CN102064185A - 新型透明oled显示屏及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳极、有机层、阴极、钝化层、绝缘层，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴极至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发光区。本发明由于阴极采用第一层阴极及第二层阴极的设置方式，第一层阴极可以设置很薄，第二层阴极可以设置的比较厚，第二层阴极仅覆盖发光区的一小部分，因此不会影响发光效果，由于第一层阴极可以做的很薄，因此可以大大提高阴极的透过率，由于第二层阴极可以做的比较厚，因而还可以提高透明OLED显示屏的显示质量和可靠性，延长使用寿命。

Description

新型透明OLED显示屏及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种显示屏，尤其涉及一种新型透明OLED显示屏及其制造方法。

背景技术

有机电致发光显示器(简称OLED)是目前新兴的一种平板显示器，因它有主动发光，对比度高，能薄型化，响应速度快等诸多优点，被公认为是下一代显示器的主力军。OLED主要包含一玻璃基板，一透明电极，一有机发光层以及一金属电极。OLED显示器的发光原理是：以透明电极为阳极，以金属电极为阴极，当在两电极之间加上适当的电压，空穴与电子分别由透明电极和金属电极界面注入到有机发光层复合而发光。具有很高透明度的透明OLED可用于平视显示器、透明窗口和广告牌等领域，已经成为研究热潮，这种新型的OLED显示屏将会有广大的市场需求。

如图1所示，传统的透明OLED，是在玻璃衬底上依序制备透明电极、有机层(包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层)、金属阴极和钝化层，封装方式采用UV胶加上干燥剂(非发光区，如图1所示)；为了得到很高的透过率，金属阴极做得很薄，而且覆盖到非发光区，金属阴极处于非发光区区域的部分与掏空的绝缘层(如PI层)底下的阴极搭接块连接。传统的透明OLED，仅可以得到约50％～60％的透过率，而且由于金属阴极做得很薄，导致阴极电阻过大以及阴极与底层的阴极搭接块接触不良，使得OLED显示屏显示质量差、可靠性差以及使用寿命短等不足。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术存在的缺陷，提供一种新型透明OLED显示屏，提高透过率及显示质量。

本发明提供的一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳极、有机层、阴极、钝化层、绝缘层，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴极至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发光区。

优选地，所述第一层阴极的厚度典型值为50A～500A。

优选地，所述第一层阴极还覆盖非发光区，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于非发光区的第一层阴极在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。

优选地，所述第二层阴极的厚度典型值为300～1500A。

优选地，处于发光区的第二层阴极，其大小占一个像素大小的1/5～1/14。

优选地，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于所述非发光区的第二阴极层在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。

本发明提供的一种新型透明OLED显示屏的制作方法，包括如下步骤：

在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层；其中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备的第二层阴极要覆盖发光区的边缘及非法光区。

优选地，所述第一层阴极的厚度典型值为50A～500A，所述第二层阴极的厚度典型值为300A～1500A。

优选地，处于发光区的第二层阴极，其大小制作为占一个像素大小的1/5～1/14。

与现有技术相比，本发明具有如下优点：

本发明提供的新型透明OLED显示屏，由于阴极采用第一层阴极及第二层阴极的设置方式，因此，第一层阴极可以设置很薄，第二层阴极可以设置的比较厚，第二层阴极仅覆盖有机层的一小部分，因此不会影响发光效果，由于第一层阴极可以做的很薄，因此可以大大提高阴极的透过率，透过率可提高到70％左右，由于第二层阴极可以做的比较厚，因而还可以提高透明OLED显示屏的显示质量和可靠性，延长使用寿命。

附图说明

图1为现有技术中透明OLED显示屏的结构示意图；

图2为本发明实施例一的结构示意图；

图3为图2中基板玻璃上设置阳极、绝缘层后的俯视图；

图4为图2中有机层与阴极及阳极、绝缘层的配合结构图；

图5为本发明实施例二的结构示意图。

图中有关附图标记如下：

1-基板玻璃；2-阳极；3-有机层；31-空穴注入层；32-空穴传输层；

33-有机发光层；34-电子传输层；35-电子注入层；4-阴极；

41-第一层阴极；42-第二层阴极；5-钝化层；6-干燥剂；

7-玻璃后盖；8-UV胶；9-隔离柱；10-绝缘层；11——阴极走线；

12——阴极搭接块。

具体实施方式

本发明的基本构思是，阴极采用第一层阴极及第二层阴极的设置方式，第一层阴极可以做得很薄，第二层阴极设置的比较厚。

总体来说，第一层阴极可以分为与非发光区绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块接触、不与非发光区绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块接触两种。

第二层阴极在发光区必须做得比较窄，其位置可以处于像素的边缘；其也可以处于像素的边缘和绝缘层上面，这种设置方式金属掩模板(shadow mask)的精度无需很高，有利于制造；其也可以处于绝缘层上面。

在非发光区域，第二层阴极必须与绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块接触，但非发光区的第二层阴极的宽度可以跟发光区一样大小，这样的大小比阴极搭接块小很多，容易制造；也可以把宽度做大，如和阴极搭接块一样大小，阴极搭接更加良好，但制造较为复杂。

需要指出的是，第一层阴极和第二层阴极是上下搭接，以便接触良好，不能是左右接触。

下面结合附图和具体的实施例对本发明的新型透明OLED显示屏及其制作方法进一步描述。

实施例一

参见图2、图3、图4，本实施例中的新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃1，依次设置在基板玻璃1上的阳极2、有机层3、阴极4、钝化层5，阴极4包括上下搭接的第一层阴极41、第二层阴极42，在第一层阴极41、阳极2之间还部分设有绝缘层10，第二层阴极42位于绝缘层10的上方位置；在外部非发光区绝缘层10的下部设有空腔，空腔中设有阴极搭接块12。

其中，有机层3包括空穴注入层31，空穴传输层32，有机发光层33，电子传输层34，电子注入层35。

其中，阴极4包括相互连接的第一层阴极41及第二层阴极42，其中第一层阴极41覆盖发光区，即大小与有机层3的大小相同；第二层阴极42的膜厚为800A，第二层阴极42覆盖发光区的边缘，其处于发光区的宽度只占整个发光区宽度的1/12，第二层阴极42还覆盖非发光区，并延伸至绝缘层10，与阴极搭接块12连接。

本实施例中，由于绝缘层10部分伸入阳极2与第一层阴极41之间，且位于第二层阴极42的下方，因此，该处不发光，但由于第二层阴极在发光区宽度较小，因而不会影响发光效果。

实施例二

参见图5，本实施例与实施例一的区别之处为：阳极2上方没有设置绝缘层10，第二层阴极42处于发光区的部分，其下方没有设置绝缘层，所以该区域有机层会发光，只是该区域正面可以看到，反面看不到，且该区域只占整个像素发光区域的宽度较小，所以对整体透明显示效果几乎没有影响。

其余均与实施例一致，此处不再赘述。

以下对本发明新型透明OLED显示屏的制作方法进行进一步说明，本发明新型透明OLED显示屏的制作方法，具体如下包括如下步骤：

在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层；第一层阴极与阳极之间还设置绝缘层，其中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备的第二层阴极要覆盖非法光区及发光区的边缘。

下面进行详细描述：

1、OLED基板玻璃的图案制作：

选用0.55mm厚度的OLED专用导电玻璃作为基板玻璃1，使用预先设计好的曝光掩膜板，用湿法蚀刻的办法制作OLED屏所需的辅助电极Cr、阳极-透明电极ITO、绝缘层PI、隔离柱层RIB，如图2所示，附图标记10为绝缘层PI，附图标记11为辅助电极Cr和透明电极ITO形成的阴极走线，附图标记12为掏空的绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块，附图标记9为隔离柱RIB。

2、OLED基板玻璃镀膜和封装贴合：

该制作过程具体包括如下步骤：

1)蒸镀有机层

用真空蒸镀的方法，在基板玻璃上用预制的金属掩模板(shadow mask)蒸镀有机层3，即在阳极1上得到空穴注入层31，空穴传输层32，有机发光层33，电子传输层34，电子注入层35；

2)蒸镀第一层阴极

用金属掩模板(shadow mask)蒸镀第一层阴极41，制作该第一层阴极41选用的金属为Mg和Ag，，膜厚为50A～500A，第一层阴极41的蒸镀区域与有机层3的一样大小，并且不与绝缘层10底下的阴极搭接块12连接；

第一层阴极41所用的材料可以选自铝、镁、钙、金、银等金属以及金属之间的组合。

第一层阴极41的厚度可以选择50A～500A中的任意数值，如50A、100A、150A、200A、300A、400A、500A等。

作为另外的实施方式，第一层阴极41也可做的更大，不仅覆盖发光区，还覆盖非发光区，而且可与绝缘层10底下的阴极搭接块12连接。

3)蒸镀第二层阴极

用金属掩模板(shadow-mask)蒸镀第二层阴极42，该第二层阴极选用的蒸镀金属为Al，膜厚为300A～1500A，第二层阴极宽度只占整个发光区宽度的1/12，并向外延伸与绝缘层10底下的阴极搭接块连接；

作为另外的实施方式，第二层金属阴极可选自铝、镁、钙、金、银等金属中的一种或多种。

作为另外的实施方式，第二层阴极42的厚度可以选择300A～1500A中的任意数值，如300A、400A、600A、700A、800A、1000A、1200A、1300A、1400A、1500A等。

需要说明的是，第二层阴极42的宽度占整个发光区宽度的比例可以为1/14～1/5中的任意值。

4)蒸镀钝化层

用金属掩模板(shadow-mask)蒸镀钝化层5；

最后与玻璃基板贴合封装。

该种制造方法可以运用在被动式有机电致发光显示器(PMOLED)上，也可以运用在主动式有机电致发光显示器(AMOLED)当中。

本发明的制造方法制得的新型透明OLED显示屏，由于设置两层阴极——第一层阴极、第二层阴极，因此，第一层阴极可以做的很薄，因此，透过率可提高到70％左右，远远高于现有技术中50％～60％的透过率；此外，第二层阴极可以做的很厚，虽然变得不透明，由于其处于发光区边缘的宽度仅占发光区很小的部分，因而不影响发光效果，能够提高透明OLED显示屏的显示质量和可靠性，延长使用寿命。

以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出的是，上述优选实施方式不应视为对本发明的限制，本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的精神和范围内，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳极、有机层、阴极、钝化层、绝缘层，其特征在于，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴极至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发光区。

2.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第一层阴极的厚度典型值为50A～500A。

3.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第一层阴极还覆盖非发光区，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于非发光区的第一层阴极在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。

4.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第二层阴极的厚度典型值为300A～1500A。

5.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，处于发光区的第二层阴极，其大小占一个像素大小的1/5～1/14。

6.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于所述非发光区的第二阴极层在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。

7.一种新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层；其中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备的第二层阴极要覆盖发光区的边缘及非发光区。

8.如权利要求7所述的新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，所述第一层阴极的厚度典型值为50A～500A，所述第二层阴极的厚度典型值为300A～1500A。

9.如权利要求7所述的新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，处于发光区的第二层阴极，其大小制作为占一个像素大小的1/5～1/14。

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