CN102110776B - 一种高性能有机场效应晶体管及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种有机场效应晶体管及其制备方法。该有机场效应晶体管，包括衬底、位于所述衬底上的栅极电极、位于所述栅极电极上的由介电材料制成的介电层、位于所述介电层上的聚合物层、位于所述聚合物层上的有机半导体层以及位于所述有机半导体层上的源漏电极；所述聚合物层由聚苯乙烯和聚苯醚的混合物制成。本发明通过共混聚合物介电修饰层有效地控制优化半导体层形貌，使有机半导体层形成了一种大小晶粒织态结构晶膜，有效提高有机半导体层载流子传输性能；通过优化，并五苯有机场效应晶体管单管迁移率高达3.6cm²/Vs，开关比大于10⁷；该基于共混聚合物介电修饰层优化半导体层形貌来提高器件性能的方法，可应用于柔性场效应晶体管的制备。

Description

一种高性能有机场效应晶体管及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种高性能有机场效应晶体管及其制备方法。

背景技术

自从上世纪80年代发明(Tsumura，A.；Koezuka，H.；Ando，T.Appl.Phys.Lett.1986，49，1210)有机场效应晶体管以来，有机场效应晶体管由于在柔性显示，有机集成电路等方面的潜在应用前景引起了人们的广泛研究兴趣。与无机晶体管相比，有机场效应晶体管具有制备工艺简单、成本低廉、重量轻、柔韧性好等优点。近几年来，有机场效应晶体管不论在新型稳定的有机半导体材料设计合成以及器件制备等各方面均取得了长足的发展。然而到目前为止，有机场效应晶体管的迁移率与无机器件相比差距仍然很大，严重制约了有机场效应晶体管的推广应用，因此器件迁移率的提高仍然是目前有机场效应晶体管研究的首要方向之一。

目前研究发现，有机场效应晶体管的有机半导体层中接近介电层的前几分子层半导体的形貌对场效应晶体管的迁移率有着关键性影响。因此优化介电层和半导体层界面附近半导体分子堆积形貌对于提高器件迁移率至关重要。目前，世界上很多课题组都报道了基于介电层修饰的半导体形貌优化技术，其中使用自组装分子修饰介电层表面以优化介电层和半导体层界面性质的方法成果显著。鲍哲南等人最近报道了利用超平的十八烷基三甲氧基硅烷自组装晶膜修饰二氧化硅介电层，得到了迁移率高达3.0cm²/Vs的并五苯场效应晶体管(Y.Ito，A.Virkar，S.Mannsfeld，J.H.Oh，M.Toney，J.Locklin，Z.Bao，J.Am.Chem.Soc.2009，131，9396.)。另外，Schwartz的小组最近也利用自己合成的有机磷酸酯分子自组装层修饰介电层表面，得到了迁移率为2.5cm²/Vs的并五苯场效应晶体管(K.Liao，A.G.Ismail，L.Kreplak，J.Schwartz，I.G.Hill，Adv.Mater.2010，22，3081.)。尽管上述方法都能确实地提高场效应器件的迁移率，但是1)这些方法都是基于复杂的工艺流程，很难实现大规模大面积制备的需求；2)这些方法都基于不可屈挠的单分子自组装修饰层，无法应用于柔性有机半导体器件的制备。

发明内容

本发明的目的是提供一种高性能有机场效应晶体管及其制备方法。

本发明所提供的有机场效应晶体管，包括衬底、位于所述衬底上的栅极电极、位于所述栅极电极上的介电层、位于所述介电层上的聚合物层、位于所述聚合物层上的有机半导体层以及位于所述有机半导体层上的源漏电极；所述聚合物层由聚苯乙烯和聚苯醚的混合物制成。

本发明所提供的制备有机场效应晶体管的方法，包括以下步骤：

1)在衬底上沉积栅极电极、然后在栅极电极上沉积介电层；

2)将沉积有栅极电极和介电层的衬底，依次用去离子水、乙醇、丙酮超声清洗后烘干，然后将聚苯乙烯和聚苯醚的混合溶液旋涂于介电层表面，烘干，得到聚合物层；

3)在步骤2)制备的聚合物层上采用有机物成膜方法制备有机半导体层；

4)在步骤3)制备的有机半导体层上制备源电极和漏电极，得到有机场效应晶体管。

其中，所述聚合物层中聚苯乙烯和聚苯醚的质量比可为(1∶9)-(9∶1)，优选质量比为(3∶7)-(7∶3)。所述聚苯乙烯的重均分子量为13kDa-650kDa；所述聚苯醚的重均分子量为20kDa-600kDa。所述聚合物层的厚度可为10-50nm。

所述有机半导体层由可蒸镀的有机结晶小分子材料构成；所述可蒸镀的有机结晶小分子材料优选为并五苯或并四苯；所述有机半导体层的厚度可为30-60nm。所述有机物成膜方法可为真空蒸镀法。

所述衬底可由下述四种材料中的任意一种制成：玻璃、陶瓷、高分子材料和硅。

所述栅极电极可由具有低电阻的材料构成，包括金、银、铝、铜等各种金属及合金材料以及金属氧化物(如氧化铟锡)导电材料。在衬底上沉积栅极电极的方法可以是真空热蒸镀、磁控溅射、等离子体增强的化学气相沉积等各种沉积方法。

所述介电层可由具有良好的介电性能的介电材料构成，包括无机绝缘材料二氧化硅、氮化硅和其他绝缘材料，制备方法可以是等离子体增强的化学气相沉积、热氧化、甩膜、真空蒸镀或喷墨打印等。

本发明有具有以下特点和优点：

1、本发明通过聚苯乙烯和聚苯醚共混聚合物介电修饰层有效地控制优化半导体层形貌，形成了一种大小晶粒织态结构晶膜，有效提高有机半导体层载流子传输性能；

2、通过优化，并五苯有机场效应晶体管单管迁移率高达3.6cm²/Vs，开关比大于10⁷；

3、本发明提供的基于共混聚合物介电修饰层优化半导体层形貌来提高器件性能的方法，可应用于柔性场效应晶体管的制备；

4、聚合物介电修饰层制备工艺简单，成本低并且利于大面积制备。

附图说明

图1为本发明的有机场效应晶体管的结构示意图；其中，1为源电极，2为漏电极，3为有机半导体层，4为混合聚合物修饰层，5为介电层，6为栅电极，7为衬底。

图2为聚苯乙烯修饰的介电层上并五苯形貌AFM图。

图3为聚苯醚修饰的介电层上并五苯形貌AFM图。

图4为未经凝胶色谱提纯的聚苯乙烯/聚苯醚共混介电层上(共混比例1∶1)并五苯形貌AFM图。

图5经凝胶色谱提纯的聚苯乙烯/聚苯醚共混修饰的介电层上(共混比例1∶1)并五苯形貌AFM图。

图6提纯与未提纯介电层共混比例与所对应的并五苯场效应晶体管迁移率。

图7未提纯介电层共混比例与所对应的并四苯场效应晶体管迁移率。

具体实施方式

本发明提供的高性能有机薄膜场效应晶体管为上电极结构，包括衬底、栅极电极、介电层、有机半导体层和源漏电极，结构如图1所示；其介电层为聚苯乙烯和聚苯醚共混物修饰的介电层。

制备所述的有机场效应晶体管的方法，包括以下步骤：

第一步，聚合物层的制备：

将沉积有栅极电极和介电层的衬底，依次用去离子水、乙醇、丙酮超声清洗后烘箱烘干，然后用甩膜的方法将聚合物混合溶液旋涂于绝缘层的表面，放入烘箱，抽真空加热退火处理；

第二步，有机半导体材料的沉积：

在上述修饰的衬底上采用有机物成膜方法制备厚度为30～60纳米的有机半导体层；

第三步，源漏电极的制备：

采用传统电极制备方法，真空沉积或者印刷金属作为源漏电极，得到有机场效应晶体管。

下面通过具体实施例对本发明进行说明，但本发明并不局限于此。

下述实施例中所述实验方法，如无特殊说明，均为常规方法；所述试剂和材料，如无特殊说明，均可从商业途径获得。

实施例1、聚苯乙烯/聚苯醚共混聚合物层并五苯形貌的优化控制及高性能并五苯场效应晶体管的制备

第一步，聚合物层的制备：

将沉积有栅极电极(高掺杂硅)和介电层(二氧化硅)的衬底(硅片)依次用去离子水、乙醇、丙酮超声清洗后烘箱烘干，待用。将5mg/mL的聚苯乙烯(重均分子量50kDa)氯仿溶液和5mg/mL的聚苯醚(重均分子量为50kDa)氯仿溶液按体积比1∶1的比例共混，搅拌15min左右，然后用匀胶机甩膜将混合溶液，以2000r/min的转速旋涂于介电层表面，放入烘箱，抽真空，真空度为0.1帕斯卡，加热到80度处理1小时，自然冷却。聚合物层厚度为30nm。

第二步，有机半导体材料的沉积：

将上述修饰的衬底放入真空镀膜机中，将真空度抽至为5×10^-4Pa下，采用热蒸镀的方式，以0.8埃每秒的速度沉积并五苯有机层，至厚度为50纳米。

第三步，源漏电极的制备：

将金属掩模板盖在第二步中制备的并五苯有机薄膜上，放入真空镀膜机中，将真空度抽至为5×10^-4Pa下，然后加热蒸发源上的金，使其以1埃每秒的速度沉积到盖有掩模的有机薄膜上，形成厚度为40纳米的金层作为源漏电极，得到有机场效应晶体管。

第四步，形貌的控制与器件测试：

试验发现，单独以聚苯乙烯为介电修饰层，通过AFM图可以看出，并五苯在聚苯乙烯上生成较小晶粒形貌(见图2)，这种形貌晶粒间接触较好，但半导体薄膜的长程有序性较差。而单独以聚苯醚为介电修饰层，通过AFM图可以看出，并五苯在聚苯醚上形成较大晶粒形貌(见图3)，与图2相反，这种形貌有着较好的长程有序性但晶粒之间的接触较差。而聚苯乙烯和聚苯醚共混物介电修饰层则诱导并五苯形成了一种由不同大小晶粒构成的织态结构(见图4)，这种形貌结合了图2、图3所示形貌的优点，因而更有利于载流子传输。场效应器件迁移率达到2.2cm²/Vs(见图6)，开关比为10⁸。

迁移率和开关比的具体测定方法如下：在室温下用Keithley 4200半导体测试仪测量了所制备的有机场效应晶体管的电性质。决定OFET器件性能的两个关键参数是：载流子的迁移率(μ)和器件的开关比(I_on/I_off)。迁移率是指：在单位电场下，载流子的平均漂移速度(单位是cm²/V·s)，它反映了在电场下空穴或电子在半导体中的迁移能力。开关比定义为：在一定的栅极电压下，晶体管在“开”状态和“关”状态下的电流之比，它反映了器件开关性能的优劣。

载流子迁移率可由方程计算得出：

I_DS＝(W/2L)C_iμ(V_G-V_T)²(饱和区，V_DS＝V_G-V_T)

其中，I_DS为漏极电流，μ为载流子迁移率，V_G为栅极电压，V_T为阈值电压，W为沟道宽度(W＝3mm)，L为沟道长度(L＝0.05mm)，C_i为绝缘体电容(C_i＝7.5×10^-9F/cm²)。利用(I_DS，sat)^1/2对V_G作图，并作线性回归，可由此回归线的斜率推算出载流子迁移率(μ)，由回归线与X轴的截点求得V_T。迁移率可以根据公式从转移曲线的斜率计算得出。开关比可由源漏电流的最大值与最小值之比得出。

在上述实施例中将聚苯乙烯替换为重均分子量为13kDa，25kDa，30kDa，200kDa，650kDa聚苯乙烯，所制备的器件性能无明显变化。将聚苯醚替换为重均分子量为20kDa和600kDa的聚苯醚，所制备的器件性能也无明显变化。聚合物层厚度在10-50nm范围内，所制备的器件性能也无明显变化。

实施例2、基于凝胶色谱提纯后的聚苯乙烯/聚苯醚共混聚合物介电修饰层的并五苯有机场效应晶体管

器件的制备和测试方法与实施例1基本一致，唯一不同的是本实施例所采用的聚苯乙烯和聚苯醚通过凝胶色谱进行了提纯。具体提纯方法如下：将聚苯乙烯(或聚苯醚)溶液倒入凝胶色谱仪，通过仪器检测分子量的同时保留分子量为13kDa-650kDa范围的淋出级分(聚苯醚保留分子量为20kDa-600kDa的淋出级分)，之后将所得溶液用旋转蒸发仪蒸干得到提纯样品。此过程有助于除掉聚合物中分子量在13kDa以下的小分子杂质和分子量巨大的团聚颗粒(＞650kDa)。

结果表明，在提纯后的聚苯乙烯和聚苯醚共混聚合物修饰层上形成的并五苯晶膜更加完善(见图5)，场效应晶体管迁移率进一步提高到3.6cm²/Vs(见图6)，开关比为10⁸。

实施例3、基于聚苯乙烯/聚苯醚共混聚合物介电修饰层的并四苯场效应晶体管的制备

器件的制备和测试方法与实施例1基本一致，唯一不同的是本实施例使用并四苯作为半导体层。我们发现在未提纯的聚苯乙烯/聚苯醚共混介电修饰层上制备的并四苯场效应晶体管有着与并五苯场效应晶体管相似的性能提高规律，在聚苯乙烯/聚苯醚质量比1∶1共混比例的介电修饰层上，场效应晶体管迁移率提高到0.93cm²/Vs(见图7)，开关比为10⁷。

Claims (10)

1.一种有机场效应晶体管，包括衬底、位于所述衬底上的栅极电极、位于所述栅极电极上的介电层、位于所述介电层上的聚合物层、位于所述聚合物层上的有机半导体层以及位于所述有机半导体层上的源漏电极；所述聚合物层由聚苯乙烯和聚苯醚的混合物制成。

2.根据权利要求1所述的有机场效应晶体管，其特征在于：所述聚合物层中聚苯乙烯和聚苯醚的质量比为(9∶1)-(1∶9)。

3.根据权利要求1或2所述的有机场效应晶体管，其特征在于：所述聚苯乙烯的重均分子量为13kDa-650kDa；所述聚苯醚的重均分子量为20kDa-600kDa。

4.根据权利要求1所述的有机场效应晶体管，其特征在于：所述聚合物层的厚度为10-50nm。

5.根据权利要求1所述的有机场效应晶体管，其特征在于：所述衬底是由下述四种材料中的任意一种制成：玻璃、陶瓷、高分子材料和硅。

6.根据权利要求1所述的有机场效应晶体管，其特征在于：所述有机半导体层是由可蒸镀的有机结晶小分子材料构成；所述可蒸镀的有机结晶小分子材料为并五苯或并四苯；所述有机半导体层的厚度为30-60nm。

7.一种制备权利要求1所述有机场效应晶体管的方法，包括以下步骤：

1)在衬底上沉积栅极电极、然后在栅极电极上沉积介电层；

2)将沉积有栅极电极和介电层的衬底，依次用去离子水、乙醇、丙酮超声清洗后烘干，然后将聚苯乙烯和聚苯醚的混合溶液旋涂于介电层表面，烘干，得到聚合物层；

3)在步骤2)制备的聚合物层上采用有机物成膜方法制备有机半导体层；

4)在步骤3)制备的有机半导体层上制备源电极和漏电极，得到有机场效应晶体管。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：步骤2)中，所述聚苯乙烯和聚苯醚的混合溶液中聚苯乙烯和聚苯醚的质量比为(9∶1)-(1∶9)。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于：所述聚合物层的厚度为10-50nm。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：所述有机半导体层是由可蒸镀的有机结晶小分子材料构成；所述可蒸镀的有机结晶小分子材料为并五苯或并四苯；所述有机半导体层的厚度为30-60nm；所述有机物成膜方法为真空蒸镀法。

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