%,软金厚度达到2.2um的一个PCB,其中,所用的电镀液中含有KAu(CN)2、柠檬酸盐,用于以调节溶液里PH值,保证镀金品质、光泽剂为镍光泽剂Nickel 808,可稳定电流密度,扩大电流范围,使电流平均化,电流高区和低区所镀金属层一样光亮,防止各种不良现象,提高镀层光亮度光泽剂,稳定剂为铁离子稳定剂netzmittel 27,为防止由于电沉积Ni一Fe合金镀层的电解液中Fe2+容易氧化成Fe3+,致使镀液不稳定,镀层质量恶化一种稳定剂,PH值为4.0,波美度为5.5,Au含量为1.0g/L。制作步骤依次为:首先处理待镀板油污、氧化物等,再水洗待镀板,用弱酸微蚀后再次水洗待镀板,然后镀镍,最后进行镀金;在电镀金时,将电镀时间设定为2分钟,当镀板进缸后镀金时将时间设定100秒,电流密度为0.8ASD,根据受镀面积所计算出电流值为300*500/10000*0.8*(0.08+0.1)=2.16A,当受镀时间在100秒时将电流归零,2秒钟后重新再次输入电流,这样反复给镀液重新输入电流,使镀液正负极反复存在,致使含金电解液中的正极凝集,金的积淀在镀板上,软金层增厚,这样100秒一次可以电镀金厚度0.45um左右,反复给镀液重新输入电流5次,水洗烘干,经X-RAY金厚测试仪测试金层厚度2.2um以上即可。
实施例2
生产尺寸为400*500mm,正反面受镀面积分别为为4%,8%,软金厚度达到4um的一个PCB,其中,所用的电镀液中含有KAu(CN)2、柠檬酸盐,用于调节溶液里PH值,保证镀金品质)、用于以调节溶液里PH值,保证镀金品质、光泽剂为镍光泽剂Nickel 808,可稳定电流密度,扩大电流范围,使电流平均化,电流高区和低区所镀金属层一样光亮,防止各种不良现象,提高镀层光亮度光泽剂,稳定剂为铁离子稳定剂netzmittel 27,为防止由于电沉积Ni一Fe合金镀层的电解液中Fe2+容易氧化成Fe3+,致使镀液不稳定,镀层质量恶化一种稳定剂,PPH值为4.0,波美度为5.5,Au含量为1.0g/L。制作步骤依次为:首先处理待镀板油污、氧化物等,再水洗待镀板,用弱酸微蚀后再次水洗待镀板,然后镀镍,最后进行镀金;在电镀金时,将电镀时间设定为2分钟,当镀板进缸后镀金时将时间设定120秒,电流密度为0.8ASD,根据受镀面积所计算出电流值为400*500/10000*0.8*(0.04+0.08)=1.92A,当受镀时间在120秒时将电流归零,2秒钟后重新再次输入电流,这样反复给镀液重新输入电流,使镀液正负极反复存在,致使含金电解液中的正极凝集,金的积淀在镀板上,软金层增厚,这样120秒一次可以电镀金厚度0.5um左右,反复给镀液重新输入电流8次,水洗烘干,经X-RAY金厚测试仪测试金层厚度4um以上即可。

Claims (2)

1.一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,依次包括下述步骤:表边处理除油,水洗,微蚀,水洗,电镀镍,纯水洗,电镀金,其特征在于,在电镀金时,将电镀时间设定为2分钟,镀板进缸后输入电流根据受镀面积所计算出的电流值,受镀时间80~120秒时将电流归零,2秒钟后重新再次输入电流,这样反复给镀液输入电流使得镀液正负极反复存在,镀金层增厚,通过调整给电镀液输入电流的次数,使镀金层达到所需的厚度;
其中:所述的电镀液的成份为KAu(CN)2、导电盐、光泽剂、稳定剂;所述的电镀液的PH值范围为3.9~4.2,波美度为5~6.7,Au含量为0.8~1.2g/L、温度为室温;所述的电流密度参数为0.6~1.2 ASD。
2.根据权利要求1所述的一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法,其特征在于,所述的电镀液的PH值为4.0,波美度为5.5,Au含量为1.0g/L。
CN 201110075454 2011-03-28 2011-03-28 一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法 Expired - Fee Related CN102154669B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201110075454 CN102154669B (zh) 2011-03-28 2011-03-28 一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201110075454 CN102154669B (zh) 2011-03-28 2011-03-28 一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102154669A CN102154669A (zh) 2011-08-17
CN102154669B true CN102154669B (zh) 2013-03-13

Family

ID=44436331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201110075454 Expired - Fee Related CN102154669B (zh) 2011-03-28 2011-03-28 一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102154669B (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1940147A (zh) * 2005-09-30 2007-04-04 恩伊凯慕凯特股份有限公司 金凸点或金配线的形成方法
CN101748427A (zh) * 2008-12-02 2010-06-23 北京有色金属研究总院 一种镀覆厚金膜的钛板及其制备方法
CN101831680A (zh) * 2010-05-14 2010-09-15 合肥工业大学 单金属Au、Sn的双脉冲电镀溶液及Au-Sn合金焊料的制备方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55104495A (en) * 1979-01-30 1980-08-09 Electroplating Eng Of Japan Co Gold plating liquid and gold plating method for using gold plating liquid
RU1828880C (ru) * 1990-07-23 1993-07-23 Научно-производственное объединение "ЭЛАС" Способ гальванического золочени

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1940147A (zh) * 2005-09-30 2007-04-04 恩伊凯慕凯特股份有限公司 金凸点或金配线的形成方法
CN101748427A (zh) * 2008-12-02 2010-06-23 北京有色金属研究总院 一种镀覆厚金膜的钛板及其制备方法
CN101831680A (zh) * 2010-05-14 2010-09-15 合肥工业大学 单金属Au、Sn的双脉冲电镀溶液及Au-Sn合金焊料的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
戴传忠等.脉冲镀金.《镀金与节金新技术》.上海科学普及出版社,1991,64-81. *

Also Published As

Publication number Publication date
CN102154669A (zh) 2011-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106011965A (zh) 一种电解铜箔表面的微细粗化处理工艺
JP5667543B2 (ja) 銀めっき材およびその製造方法
JP5977488B2 (ja) 多層めっきアルミニウム又はアルミニウム合金箔の製造方法
CN103469267B (zh) 一种表面处理电解铜箔的工艺方法及其处理的铜箔
CN102021613B (zh) 电解质组合物
CN104619883A (zh) 表面处理镀敷材料及其制造方法、以及电子零件
JPH0224037B2 (zh)
CN105483795B (zh) 一种采用欠电位沉积技术制备复合铜纳米线的方法
CN102677110A (zh) 一种金钯合金电镀液及其制备方法和电镀工艺
CN102347542B (zh) 一种线形接插端子及其制造方法
CN102011154A (zh) 一种用于镀线路板金手指的电镀金液
CN1591989A (zh) 端子及其电镀方法
CN100547111C (zh) 一种化学镀锡溶液
CN1165639C (zh) 锡-铟合金电镀液及其制备方法
CN102154669B (zh) 一种利用电镀薄金缸电镀厚软金的方法
TW200825213A (en) Gold-silver alloy plating liquid
CN103382565A (zh) 一种黄铜铸件的镀铜方法和黄铜铸件的电镀方法
JP2011099128A (ja) めっき部材およびその製造方法
JP2009221512A (ja) Al含有フェライト系ステンレス鋼製導電性部材およびその製造方法
JPH04318997A (ja) 印刷回路用銅箔及びその製造方法
CN216958587U (zh) 一种具有堆叠铂金电镀层的端子
CN107245735A (zh) 一种高耐药性和耐热性合金铜箔的镀液和制备方法
CN104278299A (zh) 一种用于铜线的电镀处理工艺
CN103882486A (zh) 一种仿古青铜电镀液及其制备方法与应用
JP2013209708A (ja) 黒色被膜製品

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: 514768 Meijiang District Dongsheng Industrial Park, Meizhou, Guangdong

Patentee after: Guangdong crown Polytron Technologies Inc

Address before: 514068 Guofeng Electronic Technology (Meizhou) Co., Ltd., C District, Dongsheng Industrial Park, Meizhou, Guangdong

Patentee before: Guanfeng Electronic Science and Tech (Meizhou) Co., Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130313

Termination date: 20210328