CN102044272B - 光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置。其提供了一种用于使激光束照射到光盘的记录层上的用于光盘光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中激光束的中心波长λ(单位：nm)落在下面的条件限定的范围内：390≤λ≤420，所述物镜的基质材料由树脂构成，树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T(单位：％)：Tg≥115℃，85≤T≤90，在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜；以及所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更高的厚度。

Description

光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置

技术领域

本发明涉及一种基于预定的标准通过用激光束照射光盘的信息记录层来将信息记录到光盘和/或从光盘再现信息的信息光学信息记录/再现(recording/reproducing)光学系统和光学信息记录/再现装置，特别涉及一种适合于诸如BD(蓝光光盘)之类的高记录密度光盘的信息记录/再现的光学信息记录/再现光学系统和光学信息记录/再现装置。 

背景技术

目前存在不同标准的光盘，例如CD(压缩光盘)和DVD(数字通用光盘)，它们在记录密度、保护层厚度等方面有所不同。同时，为了实现更高的信息存储容量，近年来已将具有比DVD更高的记录密度的高记录密度光盘(例如BD)投入实际使用。附带说明，在本说明书中，“光学信息记录/再现装置”包括兼用于信息再现和信息记录的装置、仅用于信息再现的装置和仅用于信息记录的装置，其也可被称为“光学信息/再现光学系统”。在下文中，“光学信息/再现光学系统”常指光学拾取头(optical pick-up)的光学系统。 

对于高记录密度光盘(例如BD)的信息记录和再现，使用具有大约400nm波长的蓝色激光(也被称作紫色激光或蓝紫色激光)。由于这种接近紫外区的激光具有高光子能，因此激光可以对诸如树脂透镜之类的构成光学拾取头的光学系统的光学元件具有化学作用。其中一个化学作用是白色混浊现象(white turbidity phenomenon)，这是当在高温条件下用强度等于或高于特定值的蓝色激光长时间照射光学元件时由光学元件的树脂基质材料引起的。当光学元件基质材料中出现白色混浊现象时，光学元件的透射率下降，导致强散射光。作为结果，光学拾取头的光学系统的光学性能恶化。当使用对蓝色激光的波长具有较大程度的吸收的树脂作为光学元件的材料时，常常发生白色混浊现象。 

目前进行了各种用于防止白色混浊现象的出现的分析。例如，日 本专利临时公开No.2005-266780A中公开了一种技术，其中在形成基质材料的树脂中添加诸如柔软聚合物或醇化合物之类的添加剂，从而改变树脂的性质使之难以引起白色混浊现象。 

但是，如果使用新的树脂材料，除了对新的树脂本身进行评估之外，还必须对基质材料(例如基质材料的处理条件)、基质材料上涂布的各种光学膜以及粘合剂进行各种适合程度的重新评估。因此，使用新的树脂材料可能会导致很高的风险以及成本的增加。希望能够通过除了改变树脂基质材料以外的技术来防止发生白色混浊。 

发明内容

本发明有利的是，其提供至少一个物镜、光学拾取头的光学系统以及光学信息记录/再现装置，其被配置成通过在高温条件下使用蓝色激光来防止白色混浊的出现，即使在使用对蓝色激光的波长显现高度吸收性的材料作为基质材料时也是如此。 

根据本发明的一方面，提供了一种用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，所述光学信息记录/再现光学系统通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息。激光束的中心波长λ(单位：nm)落在下面的条件限定的范围内：390≤λ≤420.....(1)。所述物镜的基质材料由树脂构成。树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T(单位：％)：Tg≥115℃.....2)，85≤T≤90.....(3)。在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜。所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更高的厚度。 

通过这种配置，可以防止诸如物镜之类的光学部件的基质中发生白色混浊。 

并非已经阐明了导致白色混浊的所有因素。但是，认为大气中的氧气使树脂氧化变质是白色混浊的因素之一。此外，树脂中的分子运动的程度变得活跃，氧气会在树脂中扩散，导致氧化反应，因此会发生白色混浊。在常温条件下，当树脂的玻璃态转变温度变高时，分子运动变缓，因此诸如白色混浊之类的反应难以发生。例如，当90℃左 右的较高温度条件下使用树脂时，通过使用具有115℃或更高的玻璃态转变温度Tg的树脂作为基质材料，可以获得足够的防止发生白色混浊的效果。此外，当蓝色激光的吸收程度增加时(或环境温度升高时)，白色混浊更加容易发生。当透光率T低于条件(3)的下限时，蓝色激光的透射率显著降低，因此无法获得所需的光学性能。当透光率T高于条件(3)的上限时，蓝色激光的吸收变小，难以发生白色混浊现象。这样，在这种情况下，不需要测量白色混浊现象。因此，通过如上文所述配置物镜，可以减少通过抗反射膜进入到基质材料当中的氧气的量，因此可以减少当高强度的蓝色激光长时间照射物镜时所引起的白色混浊，或者可以基本上防止白色混浊的出现。 

通过对大量吸收蓝色激光并容易导致白色混浊的材料采取上述措施，可以获得足够的耐光性，并且由于增大了材料的选择范围，可以减小设计的自由度。 

在至少一个方面中，每个抗反射膜具有通过在等于或小于10^-2Pa程度的真空下的真空沉积形成的高密度层。在这种情况下，所述高密度层在光轴附近的厚度为40nm或更高。等于或小于10^-2Pa的真空度表示的气压低于或等于10^-2Pa的高度真空。优选地，高密度层的厚度为70nm或更高。更优选地，高密度层的厚度为100nm或更高。当通过真空沉积形成高密度层时，真空度可以是10^-3pa或更低，更优选地，为10^-4Pa更低。 

在上述高度真空条件下形成的高密度层具有高的膜密度，因此对氧气具有低渗透度。通过形成对氧气具有低渗透度的厚度为40nm或40nm以上的高密度层，可以抑制氧气从物镜周围的大气穿过抗反射膜到基质材料的运动。此外，通过增加高密度层的厚度或者在更高度真空的环境下形成高密度层，可以更有效地防止氧气通过抗反射膜进入基质中的运动。 

在至少一方面中，每个抗反射膜都可以具有通过溅射形成的高密度层。通过溅射形成的薄膜具有高的膜密度并表现出对氧气的低渗透度。因此，通过溅射形成的膜对防止白色混浊的出现具有非常好的效果。 

在至少一方面中，构成每个抗反射膜的层中的至少其中之一可以 由二氧化硅、氧化铝或二氧化硅和氧化铝的混合物制成。这样形成的层具有容易设置高真空度的特点。 

在至少一方面中，所述物镜的玻璃态转变温度Tg可满足下面的条件：Tg≥125℃.....(4)。 

根据使用条件，存在光学信息记录/再现光学系统达到近90℃的情况。为了在这种高温条件下确保物镜具有足够的耐光性，必须使用具有125℃或更高的玻璃态转变温度的基质材料。 

在至少一方面中，每个抗反射膜可以是单层膜或者是具有四层或少于四层的多层膜。由于具有五层或更多层的多层膜表现出波长特性的复杂波形，所以当使用上述的物镜来配置光学信息记录/再现光学系统时，抖动可能会变大。 

在至少一方面中，在从所述光源发出的激光束所进入的所述物镜的光源侧光学表面上的抗反射膜可被形成为垂直入射的反射率取最小值的λ_B1(单位：nm)落在下面的范围中： 

600＜λ_B1＜800.....(5)。 

当在诸如物镜之类的光学部件的光学表面上形成抗反射膜时，在光学表面的光轴面对溅射源的状态下形成膜。已发现当关于光轴的倾斜角(即光学表面的法线与光轴之间形成的角)增大时，在光学表面上形成的抗反射膜的厚度减小。为了确保远离光轴的外周部分的膜具有足够的厚度，必须提供满足条件(5)的厚抗反射膜。通过形成满足条件(5)的抗反射膜，可以确保足够的防止发生白色混浊的效果。此外，通过使形成在光源侧光学表面上的抗反射膜具有这种波长特性，可以增加中心部分的反射率以及减小外周部分的反射率。作为结果，可以减小边缘强度。因此，可以在光盘的记录层上形成窄的束腰，因此，可以获得更合适的抖动特性。当λ_B1高于条件(5)的上限时，反射率变得过大，因此无法获得所需的光学性能。 

在至少一方面中，在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上的抗反射膜可被形成为垂直入射的反射率取最小值的λ_B2(单位：nm)落在下面的范围中：430＜λ_B2＜600.....(6)。 

为了确保物镜的光盘侧光学表面上的抗反射膜具有足够的厚度，优选的是满足条件(6)。当λ_B2高于条件(6)的上限时，光轴与光学 表面垂直相交的物镜的中心部分的透射率急剧下降，因此总的透射率过度下降。 

在至少一方面中，在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上形成的抗反射膜可以是通过在基质材料上从基质材料侧按顺序堆叠第一层至第三层形成的三层膜。在这种情况下，当n1至n3分别代表所述第一层至所述第三层在波长406nm的折射率，以及d1至d3(单位：nm)分别代表所述第一层至所述第三层的厚度时，折射率n1至n3以及厚度d1至d3满足条件： 

第一层：n1≤1.55，      50≤d1≤200 

第二层：1.55＜n2≤1.70，40≤d2≤150 

第三层：n3≤1.55，      50≤d3≤200。 

根据本发明的另一方面，提供一种光学信息记录/再现装置，其通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息。该光学信息记录/再现装置包括上文所述的物镜。 

通过这种配置，可以防止在诸如物镜之类的光学部件的基质材料中发生白色混浊。 

根据本发明的另一方面，提供一种光学信息记录/再现光学系统，其通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息。所述光学信息记录/再现光学系统包括：光源，所述光源发射激光束；光学元件，所述光学元件将所述光源发射的激光束转换成基本准直的光束；以及上文所述的物镜，所述物镜将从所述光学元件出射的激光束会聚到所述光盘的记录层上。 

通过这种配置，可以防止在诸如物镜之类的光学部件的基质材料中出现白色混浊。 

在至少一方面中，可在光学元件的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜。在这种情况下，形成光学元件的基质材料的树脂可具有通过条件(2)和(3)限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T(单位：％)。 

附图说明

图1是概括显示用于安装在根据本发明的实施例的光学信息记录/再现装置上的光学拾取头的光学系统的配置的方块图。 

具体实施方式

在下文中，参考附图描述了根据本发明的实施例。 

图1是概括显示用于安装在根据本发明的实施例的光学信息记录/再现装置上的光学拾取头100的光学系统的配置的方块图。根据该实施例的光学信息记录/再现装置被配置为将信息记录到符合BD标准的高密度光盘(在下文中，将其称为“光盘D0”)上和/或从其上再现信息。 

如图1所示，光学拾取头100的光学系统包括光源1、半透明反射镜2、准直透镜3、物镜4和感光器(photoreceptor)5。在图1中，点划线表示光学拾取头100的光学系统的基准轴AX，细实线表示前进到光盘D0的光束以及从光盘D0返回的光束。在下面的说明中，准直透镜3的光源侧光学表面被称为表面A 31，准直透镜3的物镜侧表面被称为表面B 32，从表面B 32出射的激光束所进入的物镜3的光学表面被称为表面C 41，激光束出射时通过的物镜光学表面被称为表面D 42。 

光盘D0具有保护层和记录层(未显示)。实际上，在光盘D0中，记录层夹在保护层和基底层(substrate layer)(或标签层，label layer)之间。在光盘D0被放在转盘(turn table)(未显示)上的状态下，通过使光源1发出的激光束进入光盘D0的记录层来执行信息记录或信息再现。 

光源1是发射具有406nm的设计波长的蓝色激光的半导体激光器。一般而言，用于光学拾取头的光学系统的法布里-珀罗型半导体激光器的中心波长λ(单位：nm)根据半导体激光器的个体差异和使用环境，在数nm至数十nm(例如390-420nm)的范围内波动。 

如图1所示，从光源1发出的激光束被半透明反射镜2偏转以入射到准直透镜3的表面A31上。然后，进入准直透镜3的激光束被转换成准直光束，且在从准直透镜3通过表面B32出射后入射到物镜4的表面C 41上。在光盘D0的记录层附近，激光束被物镜4会聚以在光盘D0的记录层上形成具有小量的像差的合适的束斑。激光束从光盘 D0的记录层反射并沿激光束前进到光盘D0所沿的同一光路返回。之后，返回的激光束通过半透明反射镜2后被感光器5接收。 

感光器5对接收到的激光束进行光电转换以产生模拟信号，并将模拟信号输出至信号处理电路(未显示)。信号处理电路执行误差校正过程，同时将模拟信号转换成比特流。然后，信号处理电路从已进行了误差校正的比特流中将流(例如音频流和视频流)分开，并对每个分开的流译码。之后，信号处理电路将通过解码获得的音频信号和视频信号转换成分别通过扬声器和显示器(未显示)输出的模拟信号。因此，光盘D0中记录的音频和视频通过扬声器和显示器得到了再现。 

物镜4被配置成在波长λ下物镜4的光盘侧的数值孔径落在0.8至0.87的范围内，从而可以适当地进行信息记录和信息再现。 

准直透镜3和物镜4中的每一个均为由合成树脂模塑而成的树脂透镜。由于树脂透镜的重量比玻璃透镜轻，因此通过使用树脂透镜，可以减轻用于驱动透镜(未显示)的致动器上承载的负荷。此外，树脂透镜具有比玻璃透镜低的玻璃态转变温度。由此，树脂透镜可以在更低的温度条件下被模塑，并可以相对于玻璃透镜而言更容易的制造。这样，生产树脂透镜所消耗的能量的量低于生产玻璃透镜所消耗的能量的量。此外，树脂透镜几乎不会碎裂并且易于处理。因此，树脂透镜适合通过大规模生产来降低成本。选择在设计波长(406nm)下具有1.4至1.7的折射率n的树脂作为准直透镜3和物镜4中的每一个的材料。应注意的是，准直透镜3的基质材料和物镜4的基质材料可以是相同类型的树脂或不同类型的树脂。 

物镜4的基质材料是树脂，其在蓝色激光的波长区域具有较强的吸收性，并在设计波长(406nm)具有85％至90％的透光率(每3mm的光程的透射率)。在下文中，透光率表示每3mm的光程的透射率。当这种在蓝色激光的波长区域具有较强的吸收性的树脂基质材料被强度等于或高于某个特定值的蓝色激光长时间照射时，会发生白色混浊现象。因此，当使用具有85％至90％的透光率的树脂时，需要对白色混浊的出现采取措施。当使用透光率等于或小于85％的树脂时，会导致过大的功率损失，因此难以防止发生白色混浊。因此，使用透光率等于或小于85％的树脂是行不通的。 

附带说明，本发明的发明人已经通过对各种文献的分析和独特的实验得出结论：蓝色激光在光学元件中引起的白色混浊现象是树脂基质材料的氧化造成的结果。发明人的理论是：通过将光学元件配置成使氧气难以进入基质材料的内部，可以防止白色混浊现象的发生，或者可以抑制白色混浊现象的发展，从而使光学元件具有足够的耐光性。因此，使用具有115℃或更高(优选地，120℃或更高，更优选地，130℃或更高)的玻璃态转变温度Tg的树脂作为根据实施例的物镜4的基质材料。在高温环境下白色混浊现象快速发展。不过，当玻璃态转变温度Tg变高时，白色混浊现象的发展变慢。认为原因在于氧分子在树脂中的扩散系数在玻璃态转变温度附近急剧增加。也就是说，如果基质材料的玻璃态转变温度Tg充分高于基质材料的工作温度，则氧气在基质材料中的扩散速度变慢，因此白色混浊现象难以发展。具有85％至90％的透光率且具有115℃或更高的玻璃态转变温度Tg的光学树脂是可以获得的，例如MITSUI CHEMICAL，INC.(三井化学株式会社)生产的APL5014DP。 

在该实施例中，在物镜4的每个表面上形成通过在高度真空条件下的真空沉积(vacuum deposition)形成的或通过溅射形成的包括高密度层的抗反射膜。也就是说，在物镜4的每个表面上形成包括对氧气分子具有低扩散系数的高密度层的抗反射膜。通过这种配置，可以防止氧气进入到基质材料当中，从而减少白色混浊现象。特别地，优选的是，在物镜4的每个光学表面上形成通过溅射或10^-2(单位Pa)或更低的真空度下的真空沉积形成的包括由低折射率层(由二氧化硅、氧化铝、氟化铝、氟化镁或这些材料的混合物构成)和高折射率层(包括氧化钽)的其中之一构成的高密度层的抗反射膜。为了充分降低氧分子通过抗反射膜的渗透速度，抗反射膜被形成为其在光轴周围的厚度为100nm或更高(优选地，150nm或更高，更优选地，200nm或更高)。此外，在该实施例中，通过在高度真空的条件下的真空沉积或溅射来形成包含二氧化硅的膜作为高密度层。高密度层在光轴周围具有40nm或更高(优选80nm或更高，更优选地，150nm或更高)的厚度。在光轴附近，激光的功率密度很高，因此白色混浊现象发展较快。因此，为了在光轴附近防止氧气进入到基质材料当中，膜被形成为在光 轴周围具有等于或高于某一特定值的厚度。抗反射膜可通过不同制模(film-making)方法形成，例如真空沉积或溅射。特别地，通过溅射形成的膜具有的高膜密度并且对氧气具有低渗透率，因此通过溅射形成的膜对防止白色混浊现象具有非常好的效果。 

由于从光源发出的激光束所进入的物镜4的表面C41具有大曲率，因此表面C41外周的透镜表面角(即光轴与透镜表面的法线之间形成的角度)变大。对于正常的制模来讲，当透镜表面角变大时，膜的厚度变小，反射率取最小值的目标波长向短波长侧大幅度偏移，因此反射率变得非常大。通常，抗反射膜被形成为垂直入射时的反射率变小(即对光轴附近的光的反射率变小)。因此，对具有大入射角的光束外周部分的反射率变得非常大。因此，当光束通过表面C 41时，导致边缘强度(通过物镜的外周部分的光的强度与通过接近物镜光轴的中心部分的光的强度之比)下降。当边缘强度下降时，激光束的强度分布偏离高斯曲线。在这种情况下，出现在光盘D0的记录层处无法缩小激光束的束腰问题，因此抖动变大。因此，根据该实施例，形成在物镜4的表面C 41(即从光源发出的激光束的入射表面)上的抗反射膜被形成为具有相对较大的厚度，从而在光轴附近反射率取最小值的谷波长(valley wavelength)λ_min(C)落在600nm至800nm的范围内。通过该配置，在光束的外周部分可以确保足够的膜厚，因此可以确保对防止白色混浊现象的出现具有足够的效果。此外，由于减小了表面C41对光轴附近的光线和对激光束外周的光线之间的反射率差，因此可以形成窄的束腰，并可以改善抖动特性。此外，在激光束出射的物镜4的表面D 42上形成的抗反射膜被形成为具有相对较大的厚度，从而反射率取最小值的谷波长λ_min(D)落在430nm至600nm的范围内。通过该配置，可以确保抑制氧气渗透通过物镜的出射侧上的抗反射膜所需的足够的膜厚。当谷波长低于上述范围的下限时，对防止白色混浊现象的出现不能获得足够的效果。当谷波长高于上述范围的上限时，透镜表面与光轴垂直的透镜中心部分的透射率大幅度降低，因此总的透射率过度下降。 

应注意的是，准直透镜3的基质树脂材料在设计波长可具有85％至90％的透光率，或者在设计波长可具有90％或更高的透光率。蓝色 激光束在准直透镜3上的最大功率密度为蓝色激光束在物镜4上的最大功率密度的20％至25％。因此，即使使用会引起白色混浊现象的树脂，也不必在准直透镜3上设置具有防止发生白色混浊现象的作用的抗反射膜(例如形成在物镜4上的抗反射膜)。因此，可在准直透镜3的每个光学表面上形成不具有防止发生白色混浊现象的作用的普通抗反射膜。当在准直透镜3上形成具有防止发生白色混浊现象的抗反射膜时，不对抗反射膜的光学性能进行特别的限制。典型地，在准直透镜3的光学表面上形成的抗反射膜被设计成在光以设计波长垂直入射时反射率最小。优选在准直透镜3的每个光学表面上形成的抗反射膜。在准直透镜3的光学表面上形成的抗反射膜可具有相同的结构，或者可以具有不同类型的抗反射膜。 

接下来，解释根据实施例的物镜的十个示例。表1对第一示例至第十示例中的每一个显示了物镜的每个光学表面的结构。 

表1 

在每个示例中，在设计波长406nm处的透光率T(85.7％)低于或等于90％，基质材料为对可引起白色混浊现象的蓝色激光具有较大的吸收度的树脂。但是，树脂基质材料具有大于或等于130℃(135℃)的玻璃态转变温度Tg，导致白色混浊现象的氧化反应不快速发展。 

根据每个示例的抗反射膜被形成为包括至少一个二氧化硅层的多层膜，并具有100nm或更高的厚度。特别地，根据实例1-6和9中的每一个的膜具有150nm或更高的厚度，根据示例3至6中的每一个的膜具有200nm或更高的非常大的厚度。因此，可以有效地防止氧气进入到基质材料当中。确保由二氧化硅制成的高密度层具有80nm或更高的总厚度。特别地，在示例2中，二氧化硅层的总厚度是150nm或更高，因此可极其适合于防止氧气进入到基质材料当中。 

对于物镜4的表面C 41，可使用根据任一示例的光学表面。特别地，在示例4至6和9中，谷波长λmin在600至800nm范围内，因此在确保防止发生白色混浊现象的充分效果的同时，还可以防止边缘强度下降。 

对于物镜4的表面D 42，可以使用示例1至3、7至8和10中的任意一个。由于这些示例的光学表面具有430至600nm(440至510nm)范围内的谷波长λmin，因此可确保所需的抗反射膜厚度，同时某种程度上抑制透射率的降低。作为结果，可以获得足够的防止发生白色混浊现象的效果。 

在光学拾取头100的光学系统中，可以调整准直透镜3沿光轴的位置以由于例如光盘的覆盖层(cover layer)的厚度差异、波长差异或温度变化而发生的校正球面像差。应理解的是，在准直透镜3偏离图1所示的状态来校正球面像差的情况下，准直透镜3可以被表示成将光源1发射的激光束转换成基本准直的光束的光学元件。 

虽然已参考本发明的某些优选实施例相当详细地描述了本发明，其他实施例也是可能的。 

Claims (16)

1.一种用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，所述光学信息记录/再现光学系统通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息，

其中：

激光束的中心波长λ落在下面的条件限定的范围内，单位：nm：

390≤λ≤420.....(1)；

所述物镜的基质材料由树脂构成；

树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T，单位：％：

Tg≥115℃.....(2)，

85≤T≤90.....(3)；

在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜；

所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更厚的厚度；以及

所述抗反射膜包括对氧气分子具有低扩散系数的高密度层。

2.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，

其中：

每个抗反射膜具有通过在等于或小于10^-2Pa程度的真空下的真空沉积形成的高密度层；以及

所述高密度层在光轴附近的厚度为40nm或更厚。

3.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中每个抗反射膜都具有通过溅射形成的高密度层。

4.如权利要求1到3中任意一项所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中构成每个抗反射膜的层中的至少其中之一是由二氧化硅、氧化铝或二氧化硅和氧化铝的混合物制成。

5.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中所述物镜的玻璃态转变温度Tg满足下面的条件：

Tg≥125℃.....(4)。

6.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，其中每个抗反射膜是单层膜或者是具有四层或少于四层的多层膜。

7.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，

其中在从光源发出的激光束所进入的所述物镜的光源侧光学表面上的抗反射膜被形成为垂直入射的反射率取最小值的λ_B1落在下面的范围中，单位：nm：

600<λ_B1<800.....(5)。

8.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，

其中在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上的抗反射膜被形成为垂直入射的反射率取最小值的λ_B2落在下面的范围中，单位：nm：

430<λ_B2<600.....(6)。

9.如权利要求1所述的用于光学信息记录/再现光学系统的物镜，

其中在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上形成的抗反射膜是通过在基质材料上从基质材料侧按顺序堆叠第一层至第三层形成的三层膜；以及

在n1至n3分别代表所述第一层至所述第三层在波长406nm的折射率，以及d1至d3分别代表所述第一层至所述第三层的厚度的情况下，折射率n1至n3以及厚度d1至d3满足条件，d1至d3单位nm：

第一层：  n1≤1.55，       50≤d1≤200

第二层：  1.55<n2≤1.70，  40≤d2≤150

第三层：  n3≤1.55，       50≤d3≤200。

10.一种光学信息记录/再现装置，其通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息，包括物镜，

其中：

激光束的中心波长λ落在下面的条件限定的范围内，单位：nm：

390≤λ≤420.....(1)；

所述物镜的基质材料由树脂构成；

树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T，单位：％：

Tg≥115℃.....(2)，

85≤T≤90.....(3)；

在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜；

所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更厚的厚度；以及

所述抗反射膜包括对氧气分子具有低扩散系数的高密度层。

11.一种光学信息记录/再现光学系统，其通过使激光束照射到光盘的记录层上来向所述光盘记录信息和/或从所述光盘再现信息，包括：

光源，所述光源发射激光束；

光学元件，所述光学元件将所述光源发射的激光束转换成实质准直的光束；以及

物镜，所述物镜将从所述光学元件出射的激光束会聚到所述光盘的记录层上，

其中：

激光束的中心波长λ落在下面的条件限定的范围内，单位：nm：

390≤λ≤420.....(1)；

所述物镜的基质材料由树脂构成；

树脂具有通过下面的条件限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T，单位：％：

Tg≥115℃.....(2)，

85≤T≤90.....(3)；

在所述物镜的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜；

所述物镜上的每个抗反射膜在所述物镜的光轴附近具有100nm或更厚的厚度；

在激光束出射的所述物镜的光盘侧光学表面上形成的抗反射膜是通过在基质材料上从基质材料侧按顺序堆叠第一层至第三层形成的三层膜；以及

在n1至n3分别代表所述第一层至所述第三层在波长406nm的折射率，以及d1至d3分别代表所述第一层至所述第三层的厚度的情况下，折射率n1至n3以及厚度d1至d3满足条件，d1至d3单位nm：

第一层：  n1≤1.55，       50≤d1≤200

第二层：  1.55<n2≤1.70，  40≤d2≤150

第三层：  n3≤1.55，       50≤d3≤200。

12.如权利要求11所述的光学信息记录/再现光学系统，

其中在所述光学元件的光学表面上分别形成相同的抗反射膜或不同类型的抗反射膜。

13.如权利要求11所述的光学信息记录/再现光学系统，

其中构成所述光学元件的基质材料的树脂具有通过条件(2)和(3)限定的玻璃态转变温度Tg和在406nm波长处的每3mm光程的透光率T，单位：％。

14.如权利要求11到13中任意一项所述的光学信息记录/再现光学系统，

其中：

每个抗反射膜具有通过在等于或小于10^-2Pa程度的真空下的真空沉积形成的高密度层；以及

所述高密度层在光轴附近的厚度为40nm或更厚。

15.如权利要求11所述的光学信息记录/再现光学系统，其中所述抗反射膜的至少其中之一是通过溅射形成的。

16.如权利要求11所述的光学信息记录/再现光学系统，其中：所述物镜的玻璃态转变温度Tg满足下面的条件：

Tg≥125℃.....(4)。