CN101981767A - 用于激光脉冲等化的系统和方法 - Google Patents
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Abstract
一种于不同脉冲重复频率(PRF)提供激光脉冲等化的系统及方法。在起始时将激光介质自第一激发位准激发至峰值激发位准之后，控制器依据脉冲等化激发曲线使激发源继续激发激光介质。等化激发曲线可以依据在不同PRF的激光脉冲测试参数而决定以达成脉冲参数的最佳等化效果。用以评估各种等化激发曲线的最佳化标准可以包含脉冲能量位准、峰值功率位准、和/或不同PRF下的激光脉冲宽度的一致性。等化激发曲线可以是自峰值激发位准下降至第一激发位准的下降曲线。等化激发曲线可以是线性下降曲线、大致呈指数型的下降曲线、参数式下降曲线、或任何其它曲线类型。
Description
技术领域
本揭示是有关于脉冲激光及脉冲激光处理系统。具体言之，本揭示是有关于利用最佳脉冲等化激发曲线激发激光以等化用变异式脉冲重复频率发出的激光脉冲。
背景技术
激光广泛使用于为数众多的研究及开发应用，包括光谱术(spectroscopy)、生技应用(biotechnology application)、以及诸如检验、处理、和微加工各种媒介及基板的工业运用。在许多此等应用中，其可以是以随机、虚拟随机(pseudo-random)、和/或非固定脉冲重复频率(pulse repetition frequency；简称“PRF”)的方式运用脉冲激光。
某些激光应用，诸如对硅晶圆的薄膜裁修处理，使用重迭激光脉冲在电阻薄膜上进行切割以改变其电阻值使之落入所期望的精确范围内。此处理可以使用不同PRF及不同重迭方式的激光脉冲，但该等激光脉冲的脉冲能量、脉冲宽度和脉冲峰值功率必须大致相等以得到高水平的裁修质量。
在典型的习知激光技术中，其可以利用光学激发源(optical pump source)激发激光介质(lasing medium)。然而，每一脉冲的激光能量可能随PRF的增加而减少(例如，由于脉冲间激发时间的减小)，同时激光脉冲宽度可能随PRF的增加而增加(例如，由于减小的激发时间在激光介质中造成较低的激光增益)。此等问题在Q型开关固态激光(Q-switched solid state lasers)中特别明显。
如上所述，许多激光应用使用不同PRF的激光脉冲。某些应用可能需要在不同的PRF中大致维持固定的脉冲能量和脉冲宽度。举例而言，在对硅晶的薄膜裁修中，不足的激光脉冲能量可以导致不完全的裁修，而过多的激光能量则可能对钝化结构(passivation structure)或集成电路基板造成无法接受的损害。
其曾采用各种方法确保激光运作维持于可接受的处理区间之中(例如，使峰值功率、脉冲能量、脉冲宽度和其它参数落入界定的脉冲参数值之内)。例如，编号4,337,442标题为“FIRST LASER PULSE AMPLITUDE MODULATION(第一激光脉冲振幅调变)”的美国专利，其受让予本申请案的受让人，描述一种通过控制激光激发电流的激光脉冲振幅控制方法。
授予Sun等人，编号6,947,454标题“LASER PULSE PICKINGEMPLOYING CONTROLLED AOM LOADING(运用受控AOM负载的激光脉冲拣选)”的美国专利，其受让予本申请案的受让人，描述一种使用诸如声光式调变器(acousto-optic modulator；AOM)的拣选装置封锁未使用的激光脉冲以提供随机区间的稳定激光脉冲的方法，然而保持激光操作在固定的PRF。
编号5,226,051标题为“LASER PUMP CONTROL FOR OUTPUT POWERSTABILIZATION(针对输出功率稳定度的激光激发控制)”的美国专利试图依据一种简易的“步进式”函数通过透过激发二极管提供电流以等化脉冲能量。在此方法中，其可以在第一激发时段内以第一固定激发位准并在第一激发时段后的第二激发时段内以较低的第二固定位准激发激光介质。此技术可以工作于PRF极低的激光应用中。然而，由于其仅使用两个固定的激发电流，故脉冲等化较不充分。就此点而言，此类型的系统无法实现所需的脉冲等化，亦不能在较高的PRF下运作。
图1例示习知激光激发系统的时序图，其包含触发信号101、由电流源供应的激发电流信号120、对应至激光介质中储存能量的图形140、以及代表激光输出脉冲162、164的图形160。
触发信号101被用来以激光谐振器(laser resonator)起始Q型开关以产生激光脉冲162、164。为了产生Q型开关激光脉冲162、164，其以通过电流源或功率源驱动的光学激发源激化激光介质。该等激发源可以包含，举例而言，激光二极管、二极管棒(diode bar)、或二极管棒的堆栈(diode bar stack)、或其它习知的激发源。激光介质可以包含固态激光介质，其包含，但不限于，掺铷钇铝石榴石(neodymium-doped yttrium aluminum garnet；Nd:YAG)、掺铷氟化钇锂(neodyminium-doped yttrium lithium fluoride；Nd:YLF)、掺铷钒酸钇(neodyminium-doped yttrium vandate；Nd:YVO4)、或者其它习用的固态激光介质。
触发信号101可以包含方波触发102、104以在102、104的信号前(后)缘起始Q型开关的动作并产生激光脉冲162、164。激发控制器可以响应触发信号102、104以使得受电流或功率驱动的激发源依据表示为该大致呈方波的激发电流信号120的步阶函数(step function)激发激光介质。
激发电流信号120可以以标准激发位准Is持续供应至激发源激发时段tr。该标准激发位准Is可以依据该激光应用所使用的PRF、脉冲能量位准和脉冲宽度而决定。在该激发时段tr之后，供应至激发源的激发电流120可以陡峭地切换至较低的维持激发位准IN。在某些实施方式之中，其可以选择该维持激发位准IN以将激光介质中的储存能量维持于预定或等化的位准(例如，等化的能量以产生等化的激光脉冲)。该标准激发位准Is与该维持激发位准IN二者均可以大致呈固定或均一数值。
图形140显示激光介质中特定量的储存能量是时间的函数，其对应于激发电流信号120和触发信号101。在激发时段tr期间，当其利用激发电流信号120以标准位准Is激发激光介质时，储存于激光介质中的能量随的增加。此增加显示于图形140中的区段142。在激发时段tr之后，激发电流信号120陡峭地降低至维持位准IN，其致使储存于激光介质中的能量稳定于能量位准144。当Q型开关依据触发信号101使激光脉冲发出之时，储存于激光介质中的能量被释放(如参考点146所示)。其可以选择能量位准144使得产生的激光脉冲符合特定激光处理应用所需而具有可以接受的功率及脉冲宽度。所使用的Q型开关可以是光电式Q型开关(electro-optic Q-switch)或声光式Q型开关(acousto-optic Q-switch)，此取决于该应用以及激光的设计。
图形160显示激光脉冲162、164的发射，其相对于触发101、激发电流信号120、以及代表储存能量的图形140。在分别对应至激光脉冲162和164的时间，Q型开关允许激光介质发射激光脉冲能量。如代表储存能量的图形140所显示，此使得储存于激光介质中的能量自激光介质释放而成为激光脉冲162、164。激光脉冲162、164发射之后，其可以通过以标准激发位准Is激发激光介质另一段激发时间tr，而后停留于维持激发位准IN，以再次激化激光介质。
对于在激发时段tr之后击发的激光脉冲而言，储存的能量可以处于等化的位准，因此该等激光脉冲得以被等化(例如，只要PRF低于1/tr即可)。若激光在小于激发时段tr的时间间隔下被击发，则激光介质在激光脉冲发出时可能尚未被充分激化至等化的能量位准。相较于预定的结果，此可能导致产生实质上具有较小脉冲能量和/或较长激光脉冲宽度的激光脉冲。习知激光技术无法在高PRF情况下发出等化激光脉冲，因为标准激发位准Is的大致固定特性造成用于激光介质累积所需储存能量的激发时段tr较长。维持激发位准IN亦是大致固定的数值。由于不同激光设计、使用材料和制造流程的各种不同的细节，预定PRF范围内的脉冲等化效果将无法满足。
发明内容
用于在激光系统中等化激光脉冲的峰值功率、能量和宽度的系统与方法，其依据实际测试过的激光效能控制激发电流或功率。在一种实施方式中，一种用于等化一连串激光脉冲的方法包含，当以复数个不同脉冲重复频率击发激光时，依据一个或多个观察到的激光脉冲参数决定脉冲等化激发曲线。该脉冲等化激发曲线用以在不同脉冲重复频率间大致等化该一个或多个激光脉冲参数。此方法亦包含产生一连串激光脉冲以处理个别的目标。对于该一连串激光脉冲中的每一激光脉冲，该方法包含将激发源自一第一激发位准驱动至一峰值激发位准、依据该脉冲等化激发曲线将该激发源自该峰值激发位准驱动至该第一激发位准、以及击发激光以产生特定激光脉冲，其具有大致等化的一个或多个激光脉冲参数。
在另一实施方式中，一种用以等化以周期性、随机式、或虚拟随机式脉冲重复频率发射的一连串激光脉冲的激光，其包含激光介质、激发该激光介质的激发源、以及通信连接至该激发源的激发控制器。该激发控制器用以在第一时段将激发源自第一激发位准驱动至峰值激发位准并在第二时段依据脉冲等化激发曲线将该激发源自该峰值激发位准驱动至该第一激发位准。该脉冲等化激发曲线用以在不同脉冲重复频率间大致等化一个或多个激光脉冲参数。
在另一实施方式中，一种用以等化一连串激光脉冲的方法包含决定激发源的峰值激发位准、决定用以在不同脉冲重复频率间大致等化一个或多个激光脉冲参数的脉冲等化激发曲线、以及在第一时段将该激发源自第一激发位准驱动至该峰值激发位准。此方法同时亦包含在第二时段依据所选定的脉冲等化激发曲线将该激发源自该峰值激发位准驱动至该第一激发位准。
本发明的更多特色及优点由以下较佳实施例的详细说明将趋于明显，该等实施例说明将配合所附的图式进行。
附图说明
图1图示习知激光激发系统的时序图，其包含触发信号、由电流源供应的双位准固定激发电流信号、对应至激光介质中储存能量的图形、以及代表激光输出脉冲的图形。
图2图示依据一实施例例示触发信号、激发电流信号、对应至激光介质中储存能量的图形、以及代表激光输出脉冲的图形的时序图。
图3是依据一实施例的激光系统300的功能方块图。
具体实施方式
揭示于本说明书的实施例通过依据实际测试过的激光效能控制激光激发电流以在激光系统中等化激光脉冲的峰值功率、脉冲能量和脉冲宽度。在依据一个实施例的激光激发期间，激光激发控制系统于起始时将激光介质自维持激发位准激发至峰值激发位准。之后，控制器使得该激发源依据脉冲等化激发曲线激发该激光介质。该脉冲等化激发曲线可以依据实际测试过的激光系统效能加以选定和/或改良。该脉冲等化激发曲线可以自峰值激发位准下降到维持激发位准。
特定激光系统的峰值激发位准的决定可以依据该激光系统的激发装置的运作额定范围(operation rating)、该激光系统的激光介质的性质、以及特定的激光运作为之(例如，脉冲功率、最大PRF、和/或激光处理期间所用的脉冲宽度)。此外，或是在其它实施例中，特定系统的峰值激发位准可以通过试验而决定和/或改良。激发电流上升率可以经由激发装置的额定数值决定。在一个实施例中，维持激发位准位于介于该峰值激发位准的大约20％至大约90％的范围间。
在起始时将激光介质自维持激发位准激发至峰值激发位准之后，控制程序依据脉冲等化激发曲线继续激发激光介质。此脉冲等化激发曲线可以依据激光参数的实际测试结果而决定和/或加以改良以达成最佳的脉冲等化效果。在一实施例中，该脉冲等化激发曲线通过在PRF的所期望上限启动激光、量测激光脉冲峰值功率与脉冲能量和/或脉冲宽度、以及判定该等量测参数落入所期望的数值范围内而决定。若一个或多个该等量测参数落在所期望数值范围之外，则该激光可能无法达到所期望的效能。接着，激光运作被改变至较低的PRF，且激发电流的下降曲线被自峰值数值调整，使得激光脉冲峰值功率、脉冲能量、和/或脉冲宽度大致与在上限PRF量测时相同。于复数个不同的PRF重复此流程，包含完整激发电流等化激发曲线所需的最低PRF。脉冲等化激发曲线可以是大致线性的下降曲线(例如，自峰值数值下降)、大致呈指数型的下降曲线(exponentially declining curve)、参数式下降曲线(parametricallydeclining curve)或任何其它曲线或函数，其取决于特定激光的设计。
图2例示依据实施例的触发信号201、激发电流信号220、对应至激光介质中储存能量的图形240、以及代表激光输出脉冲262、264的图形260的时序图。
触发201用以触发激光脉冲262、264的产生。触发201可以包含方波触发信号202、204，其依序起始激光Q型开关驱动电路以分别产生对应的激光脉冲262、264。如上所述，触发201的触发信号202、204可以以规律性的PRF或是以随机和/或虚拟随机性的PRF产生。
激发控制器依据图形220驱动激发源。激发控制器可以在起始时于第一时段tp期间驱使激发源将激光介质自第一个或维持激发位准IN激发至第二或峰值激发位准IP。如上所述，峰值激发位准IP及激发电流上升率可以是基于激发源的运作额定范围(例如，激发源可供应的最大电流或功率)、激光介质的性质(在不受损伤或过热的前提下，激光介质可以接受的电流或功率总量)、和/或特定的激光运作。此外，或是在其它实施例中，该峰值激发位准IP可以通过激光系统、激发装置、激光介质和激发控制器的实际试验以及其所期望的效能规格而决定和/或改良。
在达到峰值激发位准IP之后，控制器可以依据脉冲等化激发曲线224驱动该激发源。脉冲等化激发曲线224可以在第二时段te期间自峰值激发位准IP下降到维持激发位准IN。如图1所示，第二时段te可以大致大于或相当于该第一时段tp，其取决于激光运作PRF。
脉冲等化激发曲线224可以是从峰值激发位准IP下降到维持激发位准IN的下降曲线(相对于图1所示的激发电流信号120的陡峭、不连续的步阶函数)。以激发源利用脉冲等化激发曲线224激发激光介质可以降低对激发源和/或激光介质的损害风险。此外，由于脉冲等化激发曲线224依据经过试验的激光效能而决定，故其可以提供改良或较理想的激光脉冲等化。使用脉冲等化激发曲线224亦可以提供激光系统以充分的脉冲等化运作于较高PRF的能力。
脉冲等化激发曲线224可以是线性下降曲线、大致呈指数型的下降曲线(例如，如图2所绘)、参数式下降曲线、或其它曲线类型。其可以依据激发源、激光介质、以及特定激光运作的特性以选择不同的曲线类型。如上所述，脉冲等化激发曲线224的各种曲线形状和/或斜率参数可以依据激光系统的实际测试进行评估和/或比较。脉冲等化激发曲线224可以自峰值激发位准IP下降到维持激发位准IN。脉冲等化激发曲线224可以是，亦可以不是，在峰值激发位准IP和第一、维持位准IN间呈单调性地下降。虽然未显示于图2，在某些实施例之中，脉冲等化激发曲线224可以继续下降至维持激发位准IN以下。
如上所述，自维持激发位准IN上升至峰值激发位准IP发生于第一时段tp。脉冲等化激发曲线224则是在第二时段te自峰值激发位准IP下降到维持激发位准/N。取决于PRF，第二时段te可以大致大于第一时段tp。脉冲等化激发曲线224用以在介于大约0赫兹(Hz)至大约1/(第一时段tp)赫兹的范围间提供位于PRF的等化激光脉冲。在一示范性实施例中，脉冲等化激发曲线224提供位于高达大约20kHz(仟赫兹)的PRF的等化激光脉冲。然而，取决于特定的激光，习于技艺者应理解其亦可能使用其它PRF最大值。
虽然图2例示脉冲等化激发曲线224在抵达峰值激发位准IP之后立即下降，但脉冲等化激发曲线224亦可以在下降至维持激发位准IN之前停留在峰值激发位准IP一段时间。脉冲等化激发曲线224停留于峰值激发位准IP的时间长度可以取决于使用于特定激光运作所期望的激光脉冲能量位准。
图形240例示储存于激光系统的激光介质中总能量，其显示为时间的函数。当激发源于峰值激发位准IP供应电流或功率时，储存于激光介质中的能量可以增加。此增加显示于图形240中的区域242。之后，当其依据脉冲等化激发曲线224驱动激发源时，储存能量240可以抵达并维持于大致固定的位准244。储存能量位准244可以分别对应至具有位于可接受范围内的峰值功率、脉冲能量和/或脉冲宽度的激光脉冲262、264的产生。脉冲等化激发曲线224可以致使储存于激光介质中的能量维持于大致固定的脉冲能量位准244，直到其相对的激光脉冲262、264被发出为止。当激光脉冲262、264发出之时，储存于激光介质中的能量可以被迅速耗尽，如图形240的区域246所例示。
通过起始时驱动激发源以在峰值数值IP激发激光介质并于其后依据脉冲等化激发曲线224进行，使得激光介质的激化较习知系统更为迅速并更具一致性。就此而言，此激光系统可以在较传统系统高的PRF发射一致的脉冲262、264(例如，符合特定规格范围的脉冲)。举例而言，再次参见图1，激光介质达到可接受功率位准所需的时间是如图中所绘的激发时段tr。为了说明的目的，此激发时段tr再次显示于图2的图形240中。如图2所示，用以对激光物质进行充电的激化时段tc大体上小于习知系统中用以对激光物质进行充电的激发时段tr。就此而言，本揭示激发的具有等化激光脉冲输出的激光可以较习知技术使用简单、不连续方波激发的激光(如例示于图1的激发电流信号120所示)运作于更高的PRF。此外，由于脉冲等化激发曲线224依据激光系统的实际试验而决定，故此激光更适于在所期望的PRF范围内发出具有更高精确度的等化激光脉冲。
图3是依据一实施例的激光系统300的功能方块图。激光系统300包含激光介质310装于热交换器(heat exchanger)312中、Q型开关330以控制激光输出314、激发源(pump source)322以激发激光介质310(该激光的其它组件未显示于图中)、电流或功率源320以驱动激发源322、触发340、以及控制器350包含和/或连接内存352。
如上所述，激光介质310可以包含Nd:YAG条棒，或者是任何其它习知的激光介质。激光介质310可以安置和/或封装于热交换器312之中。热交换器312提供被动式和/或主动式冷却(例如，通过循环冷却液体或者通过热电式冷却)。
电流和/或功率源320驱动激发源322，其接着激化激光介质310。激发源322可以包含激光二极管、二极管棒、或二极管棒的堆栈、或任何其它习知的激发机制。
Q型开关330插入激光谐振器之中(未显示于图中)。Q型开关330可以包含，举例而言，声光式或光电式开关或任何其它习知的开关机制。Q型开关330控制激光脉冲自激光介质310经由输出端314的发射。
触发340可以产生一个或多个控制信号以使得激光系统300发出一个或多个激光脉冲。就此而言，触发340通信连接至Q型开关330以及激发控制器350。触发340产生一个或多个信号以使得Q型开关330控制激光脉冲自输出端314发出。此外，触发340通信连接至激发控制器350并使得控制器350激化激光介质310以准备发射激光脉冲。控制器350使电流/功率源320依据脉冲等化激发曲线将激发源322自第一个或维持激发位准驱动至第二或峰值激发位准，并将激发源322自该峰值激发位准驱动至该维持激发位准，直到脉冲发出为止。脉冲发出之后，该流程被再次重复(例如，控制器350使得电流/功率源320依据该脉冲等化激发曲线于该维持激发位准连续驱动激发源322至峰值激发位准)。
控制器350可以包含和/或通信连接至内存装置352。内存装置352可以预先储存与该特定激光相关的维持激发位准、峰值激发位准、以及脉冲等化激发曲线。控制器350可以配置成自内存装置352读取该等数值以于脉冲等化运作中使用。
前述实施例的细节可以在未脱离本发明的基本原理下进行许多修改，此对于习于技艺者将是显而易见的。本发明的范畴因此应由以下的权利要求范围所界定。
Claims (21)
1.一种用来等化由激光以周期性、随机式、或虚拟随机式脉冲重复频率所发出的一连串激光脉冲的方法，所述激光包含由激发源所激化的激光介质，该方法包含：
当以复数个不同脉冲重复频率击发该激光时，依据一个或多个观察到的激光脉冲参数决定脉冲等化激发曲线，其中所述脉冲等化激发曲线建构成用以在所述不同脉冲重复频率中大致等化所述一个或多个激光脉冲参数；以及
产生一连串激光脉冲，其为了在所述连串激光脉冲中的每一激光脉冲：
将所述激发源自第一激发位准驱动至峰值激发位准；
依据所述脉冲等化激发曲线将所述激发源自所述峰值激发位准驱动至所述第一激发位准；以及
击发所述激光以产生特定的激光脉冲，所述激光脉冲具有所述大致等化的一个或多个激光脉冲参数。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个激光脉冲参数选择自包含以下所组成的组中：激光脉冲峰值功率、激光脉冲能量和激光脉冲宽度。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述激发源于第一时段被自所述第一激发位准驱动至所述峰值激发位准，且其中所述激发源于第二时段依据所选定的所述脉冲等化激发曲线被自所述峰值激发位准驱动至所述第一激发位准，且其中所述第二时段大致大于所述第一时段。
4.根据权利要求3所述的方法，其中所述脉冲等化激发曲线在所有所述不同脉冲重复频率中是建构在介于大约0赫兹至大约1/(所述第一时段)赫兹的范围间大致等化所述一个或多个激光脉冲参数。
5.根据权利要求3所述的方法，其中所述脉冲等化激发曲线在下降至所述第一激发位准之前停留于所述峰值激发位准第三时间长度，所述第三时间长度基于所期望的激光脉冲能量位准。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述脉冲等化激发曲线是自所述峰值激发位准下降至所述第一激发位准的线性下降曲线。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述脉冲等化激发曲线是自所述峰值激发位准下降至所述第一激发位准的大致呈指数性的下降曲线。
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述脉冲等化激发曲线是自所述峰值激发位准下降至所述第一激发位准的参数式下降曲线。
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述峰值激发位准是基于所述激发源的运作额定范围。
10.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一激发位准位于介于所述峰值激发位准的大约20％至大约90％的范围间。
11.一种用来等化以周期性、随机式、或虚拟随机式脉冲重复频率发出的一连串激光脉冲的激光，所述系统包含：
激光介质；
激发源，以激发所述激光介质；以及
激发控制器，通信连接至所述激发源，
其中所述激发控制器用以在第一时段将所述激发源自第一激发位准驱动至峰值激发位准并在第二时段依据脉冲等化激发曲线将其自所述峰值激发位准驱动至所述第一激发位准，且其中所述脉冲等化激发曲线建构成用以在不同脉冲重复频率间大致等化一个或多个激光脉冲参数。
12.根据权利要求11所述的激光，其中所述第二时段大致大于所述第一时段。
13.根据权利要求11所述的激光，其中当以复数个不同脉冲重复频率驱动所述激光时，所述脉冲等化激发曲线依据一个或多个观察到的激光脉冲参数所预先决定，其中所述脉冲等化激发曲线用以在所述不同脉冲重复频率中大致等化所述一个或多个激光脉冲参数。
14.根据权利要求13所述的激光，其中所述一个或多个激光脉冲参数选择自包含以下所组成的组中：激光脉冲峰值功率、激光脉冲能量和激光脉冲宽度。
15.根据权利要求11所述的激光，其中所述脉冲等化激发曲线是线性下降曲线。
16.根据权利要求11所述的激光，其中所述脉冲等化激发曲线是大致呈指数型的下降曲线。
17.根据权利要求11所述的激光，其中所述脉冲等化激发曲线是参数式下降曲线。
18.根据权利要求11所述的激光，其中所述激发源选择自包含一个或多个激光二极管、二极管棒、以及二极管棒的堆栈的组。
19.根据权利要求11所述的激光，其中所述激光介质选择自包含以下所组成的组中：掺铷钇铝石榴石(neodymium-doped yttrium aluminum garnet；Nd:YAG)、掺铷氟化钇锂(neodyminium-doped yttrium lithium fluoride；Nd:YLF)、掺铷钒酸钇(neodyminium-doped yttrium vandate；Nd:YVO4)。
20.根据权利要求11所述的激光，其中所述激发源的所述峰值激发位准是基于所述激发源的运作额定范围。
21.一种用来等化由激光系统以周期性、随机式、或虚拟随机式脉冲重复频率所发出的一连串激光脉冲的方法，所述激光系统包含连接至激发源的激光介质，所述方法包含：
决定所述激发源的峰值激发位准；
决定脉冲等化激发曲线，其建构成用以在不同脉冲重复频率间大致等化一个或多个激光脉冲参数；
于第一时段将所述激发源自第一激发位准驱动至所述峰值激发位准；
依据于第二时段的所选定的所述脉冲等化激发曲线，将所述激发源自所述峰值激发位准驱动至所述第一激发位准。
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| Leonardo et al. | Fiber amplifier based UV laser source |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130313 Termination date: 20180320 |