CN102034730B - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置(1)包括第1、第2处理区(14a、14b)，该第1、第2处理区包括：用于输送基板(W)的第1、第2基板输送机构(141a、141b)；分别设于该基板输送机构(141a、141b)左右两侧，进行相同处理的处理单元的列(U1～U4)。处理单元的列(U1、U3)和另一方侧的处理单元的列(U2、U4)分别与共用化的处理流体的供给系统(3a、3b)连接。而且，在任一基板输送机构(141a、141b)、处理流体的供给系统(3a、3b)产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构(141b、141a)、处理流体的供给系统(3b、3a)所对应的处理单元的列(U1～U4)来处理基板(W)。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及使用例如输送半导体晶圆等基板的基板输送机构，相对于对上述基板实施液体处理、表面处理等流体处理的多个处理单元输送基板并对基板进行处理的技术。

背景技术

在半导体器件等制造工序中，有向半导体晶圆(以下称为晶圆)等基板的表面供给药液、纯水等处理液而去除附着于基板上的颗粒、污染物质的液体处理。

在进行这样的液体处理的一个液体处理装置中，有在旋转夹具上一张一张地载置基板、一边使基板旋转一边向该基板表面供给处理液而实施液体处理的液体处理装置。在这种液体处理装置中，例如通过用共用的基板输送机构相对于能够实施同种液体处理的多个液体处理单元输送基板，一边用多个液体处理单元同时实施液体处理一边连续更换基板，提高每单位时间的基板的处理张数(生产率)(专利文献1)。

本案发明人研究进一步提高具有这样的构造的液体处理装置的生产率，作为该方法，正在研究通过在1台液体处理装置内设有多个采用共用的基板输送机构向多个液体处理单元输送基板的处理区，增加能同时处理的基板的张数。

可是，若这样地增加由1台液体处理装置能够处理的基板张数，则例如在各液体处理单元、基板输送机构、向液体处理单元供给处理液的供给系统等中产生故障时，由于停止液体处理装置而产生的损失变大。特别是在像上述那样在液体处理装置内设有多个处理区的情况下，会无视产生故障的部位以外的区能够继续工作的情况，而仍然使整个装置停止，会产生机会损失，妨碍液体处理装置高效率地工作。

在此，在专利文献2中，记载有如下的涂敷、显影装置，即，在对半导体晶圆进行涂敷液的涂敷处理、热处理和曝光后的显影处理这样的一连串的处理的涂敷、显影装置中，设置多条实施该一连串的处理的处理生产线，即使1条处理生产线所包括的设备产生故障的情况下，剩下的处理生产线也能够继续工作。

专利文献1：日本特开2008-34490号公报：0020段、图1

专利文献2：日本特开2004-87675号公报：0040段、0108段、图1～图3

在上述专利文献2记载的涂敷、显影装置中，在各处理生产线包括的设备产生故障的情况下，无论该故障部位在哪都需要停止包括该产生故障的设备的整条处理生产线。对此，如上所述，在构成采用1个基板输送机构向多个液体处理单元输送基板的液体处理区、设置多个该液体处理区的情况下，即使在为了使某个液体处理区工作所必需的设备中产生故障的情况下，也能够以该液体处理区所包括的其他液体处理单元继续液体处理，所以即使应用专利文献2所记载的技术也有无法使液体处理装置高效率地工作的情况。

发明内容

本发明是鉴于这样的情况而做成的，提供一种即使在产生故障的情况下、也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。

本发明的基板处理装置的特征在于，包括：

基板搬入区，包括：容器载置部，其用于载置收纳有基板的基板收纳容器；交接机构，其用于相对于载置在该容器载置部的基板收纳容器进行基板的交接，

第1处理区，其与该基板搬入区相邻地设置，用于对从该基板搬入区接受的基板进行处理，其包括：第1基板输送机构，其用于沿着直线输送路径输送基板；处理单元的列，其分别设于该基板输送机构的左右两侧，由利用上述第1基板输送机构进行基板的交接并且分别利用处理流体对基板进行相同的处理的多个处理单元构成，

第2处理区，其与该第1处理区相邻设置，用于对从上述基板搬入区接受的基板进行处理，其包括：第2基板输送机构，其用于沿着直线输送路径输送基板；处理单元的列，其分别设于该基板输送机构的左右两侧，由利用上述第2基板输送机构进行基板的交接并且对基板分别进行与上述处理单元相同的处理的多个处理单元构成，

一个处理流体供给系统，其被上述第1处理区的左右的处理单元的列中的一列和上述第2处理区的左右的处理单元的列中的一列共用，

另一个处理流体供给系统，其被上述第1处理区的左右的处理单元列中的另一列和上述第2处理区的左右的处理单元的列中的另一列共用，

控制部，其进行如下控制：在上述第1处理区和第2处理区中的一个处理区的基板输送机构产生故障时，使用另一个处理区处理基板，在一个处理流体供给系统和另一个处理流体供给系统中的任一方产生故障时，使用未产生故障的处理流体的供给系统所对应的处理单元的列来处理基板。

上述基板处理装置也可以具有以下的特征。

(a)其特征在于，上述控制部进行如下控制：在处理单元的任一个产生故障时，停止使用包括该处理单元在内的处理单元的列，而使用其他的处理单元的列来处理基板。

(b)上述第1处理区和第2处理区互相层叠。

(c)上述第2处理区相对于第1处理区设在与基板搬入区相反的一侧。

(d)该基板处理装置包括：

基板载置部，其用于在上述第1处理区和第2处理区之间进行基板的交接；

第1区间输送机构，为了向第1处理区或上述基板载置部输送从上述基板搬入区的交接机构接受的基板，第1区间输送机构相对于上述第1基板输送机构独立地设置；

第2区间输送机构，为了向第2处理区输送被载置在上述基板载置部的基板，第2区间输送机构相对于上述第2基板输送机构独立地设置。

根据本发明，利用各基板输送机构进行基板的交接的处理单元的列的组合与共用的处理流体的各供给系统所连接的处理单元的列的组合互不相同。因此，即使例如在基板输送机构的一侧产生故障，也能用另一侧的基板输送机构继续进行基板的处理，在该状态下，即使还在处理流体的供给系统的一侧产生故障，也剩有使用没有产生故障的基板输送机构和处理流体的供给系统而能够继续基板的处理的处理单元的列。其结果，相对于故障的产生，能够提高不停止整个装置地继续进行基板处理的可能性。

附图说明

图1是本发明的实施方式的液体处理装置的横剖俯视图。

图2是上述液体处理装置的纵剖侧视图。

图3是表示上述液体处理装置的内部结构的立体图。

图4是表示搭载于上述液体处理装置上的液体处理单元的结构的说明图

图5是表示向上述液体处理单元供给处理液的供给系统的说明图。

图6是表示上述液体处理装置的电气结构的说明图。

图7是在上述液体处理装置中确定与故障产生部位相对应地停止的液体处理单元的列的分组表。

图8是表示上述液体处理装置的故障产生时的动作的流程的流程图。

图9是表示上述液体处理装置的动作的第1说明图。

图10是表示上述液体处理装置的动作的第2说明图。

图11是表示第2实施方式的液体处理装置的例子的横剖俯视图。

图12是上述第2实施方式的液体处理装置的纵剖侧视图。

图13是表示上述第2实施方式的液体处理装置的内部结构的立体图。

图14是表示上述第2实施方式的液体处理装置的动作的第1说明图

图15是表示上述第2实施方式的液体处理装置的动作的第2说明图

图16是表示上述第2实施方式的液体处理装置的动作的第3说明图

具体实施方式

作为本发明的基板处理装置的实施方式，一边参照图1～图7一边说明液体处理装置1的结构，该液体处理装置1用于进行向作为基板的晶圆W供给作为处理液的药液而去除附着于基板上的颗粒、污染物质的液体处理。图1是表示液体处理装置1的整体结构的横剖俯视图，图2是纵剖侧视图，朝向这些图以左侧为前方时，液体处理装置1呈从前方依次连接有以下部件的构造：载置区11，其载置有作为收纳多张晶圆W的基板收纳容器的FOUP(即前开式晶圆盒，Front-OpeningUnifiedPod)7；输送区12，将晶圆W从该FOUP7取出而搬入液体处理装置1内；交接区13，用于将在输送区12取出的晶圆W交接给后段的液体处理区14a、14b；液体处理区14a、14b，将从交接区13交接的晶圆W搬入液体处理单元2而实施液体处理。在此，从提高生产率的观点出发，本实施方式的液体处理装置1具有上下层叠的(相邻地设置的)2个液体处理区14a、14b。在本例子中，例如上段侧的液体处理区14a相当于第1处理区，下段侧的液体处理区14b相当于第2处理区。

载置区11发挥容器载置部的作用，该容器载置部例如构成为能够载置4个FOUP7的载置台，对载置在载置台上的各FOUP 7进行固定，该容器载置部与输送区12连接。输送区12成为在共用框体内设有以下构件的构造：打开或关闭设于与各FOUP 7的连接面上的开闭门的未图示的开闭机构；作为在FOUP 7和交接区13之间交接晶圆W的交接机构的搬入搬出臂121。

搬入搬出臂121例如由输送臂及其驱动部构成，该输送臂构成为能够沿前后方向自由进退、能够沿左右方向自由移动且能够转动、自由升降，发挥经由设于划分输送区12和交接区13的分隔壁上的第1开口部123而与交接区13之间进行晶圆W的交接的作用。

交接区13是设于前后被输送区12和液体处理区14a、14b夹着的位置上的框体内的空间，成为例如设有第1交接架133和第2交接架131a、131b的构造，该第1交接架133与输送区12侧的第1开口部123连接；该第2交接架131a、131b分别设于该第1交接架133的上方位置和下方位置，用于在该第1交接架133与设于各液体处理区14a、14b侧的分隔壁上的第2开口部132a、132b之间进行液体处理前后的晶圆W的交接。各第2交接架131a、131b例如能够载置8张晶圆W，设于交接区13的空间内的上方侧和下方侧的位置。各交接架131a、131b发挥暂时载置从输送区12侧搬入的晶圆W和从液体处理区14a、14b侧搬出的晶圆W的作用。

此外，如图1所示，在交接区13内设有构成为能够沿上下方向自由升降、能够沿前后方向自由进退的升降输送机构134。该升降输送机构134发挥在第1交接架133和第2交接架131a、131b之间进行晶圆W的输送的作用。

以上说明的载置区11、输送区12、交接区13构成本实施方式的基板搬入区。

在交接区13的后段，与该交接区13相邻地上下层叠地配置有2个液体处理区14a、14b。这些液体处理区14a、14b具有互相大致同样的结构，成为在框体内配置有对晶圆W实施液体处理的多个例如12个液体处理单元2的构造。在各液体处理区14a、14b中设有沿前后方向延伸的作为晶圆W的直线输送路径的输送路径142a、142b，隔着该输送路径142a、142b左右各6台液体处理单元2相互相对地排列。

如图1、图3所示，在各输送路径142a、142b内设有处理臂141a、141b，该处理臂141a、141b构成为能够沿着输送路径142a、142b移动、能够朝向设于输送路径142a、142b左右的各液体处理单元2进退、且能够绕铅直轴线旋转、能够升降，分别相当于本实施方式的第1、第2基板输送机构，能够在交接区13侧的分别与液体处理区14a、14b相对应的第2交接架131a、131b和各液体处理单元2之间输送晶圆W。在此，在图1～图3中表示了在各液体处理区14a、14b中设有1台处理臂141a、141b的例子，然而也可以根据液体处理单元2的台数等设置2台以上的处理臂141a、141b。

汇总以上说明的内容，如图1～图3所示，在本例子的液体处理装置1中，在上段侧的液体处理区14a中配置有12台液体处理单元2，在下段侧的液体处理区14b中配置有12台液体处理单元2，合计24台液体处理单元2。而且，在上段侧的液体处理区14a中，从前方侧看来，相对于排列于输送路径142a的右侧的6台液体处理单元2的列(U1)、排列于左侧的6台液体处理单元2的列(U2)的各列中所包括的液体处理单元2，用共用的处理臂141a进行晶圆W的搬入搬出。此外，在下段侧的液体处理区14b中，从前方侧看来，相对于排列于输送路径142b的右侧的6台液体处理单元2的列(U3)、排列于左侧的6台液体处理单元2的列(U4)的各列中所包括的液体处理单元2，用共用的处理臂141b进行晶圆W的搬入搬出。

接着，一边参照图4、图5一边说明设于各液体处理区14a、14b的液体处理单元2的结构和向各液体处理单元2供给药液或自液体处理单元2回收药液的供给、回收系统。液体处理单元2包括：外腔室21，形成对晶圆W实施液体处理、漂洗、甩干的各处理的密闭的处理空间；晶圆保持机构23，设于该外腔室21内，使晶圆W在保持大致水平的状态下旋转；喷嘴臂24，向被保持在晶圆保持机构23上的晶圆W的上表面侧供给药液；内杯状体22，以围绕晶圆保持机构23的方式设于外腔室21内，用于接收从旋转的晶圆W向周围飞散的药液。

外腔室21设于如图1～图3所示那样互相相邻的液体处理单元2之间用于将本液体处理单元2同相邻的另外一个液体处理单元2划分开的框体内，利用处理臂141a、141b经由未图示的晶圆搬入口搬入或搬出晶圆W。设于外腔室21底面的附图标记26所示的构件是用于排出积存在外腔室21底面的DIW等排水(废水)的排水管线，附图标记27所示的构件是用于排出外腔室21内的气氛气体的排气管线。此外，在晶圆保持机构23内部形成有药液供给路径231，能够经由该药液供给路径231向旋转的晶圆W的下表面供给药液。

喷嘴臂24在顶端部具有药液供给用喷嘴，能够利用未图示的驱动机构使上述喷嘴在被保持于晶圆保持机构23的晶圆W中央侧的上方位置和例如设于外腔室21外部的待命位置之间移动。内杯状体22在围绕被保持于晶圆保持机构23的晶圆W的处理位置和向该处理位置的下方退避的退避位置之间升降，发挥接收向旋转的晶圆W表面供应的各种药液、经由设于内杯状体22的底面的排出管线25向液体处理单元2外排出这些药液的作用。

接着，说明向各液体处理单元2供给药液的供给机构，设于喷嘴臂24的喷嘴与上表面侧供给管线47连接，该上表面侧供给管线47分支出IPA供给管线411和药液供给中间管线44。IPA供给管线411与IPA供给部31连接，该IPA供给部31发挥向晶圆W上表面侧供给用于利用高的挥发性使晶圆W干燥的IPA的作用。在IPA供给管线411中夹设有流量控制器42，能够向喷嘴臂24a供应规定量的IPA。

从上表面侧供给管线47分支出的另一方侧的药液供给中间管线44经由切换阀43与3系统的药液供给管线412、413、414连接。其中，在DIW供给管线412的上游设有供给用于去除残留于药液处理后的晶圆W上的D HF液、SC1液的作为漂洗液的DIW(去离子水，Deionized Water)的DIW供给部32。在SC1供给管线413上游侧设有供给用于去除晶圆W表面的颗粒、有机性的污染物质的作为药液的SC1液(氨和双氧水的混合液)的SC1供给部33。而且，在剩下的DHF供给管线414的上游侧设有供给用于去除晶圆W表面的自然氧化膜的作为酸性药液的稀氢氟酸水溶液(以下称为DHF(Diluted Hydro Fluoric acid)液)的DHF供给部34。

此外，连接上述DIW供给部32、SC1供给部33、DHF供给部34的药液供给中间管线44和向晶圆W的下表面供给药液的药液供给路径231经由下表面侧供给管线48连接。图4中，附图标记45、46所示的构件分别是调整向喷嘴臂24侧、晶圆保持机构23侧供给的药液供给量的流量控制器。

以上说明的IPA供给部31、DIW供给部32、SC1供给部33、DHF供给部34例如集中配置在共用的药液供给单元3a、3b内，例如在图5中集中囊括地表示有这些各供给部31、32、33、34。在此，在本实施方式的液体处理装置1中，如图3、图5所示，例如从前方侧看来，上下重叠配置在输送路径142a、142b的右侧的液体处理单元2的列(U1、U3)与共用的药液供给单元3a连接，上下重叠配置在输送路径142a、142b的左侧的液体处理单元2的列(U2、U4)与共用的药液供给单元3b连接。这些药液供给单元3a、3b相当于本实施方式中的处理流体的供给系统，该供给系统被液体处理单元2的列U1、U3和U2、U4共用。

如上所述，隔着输送路径142a、142b，分别将药液供给单元3a、3b与液体处理单元的列U1、U3和其他的列U2、U4连接，从而例如能够不与处理臂141a、141b、该处理臂141a、141b的电源系统等产生干涉地配设各供给管线411～414等，具有配管设计容易或能缩短配管距离的优点。此外，在图5中，为了便于图示，以在液体处理单元的列U1、U3上连接有药液供给单元3a的情况为代表而进行了表示，但是，药液供给单元3b与液处理单元的列U2、U4的连接状态也大致相同。

如在图5中汇总表示那样，各药液的供给部31、32、33、34成为如下这样的结构：在与储存各种药液的循环箱301连接的药液供给管线401上设有供给泵302、过滤器303、加热器304，在该加热器304的下游侧，该药液供给管线401分支出与液体处理区14a、14b的各液体处理单元2连接的分支管线402。上述药液供给管线401和分支管线402相当于图4所示的各供给管线412～413，例如在设于各液体处理单元2的下部的切换阀43中，各供给管线412～413的分支管线402合流。

另一方面，设于各液体处理单元2的内杯状体22底部的排液管线25例如经由未图示的切换阀与向各供给部31、33、34的循环箱301回收药液的药液回收管线403连接，能回收使用完毕的药液。此外，关于外腔室21的排水管线26，替代经由药液回收管线403向DIW供给部32的循环箱301回收排水，而是例如与工厂的排水处理设备连接，在不进行排水回收这一点上与图5所示的各药液供给部31、33、34的药液回收管线403不同。

具有这样结构的药液供给单元3a、3b例如能够配置在配置有液体处理装置1的工厂的地面下等。图3示意性地表示与液体处理单元的列U1、U3和U2、U4连接的药液供给单元3a、3b的配置状态，与各药液的供给部31、32、33、34连接的药液供给管线401仅简略表示为1根配管。此外，省略了对药液回收管线403的表示。

如图1所示，在液体处理装置1上连接有控制部6。控制部6例如由具有CPU和存储部的计算机构成，在存储部中存储有编写有步骤(命令)组的程序，该步骤(命令)组是关于该液体处理装置1的作用、向各液体处理区14a、14b的液体处理单元2搬入晶圆W而进行液体处理后、直到将液体处理后的晶圆W收纳到FOUP7中的动作的控制。该程序例如被收纳在硬盘、光盘、光磁盘、存储卡等存储介质中，从存储介质安装到计算机中。

具有以上说明的结构的液体处理装置1例如在处理臂141a、141b、药液供给单元3a、3b等中产生故障的情况下，能只停止受到该故障影响的液体处理单元2工作，而使其他的液体处理单元2继续工作。以下，说明其详细的结构。

图6表示表示液体处理装置1的电气结构的框图，各液体处理单元2、药液供给单元3a、3b、处理臂141a、141b、搬入搬出臂121与上述控制部6(例如由CPU61和存储部62构成)连接，能够检测到在上述设备2、3a、3b、141a、141b、121中产生故障的情况。

此外，液体处理装置1内的液体处理单元2的各液体处理单元的列U1～U4与不同的电源部5连接，各电源部5能基于来自控制部6的指令，以液体处理单元的列U1～U4为单位对各液体处理单元2供电或断电。

在控制部6的例如存储部62中，存储有停止·工作控制程序621，例如参照存储于存储部62中的分组表622，改变与产生故障的设备2、3a、3b、141a、141b、121相对应地切断电力供给的液体处理单元的列U1～U4，并且利用未成为停止对象的液体处理单元的列U1～U4内的液体处理单元2继续进行晶圆W的液体处理。

图7表示本例子的分组表622的一个例子，该表622的各列表示产生故障的设备，各行表示与该产生故障的设备相对应地停止的液体处理单元的列U1～U4。图中“○”表示液体处理单元2继续工作，“×”表示停止。

根据图7的分组表622，在各液体处理单元的列U1～U4所包括的液体处理单元2中产生故障时，只停止包括该液体处理单元2在内的各液体处理单元的列U1～U4，在其他的列U1～U4中，继续液体处理单元2的工作。对于使已停止的液体处理单元的列U1～U4以外的液体处理单元的列U1～U4继续工作这一点，以下，其他设备的情况也相同。

在处理臂141a、141b中产生故障时，在上段的处理臂141a(在图7中表示为“PA1”)中产生故障的情况下，停止液体处理单元的列U1、U2的工作，在下段的处理臂141b(相同地表示为“PA2”)中产生故障的情况下，停止液体处理单元的列U3、U4的工作。在药液供给单元3a、3b产生故障时，从前方看来，在右侧的药液供给单元3a(在图7中表示为“CU1”)中产生故障的情况下，停止液体处理单元的列U1、U3，在左侧的药液供给单元3b(相同地表示为“CU2”)产生故障的情况下，停止液体处理单元的列U2、U4。

此外，在搬入搬出臂121中产生故障的情况下，因为无法从后段的任一液体处理区14a、14b搬入或搬出晶圆W，所以停止所有的液体处理单元的列U1～U4。

以下说明具有以上说明的结构的液体处理装置1的作用。在液体处理装置1中开始处理时，搬入搬出臂121从载置于载置区11的FOUP7取出晶圆W，将晶圆W载置在第1交接架133内。升降输送机构134从该第1交接架133取出晶圆W，将晶圆W依次载置到与各液体处理区14a、14b相对应的第2交接架131a、131b上。

在各液体处理区14a、14b中，处理臂141a、141b从第2交接架131a、131b接受晶圆W，进入一个液体处理单元2，将该晶圆W交接给晶圆保持机构23。使保持有晶圆W的喷嘴臂24移动到晶圆W中央侧的上方位置，使内杯状体22上升到处理位置，一边利用晶圆保持机构23使晶圆W旋转一边自晶圆保持机构23侧的喷嘴和晶圆保持机构23侧的药液供给路径231向晶圆W的上下表面两侧供给SC1液。由此，在晶圆W上形成有药液的液膜，进行碱性药液清洗。

碱性药液清洗结束后，内杯状体22移动到退避位置，此外，向内杯状体22和晶圆保持机构23的药液供给路径231供给DIW，从而实施去除晶圆W表面的SC1液的漂洗。

结束漂洗后实施甩干，之后，使内杯状体22上升到处理位置，一边使晶圆W旋转一边自喷嘴臂24和晶圆保持机构23的药液供给路径231向晶圆W的上下表面供给DHF液。由此，在这些面上形成有DHF液的液膜，进行酸性药液清洗。然后，经过规定时间后，使内杯状体22下降到退避位置，将药液的供给系统切换为纯水，再次进行漂洗。

漂洗后，使内杯状体22上升到处理位置，一边向液体处理单元2的上表面供给IPA一边使晶圆W旋转，实施利用了IPA的挥发性的IPA干燥。由此，完全去除残留在晶圆W表面的漂洗后的纯水。之后，使内杯状体22退避到退避位置，打开未图示的搬入搬出口，使处理臂141a、141b进入液体处理单元2内，搬出处理后的晶圆W。

结束了液体处理的晶圆W以与搬入时相反的路线向第2交接架131a、131b、升降输送机构134、第1交接架133、搬入搬出接受臂121交接，收纳在载置区11的FOUP7内。通过连续实施这些动作，液体处理装置1使设于上下2段的液体处理区14a、14b内的总计24台液体处理单元2同时工作，例如与具有1组(例如12台液体处理单元2)液体处理区14a的以往的液体处理装置相比，能够在单位时间内清洗、干燥较多的晶圆W。

基于以上说明的动作，一边参照图8的流程图和图9～图10一边说明在实施晶圆W的液体处理的液体处理装置1的预先规定的设备中产生故障时的动作。

首先，液体处理装置1开始工作后(开始)，例如监视图6所示的框图中的各设备2、3a、3b、141a、141b、121中是否产生故障，在没有产生故障的情况下(步骤S101；否)继续工作。

在产生故障时(步骤S101；是)，确认该故障是否是液体处理单元2中的故障，例如在晶圆保持机构23的旋转驱动机构停止、晶圆W的交接机构不正常等是液体处理单元2中的故障的情况下(步骤S102；是)，只停止包括产生该故障的液体处理单元2在内的液体处理单元的列U1～U4(步骤S105)，结束故障所对应的动作(结束)。

图9的(a)表示例如在液体处理单元的列U1所包含的液体处理单元2中产生故障时的各液体处理单元的列U1～U4的工作状态，涂灰色的液体处理单元的列U1表示停止。此时，剩下的3个液体处理单元的列U2～U4继续工作，另一方面，在停止的液体处理单元的列U1中，例如能够打开设于构成该液体处理单元的列U1的外装体的液体处理区14a、14b的框体面的通道门而对有故障的液体处理单元2进行维护。通过停止包括产生故障的液体处理单元2在内的液体处理单元的列U1～U4整体，能够避免维护人员打开通道门时暴露在药液的供给气氛下。

返回图8的流程图的说明，在液体处理单元2没有产生故障的情况下(步骤S102；否)，接着确认该故障处理是否是在处理臂141a、141b中产生的故障。例如在驱动机构的故障等是在处理臂141a、141b中产生的故障的情况下(步骤S103；是)，基于分组表622停止该处理臂141a、141b和与该处理臂141a、141b相对应的液体处理单元的列U1、U2(或液体处理单元的列U3、U4)(步骤S106)，结束故障所对应的动作(结束)。图9的(b)表示在上段侧的处理臂141a中产生故障时的各液体处理单元的列U1～U4的工作状态。

若故障不是处理臂141a、141b中的故障(步骤S103；否)，接着确认该故障是否是在药液供给单元3a、3b中产生的故障。例如在循环箱301中的液面低、供给泵302停止、过滤器303的压力损失上升等在药液供给单元3a、3b中产生故障的情况下(步骤S104；是)，基于分组表622停止该药液供给单元3a、3b和与该药液供给单元3a、3b相对应的液体处理单元的列U1、U3(或液体处理单元的列U2、U4)(步骤S108)，结束故障所对应的动作(结束)。图10的(a)表示从跟前看来在右侧的药液供给单元3a中产生故障时的各液体处理单元的列U1～U4的工作状态。在此，在本实施方式的液体处理单元2的结构中，图5所示的切换阀43、流量控制器45、46等故障包含于液体处理单元2单体的故障(步骤S105)中。

在液体处理单元2、交接架131a、131b、药液供给单元3a、3b中的任一方中均没有故障的情况下(步骤S104；否)，因为是搬入搬出臂121的例如是驱动机构等的故障，所以停止整个液体处理单元的列U1～U4(即停止整个液体处理装置1)(步骤S107)，结束故障所对应的动作(结束)。图10的(b)表示在搬入搬出臂121中产生故障的情况的各液体处理单元的列U1～U4的工作状态。

这样，与产生故障的设备2、3a、3b、141a、141b、121相对应地只停止受到该故障影响的液体处理单元2的工作，例如维护人员解决该设备的故障，成为能够开始工作的状态时，例如向控制部6输入恢复信号，恢复停止的液体处理单元的列U1～U4的工作(开始)。而且，即使在例如处理臂141a、141b的一个停止的期间中，药液供给单元3a、3b的一个也停止的情况下，也还能剩有1列利用剩下的处理臂141b、141a、药液供给单元3b、3a能够继续工作的液体处理单元的列U1～U2，在该液体处理单元的列U1～U2内的液体处理单元2中能够继续液体处理。

根据本实施方式的液体处理装置1，具有以下的效果。利用各基板输送机构进行基板的交接的处理单元的列的组合和与共用的处理流体的各供给系统所连接的处理单元的列的组合互不相同。因此，即使在处理臂141a、141b中的一侧产生故障，用另一侧的处理臂141b、141a也能够继续晶圆W的液体处理，在该状态下，即使药液供给单元3a、3b的一侧也产生故障，也仍剩有能使用没有产生故障的处理臂141b、141a和药液供给单元3b、3a继续进行晶圆W的液体处理的处理单元的列U1～U4。其结果，相对于故障的产生，能够不停止整个液体处理装置1，提高继续晶圆W处理的可能性。

图11～图13表示第2实施方式的液体处理装置1a的结构。第2实施方式的液体处理装置1a在配置于交接区13的后段的2个液体处理区14a、14b沿前后方向配置这一点上，与上下层叠有液体处理区14a、14b的上述的液体处理装置1不同。换言之，液体处理区14b(第2处理区)相对于液体处理区14a(第1处理区)设在与交接区13(基板搬入区)相反的一侧。在图11～图13所示的液体处理装置1a中，对与图1～图3所示的液体处理装置1相同的构成要素，标注与上述图相同的附图标记。

在各液体处理区14a、14b中，隔着中央的输送路径142a、142b，从前方看来在左右设有液体处理单元的列U1～U4，在各液体处理单元的列U1～U4内，沿前后方向配置有2列、沿上下方向配置有3层共6台液体处理单元2。因此，在本例子的液体处理装置1a中，在前段侧的液体处理区14a中配置有12台、在后段侧的液体处理区14b中配置有12台、合计24台液体处理单元2。

而且，在前段侧的液体处理区14a中，从前方侧看来，相对于堆积在输送路径142a的右侧的前后2列、上下3段的液体处理单元2的列(U1)所包括含液体处理单元2、同样堆积在左侧的6台液体处理单元2的列(U2)所包含的液体处理单元2，用共用的处理臂141a进行晶圆W的搬入、搬出。此外，在后段侧的液体处理区14b中，从前方侧看来，相对于堆积在输送路径142b的右侧的6台液体处理单元2的列(U3)所包含的液体处理单元2、堆积在左侧的6台液体处理单元2的列(U4)所包含的液体处理单元2，用共用的处理臂141b进行晶圆W的搬入、搬出。

另一方面，关于药液供给单元3a、3b，如图13所示，从前段的液体处理区14a前方侧看来，设于输送路径142a(处理臂141a)的右侧的液体处理单元的列U1和设于后段的液体处理区14b的输送路径142b(处理臂141b)的右侧的液体处理单元的列U3与共用的药液供给单元3a连接。另一方面，与前段的液体处理区14a相同，设于左侧的液体处理单元的列U2和设于后段的液体处理区14b的左侧的液体处理单元的列U4与共用的药液供给单元3b连接。

在液体处理装置1a中，交接区13具有1个交接架131，在输送区12和液体处理区14a、14b之间所输送的晶圆W均载置在该交接架131上。此外，在前段的液体处理区14a和后段的液体处理区14b之间设有交接区15，经由设于该交接区15内的作为基板载置部的交接架151，在上述前后段之间进行晶圆W的交接。另外，在图13～图16的各图中，省略对交接区15的表示。

而且，例如从跟前看前段的液体处理区14a，在右侧的液体处理单元的列U 1的第1段的液体处理单元2和第2段的液体处理单元2之间设有作为第1区间输送机构的梭式臂143a，该梭式臂143a在设于上述段之间的空间内输送晶圆W，并且在交接架131、设于前段的液体处理区14a的处理臂141a和交接架151之间进行晶圆W的交接。

另一方面，例如从跟前看后段的液体处理区14b，在右侧的液体处理单元的列U3的第1段的液体处理单元2和第2段的液体处理单元2之间设有作为第2区间输送机构的梭式臂143b，该梭式臂143b在设于上述段之间的空间内输送晶圆W，并且在交接架151和设于后段的液体处理区14b的处理臂141b之间进行晶圆W的交接。

通过具有这些结构，为了由前段的液体处理区14a内的液体处理单元2进行液体处理，载置于交接架131的晶圆W被以梭式臂143a→处理臂141a的方式交接，被搬入各液体处理单元2内。另一方面，为了由后段的液体处理区14b内的液体处理单元2进行液体处理，载置于交接架131的晶圆W以梭式臂143a→棚151→梭式臂143b→处理臂141b的方式进行交接，被搬入各液体处理单元2内。

说明与具有该结构的液体处理装置1a的各设备2、3a、3b、141a、141b，143a，143b、121产生的故障相对应的工作状态。图14的(a)表示例如在设于液体处理单元的列U1的最上段的液体处理单元2中产生故障时的工作状态。像上述那样，在维护用的通道门设于液体处理区14a、14b的每段上的情况下，无需停止液体处理单元的整条列U1，在本例子中，只停止包括产生故障的液体处理单元2在内的液体处理单元的列U1内的通道门共用的段的液体处理单元2。

在处理臂141a、141b产生故障时，停止该处理臂141a、141b和设于该处理臂141a、141b的左右的液体处理单元的列U1、U2(或U3、U4)的工作。图14的(b)表示前段侧的处理臂141a中产生故障时的工作状态。

在药液供给单元3a、3b产生故障时，停止药液供给单元3a、3b和与该药液供给单元3a、3b连接的液体处理单元的列U1、U3(或U2、U4)工作。图15的(a)表示从跟前看在右侧的药液供给单元3a中产生故障时的工作状态。

接着，在设于前段的液体处理区14a中的梭式臂143a产生故障的情况下，无法与该液体处理区14a的处理臂141a和后段的交接架151之间进行晶圆W的交接。因此，如图15的(b)所示，停止整个液体处理单元的列U1～U4。在搬入搬出臂121停止的情况也相同，在本例子中省略其图示。

另一方面，在设于后段的液体处理区14b中的梭式臂14b产生故障的情况下，只是无法在该梭式臂143b和交接架151之间进行晶圆W的交接，前段侧的梭式臂143a仍能够将晶圆W交接给液体处理区14a的处理臂141a。因此，只有液体处理区14b的液体处理单元的列U3、U4成为停止状态(图16)。

在此，如第1实施方式的液体处理装置1那样沿上下方向层叠的液体处理区14a、14b的段数、如第2实施方式的液体处理装置1a那样沿前后方向排列设置的液体处理区14a、14b的数量不限于上述例子所示，例如既可以是3段以上，也可以是3列以上，例如还可以是如3列×3段那样组合上下方向的层叠和前后方向的排列。

此外，既可以如第1实施方式的液体处理装置1所示那样，将具有在横向上输送晶圆W的处理臂141a、141b的液体处理区14a、14b例如经由交接区15在前后方向上连接，也可以如第2实施方式所示的液体处理装置1a那样，做成上下层叠具有在铅垂方向上输送晶圆W的处理臂141a、141b的液体处理区14a、14b的结构。而且，在工厂内的布局上容许的情况下，例如也可以从跟前看将液体处理区14a、14b在左右方向上排列地与交接区13连接，使互相相邻的液体处理单元的列U1～U2之间的药液供给单元3a、3b共用化。

此外，在上述的各实施方式中，表示了在监视对象的各设备2、3a、3b、141a、141b、143a、143b、121中，在检测到产生故障的情况下，立刻停止基于分组表622的设定而选择的液体处理单元的列U1～U4的例子，但是停止时段不限于此。例如在液体处理单元2的单体的故障、处理臂141a、141b、搬入搬出臂121的故障的情况下，在停止对象的液体处理单元的列U1～U4内也包括能够继续处理的液体处理单元2。在这样的情况下，也可以做成如下结构：在正在实施中的晶圆W的处理结束后，在成为能够取出晶圆W的状态时，使选择出的液体处理单元的列U1～U4停止。

此外，例如作为能够从处理臂141a、141b向缓冲架(第1交接架)133进入的结构，例如在搬入搬出臂121产生故障时，也可以在整个液体处理单元的列U1～U4内的晶圆W的处理结束后，从各液体处理单元2取出晶圆W，将晶圆W收纳在缓冲架133之后，停止液体处理单元的列U1～U4。

另外，药液供给单元3a、3b不限于被隔着输送路径142a、142b位于相同的方向的液体处理单元的列U1和U3、U2和U4共用的情况，例如也能被隔着输送路径142a、142b交叉的液体处理单元的列U1和U4、U3和U2共用。

而且，在上述的各实施方式中，说明了在由控制部6主动检测各设备2、3a、3b、141a、141b、143a、143b、121的故障产生，切断来自基于分组表622而选择的液体处理单元的列U1～U4的电源部5的电力供给的情况下，但是各液体处理单元的列U1～U4不限定于通过这样主动切断电力供给而停止的情况。例如在处理臂141a、141b、搬入搬出臂121的故障的情况下，各液体处理单元2基于制程程序实施晶圆W的处理，在因处理臂141a、141b、搬入搬出臂121停止而无法以该以上顺序进行的时刻，图7的分组表622所示的液体处理单元的列U1～U4也会停止。在药液供给单元3a、3b的故障的情况下，因为无法供给药液，所以即使不切断电力供给，在故障产生的时刻，与该药液供给单元3a、3b连接的液体处理单元的列U1～U4也会停止。

此外，使用流体的处理不限于上述的液体处理，例如也能应用于向晶圆W供给HMDS(六甲基二硅胺：hexamethyldisilazane)等蒸气而使晶圆W表面疏水化的处理装置。

Claims (5)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

基板搬入区，其包括：容器载置部，其用于载置基板收纳容器，该基板收纳容器收纳有基板；交接机构，其用于相对于载置在该容器载置部的基板收纳容器进行基板的交接，

第1处理区，其与该基板搬入区相邻地设置，包括用于对从该基板搬入区接受的基板进行处理的第1处理单元的列和第2处理单元的列，上述第1处理区具有用于沿着直线输送路径输送上述第1处理区中的基板的第1基板输送机构，上述第1处理单元的列和上述第2处理单元的列中的每一列由分别利用处理流体对基板进行相同的处理的多个处理单元构成，上述第1处理单元的列和上述第2处理单元的列中的每一列分别设于上述第1基板输送机构的左右两侧，利用上述第1基板输送机构将基板输送至上述第1处理单元的列和上述第2处理单元的列的多个处理单元，

第2处理区，其与该第1处理区相邻设置，包括用于对从上述基板搬入区接受的基板进行处理的第3处理单元的列和第4处理单元的列，上述第2处理区具有用于沿着直线输送路径输送上述第2处理区的基板的第2基板输送机构，上述第3处理单元的列和上述第4处理单元的列中的每一列由分别进行与上述第1处理区的多个处理单元的处理相同的处理的多个处理单元构成，上述第3处理单元的列和上述第4处理单元的列中的每一列分别设于上述第2基板输送机构的左右两侧，利用上述第2基板输送机构将基板输送至上述第3处理单元的列和上述第4处理单元的列的多个处理单元，

第1处理流体供给系统，其被上述第1处理区的上述第1处理单元的列和上述第2处理区的上述第3处理单元的列共用，

第2处理流体供给系统，其与上述第1处理流体供给系统相独立地安装，并且被上述第1处理区的上述第2处理单元的列和上述第2处理区的上述第4处理单元的列共用，

控制部，其进行如下控制：在检测到上述第1基板输送机构产生故障时，使用上述第2处理区处理基板，在检测到上述第2基板输送机构产生故障时，使用上述第1处理区处理基板，

上述控制部还进行如下控制：在检测到第1处理流体供给系统产生故障时，使用上述第1处理区的上述第2处理单元的列和上述第2处理区的上述第4处理单元的列来处理基板，在检测到第2处理流体供给系统产生故障时，使用上述第1处理区的上述第1处理单元的列和上述第2处理区的上述第3处理单元的列来处理基板。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述控制部进行如下控制：在检测到处理单元的任一个产生故障时，停止使用包括该处理单元在内的处理单元的列，而使用其他的处理单元的列来处理基板。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述第1处理区和第2处理区互相层叠。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述第2处理区相对于第1处理区设在与基板搬入区相反的一侧。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括：

基板载置部，其用于在上述第1处理区和第2处理区之间进行基板的交接；

第1区间输送机构，为了向第1处理区或上述基板载置部输送从上述基板搬入区的交接机构接受的基板，第1区间输送机构相对于上述第1基板输送机构独立地设置；

第2区间输送机构，为了向第2处理区输送载置在上述基板载置部的基板，第2区间输送机构相对于上述第2基板输送机构独立地设置。