CN102115873A - 一种超低损耗腔镜的镀膜工艺 - Google Patents
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Abstract
一种超低损耗腔镜的镀膜工艺。传统的离子束辅助沉积镀膜方式镀制的腔镜，损耗较大，其损耗一般在500ppm以上，本发明采用双离子束溅射方式，镀前使用超声波清洗，离子束预清洗工艺，镀后进行适当的退火处理，得到非常致密、粗糙度极低，低温漂，低透射损耗和低散射损耗的薄膜，从而提高激光腔镜的反射率，反射率小于20ppm。
Description
【技术领域】
本发明涉及光学镀膜领域，尤其是一种超低损耗腔镜的镀膜工艺。
【技术背景】
离子束辅助沉积镀膜简称为IAD方式镀膜它是在热蒸发镀膜的同时，用离子束轰击，用这种方法比单纯热蒸发镀制的光学薄膜效果好。热蒸发镀膜技术的优点是：设备简单，很多介质材料都可用热蒸发技术镀膜。但所镀的薄膜有结构松驰、性能不稳定、寿命短、牢固度差等缺点。其原因从微观结构分析，是因热蒸发镀制的膜层呈柱状结构，在柱状间隙中，潮气的吸附和渗透造成上述缺陷。为了克服离子束辅助沉积方式的缺点，本发明采用使用双离子束溅射方式，镀前使用超声波清洗，离子束预清洗工艺，得到的薄膜非常致密、粗糙度极低，低温漂，低透射损耗和低散射损耗的薄膜；适当的退火方式后处理方式，能大幅度降低吸收损耗，从而得到超低损耗的薄膜(总损耗(含透射损耗、散射损耗、吸收损耗)＜20ppm)，从而提高激光腔镜的反射率。
【发明内容】
本发明使用DIBS双离子束溅射方式，镀前使用超声波清洗，离子束预清洗，得到的薄膜非常致密、粗糙度极低，低温漂，低透射损耗和低散射损耗的薄膜；镀后采用适当的退火方式后处理。
【具体实施方式】
实施例一：
采用双离子束溅射方式，镀膜前使用超声波清洗，离子束预清洗，镀膜后采用退火处理，得到超低损耗的薄膜，总损耗(含透射损耗、散射损耗、吸收损耗)＜20ppm。
Claims (3)
1.一种超低损耗腔镜的镀膜工艺，其特征在于采用双离子束溅射方式，镀制前使用超声波清洗。
2.根据权利要求1所述的一种超低损耗腔镜的镀膜工艺，其特征在于镀前使用离子束预清洗。
3.根据权利要求1所述的一种超低损耗腔镜的镀膜工艺，其特征在于镀制后进行退火处理。
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| CN2010106012076A CN102115873A (zh) | 2010-12-23 | 2010-12-23 | 一种超低损耗腔镜的镀膜工艺 |
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| CN (1) | CN102115873A (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1471137A (zh) * | 2003-06-18 | 2004-01-28 | �Ϻ���ͨ��ѧ | 高介电系数栅电介质材料氮铝酸铪薄膜及其制备方法 |
| CN101470266A (zh) * | 2007-12-28 | 2009-07-01 | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 | 一种超宽光谱分色镜的制备方法 |
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2010
- 2010-12-23 CN CN2010106012076A patent/CN102115873A/zh not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
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Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 张大伟等: "离子束清洗在激光薄膜中的应用", 《光学技术》 * |
| 邓婷等: "高反膜镀制工艺研究的新进展", 《真空电子技术》 * |
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