CN101981508B - 平版印刷版的制备方法 - Google Patents

平版印刷版的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101981508B
CN101981508B CN2009801106123A CN200980110612A CN101981508B CN 101981508 B CN101981508 B CN 101981508B CN 2009801106123 A CN2009801106123 A CN 2009801106123A CN 200980110612 A CN200980110612 A CN 200980110612A CN 101981508 B CN101981508 B CN 101981508B
Authority
CN
China
Prior art keywords
precursor
fluid
cooling
temperature
edition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2009801106123A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101981508A (zh
Inventor
P·亨德里克斯
A·威廉森
M·范达姆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa NV
Original Assignee
Agfa Gevaert AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert AG filed Critical Agfa Gevaert AG
Publication of CN101981508A publication Critical patent/CN101981508A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101981508B publication Critical patent/CN101981508B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

制备平版印刷版的方法，该方法包括以下步骤：-提供了平版印刷版前体，该前体包括在亲水性载体上提供的光聚合涂层；-成图像曝光该前体；-预热该曝光的前体；-在胶液中显影该曝光的前体；其特征在于，在预热该前体后和在显影该前体前，进行该前体的加速冷却，并且该冷却基本上不除去该前体的涂层的部分。

Description

平版印刷版的制备方法
技术领域
本文涉及光聚合物印刷版的制备。 
发明背景 
在平版印刷中，所谓的印刷母版(printing master)例如印刷版安装在印刷机的滚筒上。该母版在其表层上载有平版印刷图像，并通过施加油墨和然后将油墨从该母版转移到接收材料如纸材上获得印制的复件。常规地，所谓的“湿”平版印刷墨以及水性润版液(aqueous fountain solution)(也叫做润湿液)供应于由亲油区域(或疏水的，即：接受油墨的，拒水性的)以及亲水区域(或疏油的，即：接受水的，拒油性的)组成的平版印刷图像。在所谓的“无水胶印(driographic)”印刷中，平版印刷的图像由油墨接受的与油墨阻粘的(ink-abhesive)(油墨排斥的)区域组成，并且在无水胶印中只提供油墨至母版。 
所说的”类似物”印刷版是通过应用“计算机直接出片(computer-to-film)”(CTF)方法获得的，其中不同的预印制步骤例如字体选择、扫描、颜色分离、掩蔽、叠印(trapping)、版面设计(layout)、拼版(imposition)已数字完成，并且每种颜色的选择通过使用图像集成机(image-setter)被转换成制版印刷胶片(graphic art film)。在加工后，该胶片可用做被称为版前体的成图像材料的曝光的掩膜(mask)，以及在加工后，获得了能够用作母版的印刷版。自从约1995年以来，所谓的“计算机直接出片”CTP法获得了很大效益。这个方法也称做“直接制版”法，避免了胶片的生成，因为数码文件通过版集成器被直接转换成印刷版前体。CTP的印刷版前体通常称为数字版。 
数字版粗分可分为三类：(i)银版(silver plate)，按照银盐扩散传送机理工作；(ii)光聚合物版，其包括经暴露于光硬化的光聚合组合物；(iii)热印版(thermal plate)，其成图像机理是通过加热或光致热转换引发的。 
能够使光聚合物版前体对于蓝、绿、或红光(即，波长在450-750nm之间)敏化，对于紫光(即，波长介于350～450nm)或红外光(即， 波长介于750～1500nm)敏化。激光已经变成用于曝光光聚合印刷物印刷版前体的占主导的光源。通常Ar激光(488nm)或FDYAG激光(532nm)可以用于曝光可见光敏感的光聚合光聚合物版前体。低成本蓝或紫光激光二极管(最初作为DVD数据存储开发)的宽范围可用性，使版集成器的生产能够在更短波长内操作。更特别的，使用InGaN材料已经认识到了在350～450nm发射的半导体激光。因而过去的几年间开发了在350～450nm区域中具有它们的最大敏感度的光聚合物版。紫光光聚合物技术的优势是在黄色安全等(safelight)条件下激光源的可靠性和处理非显影光聚合物版前体的可能性。使用红外激光在近几年变得更重要。例如Nd-YAG激光在约1060nm发射和红外激光二极管在约830nm发射。对于这些激光源，已经开发了红外敏感光聚合物版前体。红外光聚合物技术的主要优势是在目光条件下处理非显影光聚合物版前体的可能性。 
在光聚合物版前体曝光后，通常进行更复杂的加工。预热步骤通常进行以增强成图像区域(imaged areas)中的聚合和/或交联。在预洗步骤中，通常使用淡水(plain water)，光聚合物版前体的保护层被除去。预洗步骤后，在显影步骤后非图像部分被除去，通常使用具有PH＞10的显影剂。显影步骤后是漂洗步骤，通常使用淡水，然后进行涂胶步骤(gumming step)。涂胶保护印刷版在显影和印刷的过程中防止沾污(例如通过氧化、指纹印、脂肪、油或灰尘)，或防止损伤(例如，在版的处理过程中)。光聚合物版的该加工通常是在自动处理器中进行，该处理器具有预热部分、预洗部分、显影部分、漂洗部分、涂胶部分和干燥部分。 
为了避免光聚合物版前体的复杂、耗时和环境不友好的工艺过程，描述几个备选方案。 
在美国专利US 6 027 857，US 6 171 735，US 6 420 089，US 6 071 675，US 6 245 481，US 6 387 595，US 6 482 571，US 6 576 401和US 6 548 222中揭示了平板印刷版的制备方法，其中，在成图像曝光后，光聚合物版前体被安装到印刷机上并通过施加油墨和润版液以从载体去除为曝光的区域来联机(on-press)加工。同样，US2003/16577和US2004/13968描述了方法，其中包括光聚合层的版前体能够使用润版液和油墨或使用非碱性水性显影剂联机加工。 
在WO2005/111727中公开了方法，其中通过施加胶液至该版来显影光聚合物版前体。该胶液，例如传统加工方法中的涂胶步骤中使用的胶液，被用与以下两者：显影，即除去该涂料的非成图像部分，和给曝光的光聚合物版涂胶。因而，根据这种方法，在加工过程中不再需要预洗步骤、漂洗步骤和额外的涂胶步骤。这种方法提供了光聚合物版前体的简化加工和此外，由于一方面不再使用高碱性显影剂，另一方面总共使用的加工液体的显著减少(没有预洗、漂洗和胶分离)，提供了更加环境友好的加工。WO2007/057334还公开了制备光聚合物版的方法，其中显影在胶液中进行。然而，这个方法中，在胶液显影前进行预洗。都使用胶液显影光聚合物版其他方法，在例如WO2007/057335 andWO2007/057349.WO2007/057348和WO2007/057336中公开，公开了方法，其中使用胶液显影光聚合物版，和其中曝光后和显影前进行的预热步骤。在WO2007/057336中，预热和显影步骤是在单一设备中结合。上述提到的方法中用胶液显影通常在室温下进行。 
观察到制备光聚合物版的方法的问题，其中该问题在于，在刚刚使用胶液进行预热步骤显影之后，尤其是当预热和显影在同一设备中在胶液中相结合时，所得到的印刷版的平版印刷性能的不一致性(inconsistency)。然而，不改变曝光条件，观察到，当生产出大量的光聚合物版时，单个的版会具有不同的性质，例如不同的点绘制(dotrendering)，尤其是在高光下和在不同的耐印力(press life)下。 
已经发现由于胶液的温度的波动引起了这种不一致性。当限制预热和显影之间的时间时，如在实际条件下，预热的印刷版经进入胶液升高了该胶液的温度。当短时间内加工几个印刷版时，这种胶液温度上的升高变得很重要，例如大于10℃和甚至达到20℃。在其中没有生产出印刷版的时间内，胶液温度会再次下降。这种温度的波动会导致所得到的印刷版的不一致的平版印刷性能，其在实际生产中是不能接受的。 
在光聚合物版前体的传统加工中，由于预热的印刷版在进入显影部分前首先进行预洗，不会观察到这个问题。 
典型地常规处理器具有一些装置，这些装置存在于显影部分中，以控制显影剂的温度，即，加热元件来升高和冷却装置以降低该显影剂的温度。但是，当该光聚合物版前体在预热后立即进入显影剂，即没有进行预洗时，这些常规的装置并不足以控制该显影剂的温度。由于在该印 刷版前体的预热和显影之间缺乏预洗，为常规处理器提供在该显影部分中的更多有效的装置以应付如上所述的温度上的提高，这会导致此常规处理器在成本价格上的显著增加。 
发明概述 
本发明的目的是提供制备光聚合物印刷版的方法，其中，在预热步骤后，该印刷版前体用胶液显影，用该胶液得到了具有一致的平版印刷性能的印刷版。 
本目的通过如下方法实现，其中在预热步骤和显影步骤之间实施了印刷版前体的加速冷却： 
1.制备平版印刷版的方法，该方法包括以下步骤： 
-提供了平版印刷版前体，该前体包括在亲水性载体上提供的光聚合涂层； 
-成图像曝光该前体； 
-预热该曝光的前体； 
-在胶液中显影该曝光的前体； 
其特征在于，在预热该前体后和在显影该前体前，进行该前体的加速冷却，并且该冷却基本上不除去该前体的涂层的部分。 
2.根据第1项所述的方法，其中冷却是通过在该版上施加流体进行的。 
3.根据第2项所述的方法，其中该流体的温度低于环境温度。 
4.根据第2或3项所述的方法，其中通过在该版的顶面上或在该版的背面上或是在二者上的流体流进行冷却。 
5.根据第2-4项中任意一项的方法，其中该流体是空气。 
6.根据第2-4项中任意一项的方法，其中该流体是水、有机溶剂、液氮或干冰蒸汽。 
7.根据第1项的方法，其中通过在该版上施加冷的固体来进行冷却。 
8.根据第1项的方法，其中通过接触冷却进行冷却。 
9.根据前述项中任意一项的方法，其中该胶液的温度变化不大于10℃。 
10.根据前述项中任意一项的方法，其中该预热在60℃至150℃温度下进行。 
11.根据前述项中任意一项的方法，其中该前体是以具有350nm到 450nm的波长的激光进行成图像曝光。 
12.根据前述项中任意一项的方法，其中该前体是以具有750nm到1500nm的波长的激光进行成图像曝光。 
附图说明
图1是自动处理器的实施方案的示意图，该处理器适用于根据本发明的制备印刷版的方法。 
发明详述 
本发明提供了制备平版印刷版的方法，包括以下步骤： 
-提供了平版印刷版前体，该前体包括在亲水性载体上提供的光聚合涂层； 
-成图像曝光该前体； 
-预热该曝光的前体； 
-在胶液中显影该曝光的前体； 
其特征在于，在预热该前体后和显影该前体前，进行该前体的加速冷却，并且该冷却基本上不除去该前体的涂层的部分。 
预热 
在曝光后和光聚合印刷版前体的加工前提供预热步骤是本领域众所周知的。预热处理加速了前体的在成图像部分的聚合和/或交联，由此增加了耐久性和改善了成图像的部分的硬度的均匀性。这导致了增长的运转周期(runlength)，即能够用单个印刷版制备的高品质印制件的数量。在预热过程中，该版通常保持在版表面温度下，该版表面温度在该 版的背面测量，在70℃到150℃保持1秒到5分钟的时间，优选在80℃到140℃保持5秒到1分钟，更优选在90℃到130℃保持10秒到30秒。该版的背面是该载体的光聚合物涂层施加于其上的面相对的载体的那一面。 
在曝光和预热之间的时间优选小于10分钟，更优选小于5分钟，最优选小于1分钟。在曝光后预热开始前没有特别的时间限制。通常在曝光后预热要尽可能快的进行，即在需要将该版从曝光单元传送到预热部分的时间之内。在预热部分可以使用的加热装置的例子包括常规对流烘箱、IR灯、UV灯、IR激光、IR瓦(IR tiles)、微波设备或热辊如金属辊。 
上面提到的温度值是在版的背面测量的。在预热处理期间，尤其是使用IR瓦时，涂层表面温度能达到显著更高值。 
为最小化显影溶液在温度上的升高，由于在显影前立即预热，在本发明的方法中可以使用适度预热。这种适度预热可以在该版表面温度下进行，该版表面温度介于30℃到90℃，更优选40℃到80℃，最优选50℃到70℃。为了使能够利用适度预热处理并且实现所得的印刷版的足够的耐印力，可以使用特别设计的印刷版前体，例如包括WO2007/057333中公开的粘合剂促进剂或包括在EP-A 1 757981中公开的具有低Tg的粘结剂。 
加速冷却 
在本发明中涉及的加速冷却是指，离开预热部分的印刷版前体在比环境条件下更高的速度冷却。这意味着使用特殊装置以获得该加速冷却。冷却基本上不去除该前体的涂层的部分。优选至多是25％，更优选至多10％，最优选至多5％，特别优选没有涂层在加速冷却过程中被除去。 
获得加速冷却的优选方法是使用空气流。该空气流可以在版前体的顶面(top side)上或背面(back side)上或两者上导入。空气可以具有环境温度或可以被冷却，即具有比环境温度低的温度。可以使用在版前体上产生空气流的各种装置。利用空气刀(air knife)、一个或多个空气扇(air fan)或一个或多个空气喷嘴可以使空气流导向印刷版上。当用环境空气进行冷却时，其源位于处理器外壳(housing)内，随着越来越多的版被 连续加工后，冷却会变得更低效，因为处理器外壳中的环境空气会升高温度。这就因此优选使用来自处理器外壳外部的空气进行加速冷却。 
另一个获得加速冷却的方法是接触冷却，例如通过冷却的传动辊或通过使前体与冷却的滚筒(platen)接触。这种接触冷却可以在自动处理器中在预热部和显影部分之间并入。冷却的传动辊或滚筒可以接触该版前体的顶面或背面或者两者。该辊可以通过流体循环通过该辊的内部或通过将它们的外侧与流体(优选循环流体)接触进行冷却。该流体可以具有环境温度或更低的温度。 
其他获得加速冷却方法的是施加，例如喷雾、喷射或涂覆，流体于版前体上。优选印刷版前体上的涂层基本上不溶于所使用的冷却流体中。而且，该流体可以施加在版前体的顶面上或背面上或两者。施加的流体可以在环境温度或可以低于环境温度。该流体可以是低沸点溶剂。低温和/或该低沸点溶剂的蒸发可以引发加速冷却。该施加的液体可以对所获得的印刷版的平版印刷性质有负面影响。该流体优选是在版施加和再使用后进行收集。 
液氮可以在加速冷却中使用。其可以作为液体施加在该版前体上，经此它立即蒸发或作为蒸汽。 
其它获得加速冷却的方法是施加具有低于环境温度的温度的固体于该版前体上，该固体例如干冰，即固体CO2。当使用干冰时，经将其施加于该版前体上它会升华。干冰蒸汽也可以用于冷却该版前体。 
上述获得加速冷却的不同方法可以结合起来。根据在给定时间间隔 
内生产的版的数量，不同冷却方法或不同冷却方法的结合是必要的。 
优选加速冷却导致版前体恰在进入显影部分之前的温度，该温度对应于用于显影该版前体的胶液的温度。优选，该加速冷去导致该前体恰在进入显影部分之前的温度不高于50℃，更优选不高于40℃，最优选不高于30℃。 
显影 
显影是使用胶液进行的。在显影过程中，任选的罩面层和图像记录层的非成图像区域被除去。显影是通过在自动处理器中使用喷雾或浸渍显影进行的。喷雾显影包括在版前体上喷雾显影溶液，例如使用一个或多个喷雾棒。浸渍显影包括将该版浸入显影溶液中。该显影可以是分批 显影(batch development)，例如用一批显影剂进行显影直到显影剂不再充足时。此时新的批量的显影剂加入到该处理器中。显影也可以伴随显影剂的再生，由此加入给定量的新鲜的显影剂到显影溶液中，该量与已显影的版的数量相关。在再生过程中加入的新鲜显影剂的组成和/或浓度与初始的显影剂可以相同或不同。 
利用胶液的显影步骤可以与机械摩擦相结合，优选利用一个或多个旋转刷，以更好地去除图像记录层的非成图像部分。优选的旋转刷如在US2007/0184387(段落[0255]到[0257]和EP-A 1 755002[0025]到[0034])中描述。好的结果还可以使用“平”刷获得。这些“平”刷可以具有5.0到10厘米的宽度，并且可以装配有聚丙烯或尼龙刚毛。该刚毛的长度可以是5到15毫米。通常，这些“平”刷通过以垂直于版传送通过该处理器的方向的方向往复运动来摩擦该版前体。摩擦可实现达到120次运动/每分钟。 
胶液本质上是包含能够保护印刷版的平版印刷图像不受沾污的表面保护化合物的水性溶液。这种化合物的合适例子是膜成型(film-forming)亲水性聚合物或表面活性剂。利用胶液显影后保留在该版上的层优选包含大于0.01g/m2的表面保护化合物。 
胶液可以作为即用型显影剂或作为浓缩溶液提供，它被最终使用者根据供应商的说明按以下进行稀释：通常1份的胶用1到10份的水稀释。 
胶液的优选组成在WO2005/111727(第6页第5行到第11页第35行)和EP-A 1 621339(段落[0014]到[0061])中叙述。 
优选的表面活性剂是例如基于环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共聚物，如可商购 
Figure BPA00001230544600071
表面活性剂，例如Pluronic 9400。其他优选的表面活性剂是三苯乙烯基苯酚乙氧基化物(tristyrylphenol ethoxylates)，如 
Figure BPA00001230544600072
表面活性剂，例如Emulsogen TS160或TS200。最优选的是这些表面活性剂两者的组合。 
除表面保护化合物外，该胶液优选还包含通过酸的反应形成的盐，它包含磷原子，具有在未出版的EP-A 07 108228.3(2007-05-15提交的)中公开的二或三烷醇胺。 
显影通常在显影溶液中在20℃到50℃之间、优选在20℃到40℃之间、最优选在20℃到30℃之间的温度下进行。依照本发明的方法，该 显影溶液的温度改变优选不超过15℃，更优选不超过10℃，最优选不超过5℃。 
当在制备印刷版和安装该印刷版到印刷机上以开始印刷之间的时间是足够短使得不会发生严重的沾污时，该显影可以使用任何优选具有3-9的PH的水性溶液甚至淡水进行。也可以使用通常使用的印刷车间化学品，如润版液或水性版清洁剂和/或调理剂，任选地在合适的稀释后。 
加工设备 
本发明的方法包括预热步骤和显影步骤，其特征在于在预热之后和在显影该前体之前，进行该前体的加速冷却。优选这些步骤在专用的自动处理器中集成。该专用处理器主要地包括预热部分、加速冷却部分、显影部分和干燥部分，与常规的光聚合物版的处理器相比，是较简单的和需要较少占地面积。 
在图1中，显示了适用于根据本发明的制备印刷版的方法的自动处理器的具体实施方案的示意图。 
该自动处理器具有四个部分：部分A是预热部分，部分B是加速冷却部分，部分C是显影部分，和部分D是干燥部分。曝光的印刷版前体是在不同部分之间自动传送的，其是从预热部分开始的。根据其他具体实施方案，也可以在自动处理器中引入曝光单元，即曝光部分在预热部分之前。 
在显影部分C中，该前体使用胶液E在浸渍罐中显影。该胶液通常在室温下保存，但通过适当的加热元件也可以实现较高温度如30℃或40℃。 
在显影部分C和预热部分A之间提供加速冷部分B，以使在进入显影部分C之前该预热的版前体的加速冷却预热成为可能。在该冷却部分中，实施上面叙述的冷却方法。 
在显影部分C后，提供干燥部分D来确保在离开该自动处理器后该印刷版是基本干燥的。目前用于常规加工装置中的任何常规的干燥方法可以用于干燥部分中。 
如上所述，特别适用的自动处理器具有相对于通常的光聚合物前体的优点，即较简单和需要较少占地。但是，由于市场上有很多可用的常规处理器，在适当的调整后，这些处理器也可以用于实施本发明的方法。 通常的处理器包括预热部分、预洗部分、显影部分、漂洗和胶液部分及干燥部分。为了使该处理器适用于本发明，可以停用预洗部分和/或漂洗及胶部分。在预热部分和显影部分之间进行加速冷却。 
据观察，当常规的处理器适于实施本发明的方法时，传动辊与该版的顶面(即，载有光聚合物涂层的面)接触，干燥运转(running dry)并在显影部分后定位(例如在显影部分和非有效漂洗(non-active rinse)和胶部分之间)，会对所获得的印刷版的质量有负面影响。为了避免这种问题，这些辊可以通过施加水或优选胶液、最优选与显影剂所用相同的胶液到那些辊来润湿。该胶液可以采用喷雾棒施加在该辊上，并在浸渍罐/盘中收集和再使用。这些胶液可以直接或者通过附加接触辊施加在辊上。这种接触辊可以提供该胶液到多于1个的传送辊上。 
光聚合物印刷版前体 
在本发明中可以使用能够以胶液显影的任何光聚合物印刷版前体。优选该光聚合物印刷版前体对紫光(violet light)(即具有350nm到450nm范围波长的光)或红外光(即具有750nm到1500nm波长范围的光)敏化。 
典型的光聚合物印刷版前体通常包括在亲水性载体上提供的光聚合涂层。 
该载体优选是本领域已知的粒状的(grained)且阳极化的铝载体。适当的载体例如EP-A 1842203([0066]-[0075]段)所述。粒状的和阳极化的铝载体可以进行所谓的后阳极(post-anodic)处理，例如用聚乙烯基膦酸或其衍生物处理，用聚丙烯酸处理，用氟锆酸钾或磷酸钾处理，用碱金属硅酸盐处理，或它们的组合。除铝载体外，也可以使用具有一种或多种亲水性层的塑料载体，例如聚酯载体。 
在亲水性载体上提供的涂层包含光聚合物层，也称为图像记录层。该涂层可进一步包括罩面层和/或内涂层(undercoat)，后者也称为中间层或夹层(interlayer)。 
在光聚合图像记录层上提供的罩面层，也称为顶层(toplayer)或保护层，用作隔氧层(oxygen barrier layer)。可用于顶层的优选的粘结剂在WO2005/029190(第36页第3行到第39页第25行)、US2007/0020563([0158]段)、EP 1 288720([0148]和[0149]段)中公开。用 于罩面层的最优选的粘结剂是聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮。 
光聚合层或图像记录层典型地包括至少一种可聚合单体或低聚物、至少一种聚合物粘结剂、光引发剂和敏化剂。光引发剂-敏化剂体系与曝光波长相关选择。该光聚合层可进一步包含造影染料或颜料(contrast dye or pigment)、阻聚剂、链转移剂、与铝表面相互作用的胶粘促进剂和其他可以进一步优化印刷版前体的性能的成分。 
该涂层还可以包含提供在光聚合图像记录层和载体之间的一个或多个中间层。该中间层可以进一步优化在图像记录层和载体之间的相互作用，即能使非成图像部分的完全去除和图像记录层的成图像部分的充分粘合成为可能。 
优选的紫光敏感印刷版前体在WO2005/111727，WO2005/029187，WO2007/113083，WO2007/057333，WO2007/057442和未出版的EP-As 07108 955，07 108 957和07 108 953(都在25-05-2007提交)公开。其他的可用于本发明的紫光敏感印刷版前体是在EP-A 1793275，US2007/0184387，EP-A 1 882585中公开的那些。 
优选的IR敏感印刷版前体在WO2005/111727，EP-As 1 788 448和1788 449和未出版的EP-A 07 120845(2007-11-16提交)中公开。其他的可在本发明中使用的IR敏感印刷版前体在EP-As 1 602 982，1 621 339，1630 618 and 1 695 822中公开。 
实施例
材料 
在实施例中使用的所有材料除非特别说明外从标准资源如Aldrich Chemical Co.(比利时)和Acros(比利时)可购得的。 
·PVA-1：部分水解的聚乙烯醇；皂化度为88mol％；20℃下4wt％浓度的水性溶液的粘度是4mPa·s；可作为MOWIOL 4/88得自Kururay。 
·PVA-2：完全水解的聚乙烯醇；皂化度是98mol％；20℃下4wt％浓度的水性溶液的粘度是4mPa·s；可作为MOWIOL 4/98购自Kururay。 
·Acticide：Acticide LA 1026杀虫剂(biocide)，购自THOR。 
·Lutensol A8：90wt％的表面活性剂溶液，从BASF购买。 
·Advantage S：乙烯基吡咯烷酮-乙烯基己内酰胺-二甲基-氨基乙基甲基丙烯酸酯共聚物，从ISP购买。 
·FST426R：包含1mol的2，2，4-三甲基-六亚甲基二异氰酸酯和2mol的甲基丙烯酸羟乙酯的88.2wt％的反应产物的溶液(25℃下运动粘度3.30mm2/s)。 
·Mono Z1620：MEK中的溶液，包含1mol六亚甲基二异氰酸酯、1mol的2-甲基丙烯酸羟乙酯、和0.5mol的2-(2-羟乙基)哌啶的30.1wt％的反应产物(25℃下运动粘度1.7mm2/s)。 
·Heliogene蓝：Dowanol PM/MEK/γ-丁内酯中的分散体，包含5wt％的Heliogen blau D7490颜料和2.5wt％的KL7177和2.5wt％的KOMA30NEU作为分散剂。Heliogen blau D7490从BASF购买。 
·KL7177，甲基丙烯酸和甲基丙烯酸甲酯(metylmethacrylate)共聚物，从Clariant购买。 
·Hostanox 03：酚类防老剂，从CLARIANT购买。 
·HABI：2-(2-氯苯基)-4，5-联苯双咪唑(2-(2-chlorophenyl)-4，5-diphenyl bisimidazole)，从SUNITOMO购买。 
·MBT：2-巯基苯并噻唑(2-mercaptobenzthiazole)。 
·Tegoglide 410：聚二甲基硅氧烷(polydimethylsilixane)-聚醚表面活性剂，从GOLDSCHMIDT购买。 
·敏化剂：紫光敏化剂混合物，其由下列化合物组成： 
Figure BPA00001230544600111
Figure BPA00001230544600121
·Texapon 842：辛基硫酸钠，从COGNIS购买。 
·Emulsogen TS160：具有约15个环氧乙烷(ethyleneoxyde)单元的2，4，6-三-(1-苯乙基)-聚乙二醇醚，从CLARIANT购买。 
·Dowanol PM：甲氧基丙醇，从DOW公司购买。 
·Dowanol PPH：苯氧基异丙醇，从DOW公司购买。 
·MEK：甲乙酮。 
·三乙醇胺：从BASF公司购买。 
·糊精：从ROQUETTE FRERES公司购买。 
·H3PO4：从MERCK公司购买。 
·KOMA3O NEU，由64mol％的乙烯基丁缩醛，26mol％乙烯醇，2mol％醋酸乙烯酯，8mol％的乙烯醇和偏苯三酸酐的酯化产物组成的共聚物。 
载体 
0.3mm厚的铝箔在65℃下用包含26g/l的NaOH的水溶液喷雾2秒钟和用软化水漂洗1.5秒钟来脱脂。然后，在37℃温度下和在约100A/dm2的电流密度下，使用交流电在包含15g/l的HCL、15g/L的SO4 2-离子和5g/l的Al3+离子的水溶液中在10秒内将该铝箔电化学粒化(electrochemically grained)。然后该铝箔通过在36℃下用包含5.5g/l的NaOH的水溶液蚀刻2秒并用软化水漂洗2秒来剥黑膜(desmutted)。随后，在50℃温度和17A/dm2电流密度下，该铝箔在15秒钟内在包含145g/l硫酸的水溶液中进行阳极氧化，然后用软化水冲洗11秒和用含2.2g/l的PVPA的溶液在70℃下后处理3秒钟(通过喷雾)，用软化水漂洗1秒和在120℃下干燥5秒。 
如此获得的载体表征为0.35～0.4μm(用干涉仪NT1100测量)的表面粗糙度Ra并且具有3.0g/m2的阳极重量。 
光聚合层 
该光聚合层是通过将在表1中所列的成分在DOWANOL PM/MEK(62/38)混合物中的溶液涂覆在上述载体上制备的。该湿涂层厚度是20μm。在干燥后，得到1.2g/m2的干燥涂层重量。在涂覆该成分后的干重量在表1示出。 
表1 
  成分   g/m2
  Tegoglide 410   0.0012
  敏化剂   0.0516
  FST426R   0.1369
  Mono Z1620   0.4931
  Heliogene蓝   0.0960*
  Hostanox 03   0.0006
  HABI   0.0780
  MBT   0.0036
  KOMA30NEU   0.3390
*染料+分散剂 
制备罩面层 
罩面层，也称为顶层，是由包含在表2中所列的成分的水性溶液施加在上述的光聚合层上。该湿涂层厚度是45μm。在110℃下干燥2分钟后，得到1.16g/m2的干涂覆重量。在涂覆后，该罩面层的成分的干重量在表2中所示。 
表2 
  成分   g/m2
  PVA-1   0.7106
  PVA-2   0.4284
  Acticide   0.0020
  Advantage S   0.0116
[0110] 
  Lutensol A8   0.0089
印刷版前体的加工 
上述的印刷版前体在自动处理器装置中被显影，该处理器装置包括预热部分，任选的冷却部分，显影部分和干燥部分。为模拟实际条件，每2秒加工印刷版前体。这些条件模拟例如在报纸商业中使用的实际条件。该显影部分的浸渍罐填充具有在表3中所列组成的显影溶液。 
表3 
  成分   g/l
  Texapon 842   9.00
  Emulsogen TS 160   17.50
  H3PO4   2.60
  Dowanol PPH   10.00
  三乙醇胺   7.40
  糊精   25.00
  水   928.50
  PH   6.5-7.5
在实验的开始，该显影剂的温度是室温。 
在表4中，对于带有有效的(active)加速冷却部分和非有效(inactive)加速冷却部分的设备两者，该显影剂的温度与所显影的印刷版前体的数量相关地给出。在给预热部分和该显影部分之间，通过使用空气刀从该处理器外壳的外部吹动具有室温的空气通过该印刷版前体，实现在该冷却部分中的冷却。所有前体的尺寸是745mm×605mm和厚度0.30mm(该前体在605mm方向上加工)。所用的显影剂的量是40升，加工速度是1.2m/min。预热的温度是110℃，它是使用购自Thermographic Measurements Ltd的条在该前体的背面测量的。 
在该预热部分的出口和该显影部分的入口之间的停留时间是12秒。 
表4 
Figure BPA00001230544600151
从表4清楚地表明经过在短时间间隔内大量的前体的加工，该显影溶液的温度提高。 
从表4也清楚地表明，当提供有效冷却部分时，该显影溶液的温度较低程度地提高。由于平版印刷的性能取决于显影溶液的温度，较低程度的温度升高导致所获得的印刷版的平版印刷性能更加一致。 

Claims (19)

1.制备平版印刷版的方法，该方法包括以下步骤：
-提供了平版印刷版前体，该前体包括在亲水性载体上提供的包含光聚合物层的涂层；
-成图像曝光该前体；
-预热该曝光的前体；
-在胶液中显影该曝光的前体；
其特征在于，在预热该前体后和在显影该前体前，进行该前体的加速冷却，并且该冷却基本上不除去该前体的涂层的部分。
2.根据权利要求1所述的方法，其中冷却是通过在该版上施加流体进行的。
3.根据权利要求2所述的方法，其中该流体的温度低于环境温度。
4.根据权利要求2的方法，其中通过在该版的顶面上或在该版的背面上或是在二者上的流体流进行冷却。
5.根据权利要求3的方法，其中通过在该版的顶面上或在该版的背面上或是在二者上的流体流进行冷却。
6.根据权利要求2的方法，其中该流体是空气。
7.根据权利要求3的方法，其中该流体是空气。
8.根据权利要求4的方法，其中该流体是空气。
9.根据权利要求5的方法，其中该流体是空气。
10.根据权利要求2的方法，其中该流体是水、有机溶剂、液氮或干冰蒸汽。
11.根据权利要求3的方法，其中该流体是水、有机溶剂、液氮或干冰蒸汽。
12.根据权利要求4的方法，其中该流体是水、有机溶剂、液氮或干冰蒸汽。
13.根据权利要求5的方法，其中该流体是水、有机溶剂、液氮或干冰蒸汽。
14.根据权利要求1的方法，其中通过在该版上施加冷的固体来进行冷却。
15.根据权利要求1的方法，其中通过接触冷却进行冷却。
16.根据权利要求1的方法，其中该胶液的温度变化不大于10℃。
17.根据权利要求1的方法，其中该预热在60℃至150℃温度下进行。
18.根据权利要求1的方法，其中该前体是以具有350nm到450nm的波长的激光进行成图像曝光。
19.根据权利要求1的方法，其中该前体是以具有750nm到1500nm的波长的激光进行成图像曝光。
CN2009801106123A 2008-03-26 2009-03-23 平版印刷版的制备方法 Expired - Fee Related CN101981508B (zh)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US3944208P 2008-03-26 2008-03-26
US61/039,442 2008-03-26
EP08102922.5 2008-03-26
EP08102922A EP2105799B1 (en) 2008-03-26 2008-03-26 A method for preparing lithographic printing plates
US61/039442 2008-03-26
PCT/EP2009/053355 WO2009118281A1 (en) 2008-03-26 2009-03-23 A method for preparing lithographic printing plates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101981508A CN101981508A (zh) 2011-02-23
CN101981508B true CN101981508B (zh) 2013-07-17

Family

ID=39488349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2009801106123A Expired - Fee Related CN101981508B (zh) 2008-03-26 2009-03-23 平版印刷版的制备方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20110059401A1 (zh)
EP (1) EP2105799B1 (zh)
CN (1) CN101981508B (zh)
AT (1) ATE546760T1 (zh)
BR (1) BRPI0908914A2 (zh)
ES (1) ES2378413T3 (zh)
PL (1) PL2105799T3 (zh)
WO (1) WO2009118281A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2304505B1 (en) 2008-07-16 2012-09-19 Agfa Graphics N.V. A method for preparing lithographic printing plate precursors
WO2011118457A1 (ja) 2010-03-26 2011-09-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製造方法
PL2755088T3 (pl) * 2013-01-11 2016-12-30 Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6451510B1 (en) * 2001-02-21 2002-09-17 International Business Machines Corporation Developer/rinse formulation to prevent image collapse in resist
CN1407410A (zh) * 2001-08-28 2003-04-02 东京威力科创股份有限公司 显影处理方法和显影液涂布装置

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5925497A (en) 1995-04-27 1999-07-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
US6071675A (en) 1999-06-05 2000-06-06 Teng; Gary Ganghui On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles
US6245481B1 (en) 1999-10-12 2001-06-12 Gary Ganghui Teng On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer
US6482571B1 (en) 2000-09-06 2002-11-19 Gary Ganghui Teng On-press development of thermosensitive lithographic plates
US6548222B2 (en) 2000-09-06 2003-04-15 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic printing plates
US6576401B2 (en) 2001-09-14 2003-06-10 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator
US6387595B1 (en) 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
US6723493B2 (en) * 2001-06-04 2004-04-20 Gary Ganghui Teng Negative lithographic printing plate comprising a specific compound in the photosensitive layer
EP1288720B1 (en) 2001-08-29 2012-02-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of printing plate
US6902865B2 (en) 2002-07-22 2005-06-07 Gary Ganghui Teng Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates
US20060234161A1 (en) * 2002-10-04 2006-10-19 Eric Verschueren Method of making a lithographic printing plate precursor
CN1839354B (zh) * 2003-07-17 2010-09-29 柯达彩色绘图有限责任公司 处理成像材料的设备及方法
WO2005029187A1 (en) 2003-09-22 2005-03-31 Agfa-Gevaert Photopolymerizable composition.
EP1668418A1 (en) 2003-09-22 2006-06-14 Agfa-Gevaert Photopolymer printing plate precursor
WO2005111727A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Agfa-Gevaert Method of making a photopolymer printing plate
EP1602982B1 (en) 2004-05-31 2013-12-18 FUJIFILM Corporation Planographic printing method
DE602005009617D1 (de) 2004-07-29 2008-10-23 Fujifilm Corp Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten
ATE389900T1 (de) 2004-08-24 2008-04-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
EP1696275B1 (en) * 2005-02-23 2014-04-02 FUJIFILM Corporation Method for replenishing development replenisher in automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plate precursor and automatic photosensitive lithographic printing plate precursor developing machine
US7300740B2 (en) 2005-02-28 2007-11-27 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
ATE445861T1 (de) 2005-08-26 2009-10-15 Agfa Graphics Nv Photopolymer druckplattenvorläufer
DE602005008434D1 (de) * 2005-09-27 2008-09-04 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
ES2322655T5 (es) 2005-11-18 2019-06-27 Agfa Nv Método para fabricar una plancha de impresión litográfica
EP1788441B1 (en) 2005-11-18 2010-07-07 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
WO2007057442A2 (en) 2005-11-18 2007-05-24 Agfa Graphics Nv Method of making a photopolymer printing plate
EP1788450B1 (en) 2005-11-18 2009-02-04 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
PL1788443T3 (pl) 2005-11-18 2014-12-31 Agfa Nv Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej
PL1788444T3 (pl) 2005-11-18 2011-06-30 Agfa Nv Sposób wytwarzania kliszy do druku litograficznego
EP2214056B1 (en) * 2005-11-18 2012-12-26 Agfa Graphics N.V. Method of making a lithographic printing plate
ES2324542T3 (es) 2005-11-21 2009-08-10 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica.
EP1788449A1 (en) 2005-11-21 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
EP1793275B1 (en) 2005-12-02 2013-07-03 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor
JP4820640B2 (ja) 2005-12-20 2011-11-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP1843203A1 (en) 2006-04-03 2007-10-10 Agfa Graphics N.V. Method of making a photopolymer printing plate
DE602007009344D1 (de) 2006-07-25 2010-11-04 Fujifilm Corp Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6451510B1 (en) * 2001-02-21 2002-09-17 International Business Machines Corporation Developer/rinse formulation to prevent image collapse in resist
CN1407410A (zh) * 2001-08-28 2003-04-02 东京威力科创股份有限公司 显影处理方法和显影液涂布装置

Also Published As

Publication number Publication date
ATE546760T1 (de) 2012-03-15
US20110059401A1 (en) 2011-03-10
PL2105799T3 (pl) 2012-07-31
BRPI0908914A2 (pt) 2018-07-10
WO2009118281A1 (en) 2009-10-01
ES2378413T3 (es) 2012-04-12
CN101981508A (zh) 2011-02-23
EP2105799B1 (en) 2012-02-22
EP2105799A1 (en) 2009-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100448689C (zh) 制造平版印刷版前体的方法
CN101305322B (zh) 制作平版印刷印版的方法
CN100439120C (zh) 制造平版印刷版前体的方法
CN101313248B (zh) 制作平版印刷印版的方法
CN100439119C (zh) 制造平版印刷版前体的方法
CN106313870B (zh) 一种可成像涂层、热敏阴图平版印刷版及其制版方法
KR940011820B1 (ko) 오프셋 인쇄판용 버언-인 검잉제
CN107499016A (zh) 一种热敏阴图平版印刷版前体及其制版方法
CN1984778A (zh) 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
CN101467104A (zh) 带有罩面层的光致聚合物印刷版的加工方法
JP6360178B2 (ja) リソグラフ印刷版の提供方法
CN101981508B (zh) 平版印刷版的制备方法
CN104981738A (zh) 制造平版印刷版的方法
CN102099748B (zh) 制备平版印版前体的方法和设备
JP2001246725A (ja) 再使用可能な基質を用いる平版印刷法
US11635693B2 (en) Lithographic printing plate precursor
JP2001232963A (ja) 再使用可能な基質を用いる平版印刷法
US11635694B2 (en) Method for making a lithographic printing plate
CN1608861A (zh) 含有光滑铝载体的负性热平版印刷的印刷版前体
US20080113298A1 (en) Method of preparing lithographic printing plates
US20040202955A1 (en) Method for making printing plate by inkjet deposition of coalescing agent
EP2290447A1 (en) A set for developing a lithographic printing plate
WO2018099916A1 (en) Method of making a lithographic printing plate precursor containing a diazonium compound
JP2006023753A (ja) 平版印刷版の製造方法
JP2003076035A (ja) 平版印刷版の製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Belgian Mo

Patentee after: Agfa Co. Ltd.

Address before: Belgian Mo

Patentee before: Agfa Gevaert

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130717

Termination date: 20210323