CN101977890A - 光学活性氟胺类的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种制造光学活性氟胺类保护体的方法，该方法包括如下步骤：使光学活性羟胺类亚胺保护体、光学活性羟胺类噁唑烷保护体、或该光学活性羟胺类亚胺保护体与光学活性羟胺类噁唑烷保护体的混合物在碳原子数7～18的叔胺类(氨的3个氢原子全部被烷基取代的胺)的存在下与硫酰氟(SO2F2)反应。通过使该光学活性氟胺类保护体在酸性条件下水解，能够制造光学活性氟胺类。

Description

光学活性氟胺类的制造方法
技术领域
本发明涉及作为医药/农药中间体而非常重要的光学活性氟胺类的工业上的制造方法。
背景技术
作为本发明的对象的光学活性氟胺类是重要的医药/农药中间体。其直接的制造方法是通过相应的光学活性氨基醇类的氨基保护体的脱羟基氟化反应来制造的方法。
作为制造光学活性氟胺类的方法，本申请人公开了利用硫酰氟(SO2F2)与有机碱的组合而进行醇类的脱羟基氟化反应。其中，将氨基(-NH2)被邻苯二甲酰基保护的光学活性氨基醇类用作原料，以23％的收率得到了目标氟化体(邻苯二甲酰基保护体)[专利文献1(参照路线1)]。
路线1
Figure BPA00001229941100011
另外，作为光学活性氨基醇类的氨基保护体的脱羟基氟化反应，分别已知以下反应：使用了已知的氟化剂Deoxo-FluorTM的反应(路线2：非专利文献1)、以及使用了已知的氟化剂DAST的反应(路线3：非专利文献2)。
路线2
Figure BPA00001229941100021
路线3
Figure BPA00001229941100022
专利文献1：国际公开2006/098444号小册子(日本特开2006-290870号公报)
非专利文献1：Journal of Fluorine Chemistry(荷兰)，2004年，第125卷，p.1869-1872
非专利文献2：Journal of American Chemical Society(美国)，1982年，第104卷，p.5836-5837
发明内容
本发明的目的在于提供一种光学活性氟胺类的工业上的制造方法。
已知在光学活性氨基醇类的氨基保护体的脱羟基氟化反应中，即使氨基被保护基保护，氮原子也会发生邻基参与。例如，在具有与本发明相同的1，2-氨基醇结构的底物中，若使用二苄基保护基的话，作为主产物而得到重排体(参照上述的路线2、路线3)，无法选择性地获得本发明的目标物质即在结合有羟基的碳原子上单纯地发生氟原子取代而成的产物。
另一方面，根据专利文献1的使用了邻苯二甲酰基保护体的、利用硫酰氟的脱羟基氟化反应，能够抑制氮原子的邻基参与，能够以比较简单的操作获得目标物质。然而，收率为23％，还尚有改善的余地。此外，若使用邻苯二甲酰基的代表性脱保护剂联氨的话，则反应体系变为碱性，脱保护后的目标物质的氨基(亲核部位)与氟原子(亲电部位)会发生副反应，无法避免分子内闭环而成为氮丙啶、分子间的缩聚或联氨引起的取代等，脱保护的收率也较低。这样，在所公开的反应条件下，不仅无法使所期望的脱羟基氟化反应自身良好地进行，而且还无法选择性地从所得的氟化体进行脱保护，从本发明的对象即光学活性氟胺类的制造方法的观点来看，未必可以说是实用的方法。
此外，若提及脱羟基氟化剂的话，由于Deoxo-FluorTM、DAST比较昂贵，而且具有爆炸的危险性，因此仅限于小规模的合成。由此，强烈期待一种不仅能够良好地进行所期望的脱羟基氟化反应而且还适于大规模生产的反应剂。
这样，期望发现一种适于大规模生产后述式[6]所示的光学活性氟胺类、且选择率良好、收率高的方法。为此，发现一种能够有效抑制氮原子的邻基参与、进而能够容易地进行保护和脱保护的氨基保护基是非常重要的。另外，解明可良好地进行该氨基保护体的脱羟基氟化反应的反应条件也是必要的。
本发明人等对于上述课题进行了深入研究，结果首次发现，光学活性羟胺类的氨基保护基的选择非常重要，通过与醛类的脱水缩合而容易地获得的本发明的光学活性羟胺类亚胺保护体(以后，也简称为“亚胺体”)基本上不会发生由氮原子的邻基参与所引起的重排等副反应，所期望的脱羟基氟化反应可良好地进行。另外，还首次解明，在光学活性羟胺类与醛类的脱水缩合中，虽然由于1，2-氨基醇结构而不易选择性地仅获得亚胺体，但同时副产的闭环体即光学活性羟胺类噁唑烷保护体(以后，也简称为“噁唑烷体”)也能够在本发明的脱羟基氟化反应中成为适合的底物(参照路线4)。
路线4
此外，从脱羟基氟化反应中得到的光学活性氟胺类保护体的脱保护，能够通过酸性条件下的水解而容易地进行。还首次发现，与前述的碱性条件下的邻苯二甲酰基的脱保护不同，在酸性条件下的情况下，脱保护后的氨基被质子化从而亲核性受到抑制，能够选择性地进行脱保护而基本上不发生副反应。
这样，作为氨基保护体，亚胺体、噁唑烷体是适合的，考虑到大规模获得原料醛类的难易性、保护和脱保护的简便性和选择性、脱羟基氟化的反应性、抑制氮原子的邻基参与的效果、和各种中间体的大规模处理的操作稳定性等，尤其更优选R2为芳香族烃基的氨基保护体。
另一方面，首次解明，即使将适合的氨基保护体即亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物，在专利文献1中作为代表性的有机碱而较多使用的三乙胺的存在下与硫酰氟反应，三乙胺也优先于氟阴离子(F-)对作为中间体的氟代硫酸酯体进行亲核攻击而大量副产季铵盐类，使得所期望的脱羟基氟化反应不能良好地进行[比较例1(参照路线5)]。
路线5
Figure BPA00001229941100051
鉴于这种状况，本发明人等着眼于有机碱的高立体体积。其结果，首次发现通过使用碳原子数7～18的叔胺类，可有效抑制季铵盐类的副产。尤其是，优选使用叔胺类的碳原子数为8～12且碳原子数为3以上的烷基为2个以上的叔胺类(例如，二异丙基乙胺、三正丁胺等)。关于对叔胺类所要求的高立体体积，至碳原子数18为止的叔胺均可以充分获得所期望的效果，考虑到大规模获得的难易性和脱羟基氟化反应的生产率等，至碳原子数18为止的叔胺是适合的，尤其是至碳原子数12为止的叔胺是更适合的。
因此，还首次发现：在制造本发明的对象即光学活性氟胺类方面，不仅单独使用适合的氨基保护体而且与上述特定的叔胺类的组合也是非常重要的。
最后，首次发现作为本发明的制造方法中有用的关键中间体的新化合物即光学活性氟胺类保护体。
这样，发现了作为光学活性氟胺类的工业上的制造方法而极其有用的方法，完成了本发明。
根据本发明，提供一种制造式[3]所示的光学活性氟胺类保护体的方法(第1方法)，其包括如下步骤：使式[1]所示的光学活性羟胺类亚胺保护体、式[2]所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体、或该光学活性羟胺类亚胺保护体与光学活性羟胺类噁唑烷保护体的混合物在碳原子数7～18的叔胺类(氨的3个氢原子全部被烷基取代的胺)的存在下与硫酰氟(SO2F2)反应。
[式中，R1和R2分别独立地表示烷基或芳香环基。*表示不对称碳，通过反应而使立体化学得以保持。式[1]和式[3]的波浪线表示氮-碳双键为E体、Z体、或E体与Z体的混合物，式[2]的波浪线表示相对于取代基R1为顺式体、反式体、或顺式体与反式体的混合物。]
也可以是一种制造光学活性氟胺类保护体的方法(第2方法)，其特征在于，在第1方法中，式[1]所示的光学活性羟胺类亚胺保护体、或式[2]所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体的R2为芳香族烃基，此外叔胺类的碳原子数为8～12且碳原子数为3以上的烷基为2个以上。
也可以是一种制造光学活性氟胺类保护体的方法(第3方法)，其特征在于，在第1或第2方法中，式[1]所示的光学活性羟胺类亚胺保护体、或式[2]所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体通过式[4]所示的光学活性羟胺类和式[5]所示的醛类的脱水缩合而获得。
Figure BPA00001229941100071
[式中，R1和R2分别独立地表示烷基或芳香环基。*表示不对称碳，通过脱水缩合而使立体化学得以保持。]
根据本发明，提供一种制造式[6]所示的光学活性氟胺类的方法(第4方法)，其包括如下步骤：使在第1～第3方法的任一项中得到的、式[3]所示的光学活性氟胺类保护体在酸性条件下水解。
Figure BPA00001229941100081
[式中，R1表示烷基或芳香环基。*表示不对称碳，通过水解而使立体化学得以保持。]
根据本发明，提供一种式[3]所示的光学活性氟胺类保护体。
Figure BPA00001229941100082
[式中，R1和R2分别独立地表示烷基或芳香环基。*表示不对称碳。波浪线表示氮-碳双键为E体、Z体、或E体与Z体的混合物。]
在该式[3]中，R2可以是芳香族烃基。
具体实施方式
本发明与现有技术相比具有下述优点。
与专利文献1相比，能够显著改善脱羟基氟化反应的收率，进而能够收率良好地从所得到的氟化体选择性地进行脱保护。
与非专利文献1和非专利文献2相比，能够抑制由氮原子的邻基参与所引起的副反应，进而还能够置换为适于大规模生产的脱羟基氟化剂。本发明中使用的硫酰氟作为熏蒸剂而被广泛利用，进而还能够简便地处理成萤石(CaF2)、硫酸钙等无机盐作为废弃物。
本发明中使用的所有原料和反应剂等均能够大量且较廉价地获得。另外，全部工序的反应条件较为缓和，因此基本上不副产难以分离的杂质，能够以高化学纯度收率良好地获得目标物质。此外，通过全部工序的反应，使得不对称碳的立体化学得以保持。因此，通过使用高光学纯度的原料，能够获得高光学纯度的目标物质。
这样，本发明解决了上述现有技术的所有问题，为工业上也容易实施的制造方法。
下面详细说明本发明的光学活性氟胺类的制造方法。
本发明包括以下工序：第一工序(脱水缩合)，将式[4]所示的光学活性羟胺类与式[5]所示的醛类脱水缩合，从而转化为式[1]或式[2]所示的光学活性羟胺类保护体(亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物)；第二工序(脱羟基氟化)，在碳原子数7～18的叔胺类的存在下使式[1]或式[2]所示的光学活性羟胺类保护体(亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物)与硫酰氟反应，从而转化为式[3]所示的光学活性氟胺类保护体；和第三工序(水解)，在酸性条件下将式[3]所示的光学活性氟胺类保护体水解，从而转化为式[6]所示的光学活性氟胺类(参照路线6)。
路线6
首先，详细说明第一工序(脱水缩合)。
式[4]所示的光学活性羟胺类的R1表示烷基或芳香环基。烷基可以采用碳原子数1～18的直链式或支链式、或环式(碳原子数为3以上的情况下)(环式中除了单环式以外，还包括稠合多环式、交联、螺环、集合环(ring assembly)等)。烷基的任意的碳原子还能够以任意的数目以及任意的组合置换为氮原子、氧原子或硫原子等杂原子[氮原子也能够具有烷基、芳香环基、保护基等，硫原子也能够具有氧原子(-SO-或-SO2-)]。另外，结合于烷基的任意的碳原子上的(同一碳原子上的)2个氢原子，也能够以任意的数目以及任意的组合置换为氮原子、氧原子或硫原子(是指包含碳原子而成为亚胺基、羰基或硫代羰基。另外，氮原子也能够具有烷基、芳香环基、保护基等)。此外，烷基的任意的相邻2个碳原子也能够以任意的数目以及任意的组合置换为不饱和基(双键或三键)。芳香环基能够采用碳原子数1～18的苯基、萘基、蒽基等芳香族烃基，或吡咯基、呋喃基、噻吩基、吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基等包含氮原子、氧原子或硫原子等杂原子的芳香族杂环基(氮原子也能够具有烷基、芳香环基、保护基等，另外除单环式以外还能够采用稠合多环式、集合环等)。
烷基或芳香环基也能够在任意的碳原子上以任意的数目以及任意的组合具有取代基。作为所述取代基，可列举出氟、氯、溴、碘这些卤素原子，叠氮基，硝基，甲基、乙基、丙基等低级烷基，氟代甲基、氯代甲基、溴代甲基等低级卤代烷基，甲氧基、乙氧基、丙氧基等低级烷氧基，氟代甲氧基、氯代甲氧基、溴代甲氧基等低级卤代烷氧基，二甲基氨基、二乙基氨基、二丙基氨基等低级烷基氨基，甲硫基、乙硫基、丙硫基等低级烷硫基，氰基，甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基等低级烷氧基羰基，氨基羰基(CONH2)、二甲基氨基羰基、二乙基氨基羰基、二丙基氨基羰基等低级氨基羰基，烯基、炔基等不饱和基，苯基、萘基、吡咯基、呋喃基、噻吩基等芳香环基，苯氧基、萘氧基、吡咯氧基、呋喃氧基、噻吩氧基等芳香环氧基，哌啶基〔2，3或4位〕、哌啶子基、吗啉基等脂肪族杂环基，羟基的保护体，氨基(还包括氨基酸或肽残基)的保护体，硫醇基的保护体，醛基的保护体，羧基的保护体等。
另外，本说明书中以下的各用语分别以下述所述的意义而使用。″低级″是指碳原子数1～6的直链式或支链式、或环式(碳原子数为3以上的情况)。″不饱和基″为双键的情况(烯基)能够采用E体、Z体、或E体与Z体的混合物。作为″羟基、氨基(还包括氨基酸或肽残基)、硫醇基、醛基和羧基的保护基″，能够使用Protective Groups in Organic Synthesis，Third Edition，1999，John Wiley&Sons，Inc.中所记载的保护基等(也能够用1个保护基保护2个以上的官能团)。
另外，“不饱和基”、“芳香环基”、“芳香环氧基”和“脂肪族杂环基”上，也能够用卤素原子、叠氮基、硝基、低级烷基、低级卤代烷基、低级烷氧基、低级卤代烷氧基、低级烷基氨基、低级烷基硫基、氰基、低级烷氧基羰基、氨基羰基、低级氨基羰基、羟基的保护体、氨基(还包括氨基酸或肽残基)的保护体、硫醇基的保护体、醛基的保护体、羧基的保护体等取代。
式[4]所示的光学活性羟胺类的R1优选为烷基或芳香环基，尤其更优选为碳原子数1～9的烷基。关于R1为碳原子数1～9的烷基的光学活性羟胺类，作为该化合物的原料的光学活性α-氨基酸类能够易于大规模地获得，可通过还原而容易地制造。此外，R1为碳原子数1～6的烷基的光学活性羟胺类，大多可市售获得，非常适合作为本发明的起始原料。
式[4]所示的光学活性羟胺类的*表示不对称碳，通过脱水缩合而使立体化学(绝对构型和光学纯度)得以保持。
不对称碳的绝对构型能够采用R体或S体，只要根据目标物质式[6]所示的光学活性氟胺类的绝对构型而适当区别使用即可。
关于不对称碳的光学纯度，考虑到目标物质式[6]所示的光学活性氟胺类的用途为医药/农药中间体，可以使用对映体过量(ee)为80％ee以上的物质，通常优选为90％ee以上，尤其更优选为95％ee以上。
式[5]所示的醛类的R2表示烷基或芳香环基。
该烷基和芳香环基能够采用与式[4]所示的光学活性羟胺类的R1相同的烷基和芳香环基。其中优选为芳香族烃基，尤其更优选为苯基、取代苯基、萘基和取代萘基。R2为苯基、取代苯基、萘基或取代萘基的醛类除了“用于解决课题的方案”中所记载的“R2为芳香族烃基的更适合方面”以外，还可列举出工业上能够廉价地获得。
相对于式[4]所示的光学活性羟胺类1摩尔，式[5]所示的醛类的使用量为0.7摩尔以上即可，通常优选为0.8～5摩尔，尤其更优选为0.9～3摩尔。
通过在酸催化剂的存在下或脱水条件下进行反应，能够更良好地实施该工序。但是，根据原料底物的组合，有时不采用这些反应条件也可良好地进行反应。
作为所述酸催化剂，可列举出氯化氢(盐酸)、硫酸、磷酸、氯化锌、四氯化钛、四异丙氧基钛等无机酸，苯磺酸、对甲苯磺酸、对甲苯磺酸吡啶盐(PPTS)、10-樟脑磺酸等有机酸。其中优选为硫酸、对甲苯磺酸和对甲苯磺酸吡啶盐(PPTS)，尤其更优选为对甲苯磺酸和对甲苯磺酸吡啶盐(PPTS)。所述酸催化剂的使用量，相对于式[4]所示的光学活性羟胺类1摩尔，使用催化剂量即可，通常优选为0.001～0.7摩尔，尤其更优选为0.005～0.5摩尔。
作为所述脱水条件下的反应，可列举出以下反应：使用不与水混合、比重小于水、与水共沸的芳香族烃系的反应溶剂，在回流条件下一边用迪安-斯塔克装置(Dean-Stark apparatus)除去副产的水，一边进行反应。
反应溶剂可列举出正己烷、环己烷、正庚烷等脂肪族烃系，苯、甲苯、乙苯、二甲苯、均三甲苯等芳香族烃系，二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷等卤代烃系，二乙醚、四氢呋喃、二异丙醚、叔丁基甲基醚等醚系，乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯系，N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮等酰胺系，乙腈、丙腈等腈系，二甲基亚砜等。
其中优选为正己烷、正庚烷、甲苯、二甲苯、均三甲苯、二氯甲烷、四氢呋喃、二异丙醚、叔丁基甲基醚、乙酸乙酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、乙腈、丙腈和二甲基亚砜，尤其更优选为甲苯、二甲苯、二氯甲烷、四氢呋喃、二异丙醚、乙酸乙酯、N，N-二甲基甲酰胺和乙腈。这些反应溶剂能够单独或组合使用。另外，该工序也能够在无溶剂下进行反应。
关于反应溶剂的使用量，相对于式[4]所示的光学活性羟胺类1摩尔，使用0.01L(升)以上即可，通常优选为0.05～5L，尤其更优选为0.1～3L。
关于温度条件，在-20～+200℃的范围进行即可，通常优选为-10～+175℃，尤其更优选为0～+150℃。
反应时间通常为72小时以内，但根据原料底物的组合和所采用的反应条件而异，因此优选通过气相色谱、薄层色谱、液相色谱、核磁共振等分析手段追踪反应的进行状况，将原料底物基本上消失的时刻作为反应的终点。
关于后处理，通过对于反应终止液进行通常的操作，能够获得作为目标物质的式[1]或式[2]所示的光学活性羟胺类保护体。目标物质作为亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物而获得，亚胺体作为氮-碳双键为E体、Z体、或E体与Z体的混合物获得，噁唑烷体作为相对于取代基R1为顺式体、反式体、或顺式体与反式体的混合物获得。这些异构体比根据原料底物的组合和所采用的反应条件而异，但第二工序的脱羟基氟化能良好地进行而不会受该异构体比影响。目标物质根据需要能够利用活性炭处理、蒸馏、重结晶、柱色谱等纯化为较高的化学纯度。
该工序中，反应以高选择性良好地进行，因而为了除去副产的水，只要浓缩反应溶剂就能够获得作为第二工序的脱羟基氟化的原料底物而具有充分品质的目标物质。从工业上的制造方法的观点来看，这种简便的后处理是适合的。接着，详细说明第二工序(脱羟基氟化)。
关于硫酰氟(SO2F2)的使用量，相对于式[1]或式[2]所示的光学活性羟胺类保护体(亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物)1摩尔，使用0.7摩尔以上即可，通常优选为0.8～10摩尔，尤其更优选为0.9～5摩尔。
该工序中，作为脱羟基氟化剂，还能够使用三氟甲基硫酰氟(CF3SO2F)或全氟丁基硫酰氟(C4F9SO2F)。然而，考虑到大规模获得这些反应剂的难易性、废弃物处理等，未必具有使用的优越性。
如上所述，该工序中，在碳原子数7～18的叔胺类的存在下进行反应是非常重要的。另外，本说明书中，“碳原子数”是指3个烷基的合计。另外，叔胺是指“氨的3个氢原子全部被烷基取代而成的胺”。碳原子数7～18的叔胺类具有直链式或支链式、或环式(碳原子数为3以上的情况)的烷基，优选为碳原子数8～12且碳原子数为3以上的烷基为2个以上的叔胺类。
作为所述优选的叔胺类，可列举出二异丙基乙胺(碳原子数为8且碳原子数为3以上的烷基为2个)、三正丙基胺(碳原子数为9且碳原子数为3以上的烷基为3个)、二异丙基异丁基胺(碳原子数为10且碳原子数为3以上的烷基为3个)、二正丁基异丙基胺(碳原子数为11且碳原子数为3以上的烷基为3个)、三正丁基胺(碳原子数为12且碳原子数为3以上的烷基为3个)等。其中优选为二异丙基乙胺和三正丁基胺，尤其更优选为二异丙基乙胺。另外，这种叔胺类由于脂溶性高而能够易于进行回收，反应性不会降低而能够再利用，因而适用于工业上的制造方法。
关于碳原子数7～18的叔胺类的使用量，相对于式[1]或式[2]所示的光学活性羟胺类保护体(亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物)1摩尔，使用0.7摩尔以上即可，通常优选为0.8～10摩尔，尤其更优选为0.9～5摩尔。
该工序还能够在“由碳原子数7～18的叔胺类和氟化氢构成的盐或络合物”的存在下进行反应。然而，由于即使不存在该盐或络合物，反应也可以良好地进行，因此未必需要在其存在下进行。
反应溶剂可列举出与第一工序(脱水缩合)中使用的反应溶剂相同的溶剂。其中优选的反应溶剂和尤其更优选的反应溶剂也与第一工序相同。另外，能够单独或组合使用，进而也能够在无溶剂下进行。
关于反应溶剂的使用量，相对于式[1]或式[2]所示的光学活性羟胺类保护体(亚胺体、噁唑烷体、或亚胺体与噁唑烷体的混合物)1摩尔，使用0.1L以上即可，通常优选为0.2～10L，尤其更优选为0.3～5L。
关于温度条件，在-100～+100℃的范围内进行即可，通常优选为-50～+50℃，尤其更优选为-40～+40℃。在硫酰氟的沸点(-49.7℃)以上的温度条件下进行反应时，可以使用耐压反应容器。
关于压力条件，在大气压～2MPa的范围内进行即可，通常优选为大气压～1.5MPa，尤其更优选为大气压～1MPa。因此，优选使用由不锈钢(SUS)或玻璃(搪玻璃)之类的材质形成的耐压反应容器来进行反应。另外，作为大规模的硫酰氟的供给，有效的是首先使耐压反应容器为负压、然后一边恢复压力一边导入减压下的气体或液体的方法。
反应时间通常为72小时以内，但根据原料底物和碳原子数7～18的叔胺类的组合、以及所采用的反应条件而异，因此优选通过气相色谱、薄层色谱、液相色谱、核磁共振等分析手段追踪反应的进行状况，将原料底物基本上消失的时刻作为反应的终点。
关于后处理，通过对于反应终止液进行通常的操作，能够获得作为目标物质的式[3]所示的光学活性氟胺类保护体。目标物质根据需要能够利用活性炭处理、蒸馏、重结晶、柱色谱等纯化为较高的化学纯度。
尤其是，以下方法是有效的：将反应终止液浓缩，用甲苯或乙酸乙酯等有机溶剂稀释残渣，用碳酸钾等无机碱的水溶液洗涤，进而用水洗涤，浓缩所回收的有机层。通过进行这种后处理，能够获得作为第三工序的水解的原料底物而具有充分品质的目标物质。
最后，详细说明第三工序(水解)。
该工序为酸性条件下的水解，具体而言，可以通过将式[3]所示的光学活性氟胺类保护体与酸催化剂的水溶液反应而进行。
作为所述酸催化剂，可列举出氯化氢、溴化氢、碘化氢、硫酸、硝酸等无机酸，甲酸、乙酸、苯磺酸、对甲苯磺酸等有机酸。其中优选为无机酸，尤其更优选为氯化氢和硫酸。关于所述酸催化剂的使用量，相对于式[3]所示的光学活性氟胺类保护体1摩尔，使用0.1摩尔以上即可，通常优选为0.3～30摩尔，尤其更优选为0.5～20摩尔。
关于水的使用量，相对于式[3]所示的光学活性氟胺类保护体1摩尔，使用1摩尔以上即可，通常优选为3～300摩尔，尤其更优选为5～150摩尔。
反应溶剂可列举出正己烷、环己烷、正庚烷等脂肪族烃系，苯、甲苯、乙苯、二甲苯、均三甲苯等芳香族烃系，二乙醚、四氢呋喃、二异丙醚、叔丁基甲基醚等醚系，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇等醇系等。其中优选为正己烷、正庚烷、甲苯、二甲苯、二异丙醚、甲醇、乙醇和异丙醇，尤其更优选为正庚烷、甲苯、二甲苯和甲醇。这些反应溶剂能够单独或组合使用。另外，该工序也能够在无溶剂下或在二相体系下进行反应。
关于温度条件，在-20～+150℃的范围进行即可，通常优选为-10～+125℃，尤其更优选为0～+100℃。
反应时间通常为72小时以内，但根据原料底物和酸催化剂的组合、以及所采用的反应条件而异，因此优选通过气相色谱、薄层色谱、液相色谱、核磁共振等分析手段追踪反应的进行状况，将原料底物基本上消失的时刻作为反应的终点。
关于后处理，通过对于反应终止液进行通常的操作，能够获得作为目标物质的式[6]所示的光学活性氟胺类。目标物质根据需要能够利用活性炭处理、蒸馏、重结晶、柱色谱等纯化为较高的化学纯度。
尤其是，通过利用甲苯等有机溶剂洗涤目标物质的酸性水溶液，能够有效去除副产的式[5]所示的醛类。作为简便的操作，通过使用甲苯等不与水混合的有机溶剂在二相体系下进行反应，能够获得同等的效果。通过将含有所回收的目标物质的酸性水溶液浓缩，用乙酸乙酯等有机溶剂共沸脱水，进而用乙酸乙酯等有机溶剂加热洗涤，从而能够以高化学纯度获得以与所使用的酸催化剂生成的盐的形式存在的目标物质。另外，以保护目标物质的氨基的形式进行回收也会是很有效的。作为所述氨基的保护基，能够使用前述参考图书中记载的保护基。
这样获得的目标物质的盐或保护体，可通过重结晶等而纯化为更高的光学纯度。另外，通过进行脱盐(中和)或脱保护的通常的操作，能够容易地转化为作为目标物质的游离碱或脱保护体。
本发明通过将光学活性羟胺类与醛类脱水缩合而转化为光学活性羟胺类保护体(亚胺体、噁唑烷体或它们的混合物)，接着通过使该光学活性羟胺类保护体在碳原子数7～18的叔胺类的存在下与硫酰氟(SO2F2)反应而转化为光学活性氟胺类保护体，最后通过在酸性条件下水解该光学活性氟胺类保护体而能够制造光学活性氟胺类。
更优选的是，作为醛类使用芳香族烃系的醛类，此外作为叔胺类使用碳原子数为8～12且碳原子数为3以上的烷基为2个以上的叔胺类，从而能够在工业上容易地实施。
另外，作为该制造方法中的有用的关键中间体，提供作为新化合物的光学活性氟胺类保护体。
更优选的是，在易于在工业上实施该制造方法的方面，由芳香族烃系的醛类衍生的光学活性氟胺类保护体，成为极其有用的关键中间体。
通过以下实施例对本发明的实施方式进行具体说明，但本发明不限于这些实施例。
另外，本实施例中的缩写符号如下所述。
Me：甲基，Ph：苯基，Boc：叔丁氧基羰基，i-Pr：异丙基，Et：乙基。
[实施例1]
在甲苯200mL中，加入下式
Figure BPA00001229941100191
所示的光学活性羟胺类30.00g(399.41mmol，1.00eq，S体，光学纯度97％ee以上)、下式
Figure BPA00001229941100201
所示的醛类43.60g(410.86mmol，1.03eq)和对甲苯磺酸一水合物0.76g(4.00mmol，0.01eq)，在室温下搅拌2小时。反应终止液的利用气相色谱法测得的转化率为100％。将反应终止液减压浓缩，并真空干燥，从而获得83：17的下式
Figure BPA00001229941100202
所示的光学活性羟胺类亚胺保护体(亚胺体)和下式
Figure BPA00001229941100203
所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体(噁唑烷体)的混合物66.77g(噁唑烷体的异构体比为约3∶2)。收率为定量性的(理论收量65.19g)。气相色谱法纯度为98.9％。将1H-NMR(仅为亚胺体和噁唑烷体的特征性的峰)如下示出。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：CDCl3]：δppm/亚胺体8.31(s，1H)，噁唑烷体(顺式体与反式体的混合物)5.46，5.57(均为s，总计1H，各个异构体对应于哪个峰尚未确定)。
在不锈钢(SUS)制耐压反应容器中，加入上式所示的光学活性羟胺类保护体的亚胺体与噁唑烷体的混合物30.00g(为179.46mmol，1.00eq)、乙腈120mL和二异丙基乙胺28.51g(220.60mmol，1.23eq)，浸渍到-78℃的冷却介质浴中，通过储气瓶吹入硫酰氟(SO2F2)44.92g(440.13mmol，2.45eq)，在室温下整夜搅拌。反应终止液的利用气相色谱法测得的转化率为100％。将反应终止液减压浓缩，用甲苯100mL稀释残渣，用饱和碳酸钾水溶液50mL洗涤2次，用水50mL洗涤2次，将回收的有机层减压浓缩，并进行真空干燥，从而得到下式
Figure BPA00001229941100211
所示的光学活性氟胺类保护体29.49g。收率为99％。回收的有机层的气相色谱法纯度为92.1％。1H-NMR和19F-NMR如下示出。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：CDCl3]：δppm/1.26(d，6.8Hz，3H)，3.70(m，1H)，4.46(dd，45.9Hz，6.8Hz，2H)，7.40(Ar-H，3H)，7.75(Ar-H，2H)，8.34(s，1H)。
19F-NMR(基准物质：C6F6，氘代溶剂：CDCl3)：δppm/207.22(dt，15.0Hz，45.9Hz，1F)。
在甲醇100mL中，加入上式所示的光学活性氟胺类保护体20.40g(123.48mmol，1.00eq)和35％盐酸61.18g(587.30mmol，4.76eq)，在室温下整夜搅拌。反应终止液的利用19F-NMR测得的转化率为100％。将反应终止液减压浓缩，用水50mL稀释残渣，用甲苯50mL洗涤3次，从而得到下式
Figure BPA00001229941100212
所示的光学活性氟胺类的盐酸盐的水溶液约75mL。
在全部量的上式所示的光学活性氟胺类的盐酸盐的水溶液(为123.48mmol，1.00eq)中，加入甲苯100mL、三乙胺73.44g(725.76mmol，5.88eq)和Boc2O24.00g(109.97mmol，0.89eq)，在室温下整夜搅拌。反应终止液的利用19F-NMR测得的转化率为100％。将反应终止液分液，将所回收的有机层用水30mL洗涤2次，减压浓缩，并真空干燥，从而得到下式
所示的光学活性氟胺类的Boc保护体(粗产物)19.71g。光学活性氟胺类保护体的2工序的总收率为90％。粗产物的气相色谱法纯度为94.4％。
在全部量的粗产物(19.71g)中加入正庚烷30mL并减压浓缩从而进行溶剂置换，由正庚烷40mL重结晶，从而得到纯化品12.44g。回收率为63％。光学活性羟胺类的4工序(还包括重结晶)的总收率为56％。纯化品的气相色谱法纯度为99.4％。关于纯化品的光学纯度，Mosher酸酰胺体(脱Boc化后衍生)的利用19F-NMR的光学纯度为98.6％ee。纯化品的1H-NMR和19F-NMR如下所示。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：CDCl3]：δppm/1.22(d，6.8Hz，3H)，1.45(s，9H)，3.90(br-d，1H)，4.33(ddd，46.8Hz，9.2Hz，3.8Hz，1H)，4.39(ddd，48.0Hz，9.2Hz，3.8Hz，1H)，4.63(br，1H)。
19F-NMR(基准物质：C6F6，氘代溶剂：CDCl3)：δppm/196.03(m，1F)。
[实施例2]
在甲苯130mL中，加入下式
Figure BPA00001229941100231
所示的光学活性羟胺类17.50g(169.64mmol，1.00eq，S体，光学纯度97％ee以上)、下式
Figure BPA00001229941100232
所示的醛类18.60g(175.27mmol，1.03eq)和对甲苯磺酸一水合物0.32g(1.68mmol，0.01eq)，在室温下整夜搅拌。反应终止液的利用1H-NMR测得的转化率为100％。将反应终止液减压浓缩，并真空干燥，从而得到57：43的下式
Figure BPA00001229941100233
所示的光学活性羟胺类亚胺保护体(亚胺体)和下式
所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体(噁唑烷体)的混合物36.14g(噁唑烷体的异构体比为约2∶1)。收率为定量性的(理论收量32.45g)。气相色谱法纯度为96.7％。将1H-NMR(仅为亚胺体和噁唑烷体的特征性的峰)如下示出。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：CDCl3]：δppm/亚胺体8.29(s，1H)，噁唑烷体(顺式体与反式体的混合物)5.45，5.48(均为s，总计1H，各个异构体对应于哪个峰尚未确定)。
在不锈钢(SUS)制耐压反应容器中，加入全部量的上式所示的光学活性羟胺类保护体的亚胺体与噁唑烷体的混合物(为169.64mmol，1.00eq)、乙腈170mL和二异丙基乙胺87.00g(673.17mmol，3.97eq)，浸渍到-78℃的冷却介质浴中，通过储气瓶吹入硫酰氟(SO2F2)34.58g(338.82mmol，2.00eq)，在室温下整夜搅拌。反应终止液的利用气相色谱法测得的转化率为98％。将反应终止液减压浓缩，用甲苯100mL稀释残渣，用饱和碳酸钾水溶液50mL洗涤2次，用水50mL洗涤2次，将所回收的有机层减压浓缩，并进行真空干燥，从而得到下式
所示的光学活性氟胺类保护体35.00g。收率为定量性的(理论收量32.78g)。气相色谱法纯度为93.8％。将1H-NMR和19F-NMR如下示出。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：CDCl3]：δppm/0.94(d，6.8Hz，3H)，0.97(d，6.8Hz，3H)，1.98(m，1H)，3.20(m，1H)，4.54(dt，47.2Hz，8.6Hz，1H)，4.65(ddd，47.2Hz，8.6Hz，3.8Hz，1H)，7.42(Ar-H，3H)，7.77(Ar-H，2H)，8.26(s，1H)。
19F-NMR(基准物质：C6F6，氘代溶剂：CDCl3)：δppm/202.81(dt，15.4Hz，47.2Hz，1F)。
在甲苯70mL中，加入全部量的上式所示的光学活性氟胺类保护体(为169.64mmol，1.00eq)和35％盐酸175.82g(1687.79mmol，9.95eq)，在50℃下整夜搅拌。反应终止液的利用19F-NMR测得的转化率为100％。将反应终止液分液，将回收的水层减压浓缩，用乙酸乙酯50mL共沸脱水(减压浓缩)3次，在残渣中加入乙酸乙酯75mL，在回流下搅拌洗涤1小时，趁热过滤，并真空干燥，从而得到下式
Figure BPA00001229941100251
所示的光学活性氟胺类的盐酸盐17.99g。光学活性羟胺类的3工序的总收率为75％。游离碱的气相色谱法纯度为97.3％。Mosher酸酰胺体(脱盐后衍生)的利用气相色谱法测得的光学纯度为99.9％ee。游离碱的质谱(CI法)观测到106(M+1)。将1H-NMR和19F-NMR如下示出。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：(CD3)2SO]：δppm/0.97(d，6.8Hz，3H)，0.99(d，6.8Hz，3H)，1.98(m，1H)，3.18(br-d，1H)，4.64(ddd，46.8Hz，10.4Hz，5.2Hz，1H)，4.72(ddd，47.2Hz，10.4Hz，3.2Hz，1H)，8.44(br，2H)。
19F-NMR[基准物质：C6F6，氘代溶剂：(CD3)2SO]：δppm/197.65(m，1F)。
[比较例1]
参考实施例1，制造下式
Figure BPA00001229941100261
所示的光学活性羟胺类亚胺保护体(亚胺体)和下式
Figure BPA00001229941100262
所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体(噁唑烷体)(R体，光学纯度97％ee以上，亚胺体∶噁唑烷体＝88∶12，噁唑烷体的异构体比为约3∶2)。
在不锈钢(SUS)制耐压反应容器中，加入上式所示的光学活性羟胺类保护体的亚胺体与噁唑烷体的混合物1.000g(6.127mmol，1.00eq)、乙腈6mL和三乙胺2.468g(24.390mmol，3.98eq)，浸渍到-78℃的冷却介质浴中，通过储气瓶吹入硫酰氟(SO2F2)1.807g(17.705mmol，2.89eq)，在室温下整夜搅拌。反应终止液的利用气相色谱法测得的转化率为96％。用乙酸乙酯20mL稀释反应终止液，用饱和碳酸钾水溶液10mL洗涤，用水10mL洗涤3次，将所回收的有机层减压浓缩，并进行真空干燥，从而得到24：76的下式
所示的光学活性氟胺类保护体和下式
Figure BPA00001229941100271
所示的季铵盐类的混合物0.813g。收率为44％(光学活性氟胺类保护体11％，季铵盐类33％)。1H-NMR(仅为光学活性氟胺类保护体和季铵盐类的特征性的峰)如下示出。
1H-NMR[基准物质：(CH3)4Si，氘代溶剂：CDCl3]：δppm/光学活性氟胺类保护体8.34(s，1H)，季铵盐类8.49(s，1H)。
这样，在比较例1中，使用碳原子数不足7的叔胺类即三乙胺，虽然可生成目标物质，但其收率停留在较低的值。与其相比，可知通过本发明的方法(实施例)能够以非常高的收率制造作为目标物质的光学活性氟胺类保护体。

Claims (11)

1.一种制造式[3]所示的光学活性氟胺类保护体的方法，其包括如下步骤：使式[1]所示的光学活性羟胺类亚胺保护体、式[2]所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体、或该光学活性羟胺类亚胺保护体与光学活性羟胺类噁唑烷保护体的混合物在碳原子数7～18的叔胺类(氨的3个氢原子全部被烷基取代的胺)的存在下与硫酰氟(SO2F2)反应，
Figure FPA00001229941000011
式中，R1和R2分别独立地表示烷基或芳香环基；*表示不对称碳，通过反应而使立体化学得以保持；式[1]和式[3]的波浪线表示氮-碳双键为E体、Z体、或E体与Z体的混合物，式[2]的波浪线表示相对于取代基R1为顺式体、反式体、或顺式体与反式体的混合物。
2.根据权利要求1所述的制造光学活性氟胺类保护体的方法，其特征在于，在权利要求1中，式[1]所示的光学活性羟胺类亚胺保护体、或式[2]所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体的R2为芳香族烃基，此外叔胺类的碳原子数为8～12且碳原子数为3以上的烷基为2个以上。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的制造光学活性氟胺类保护体的方法，其特征在于，在权利要求1或权利要求2中，式[1]所示的光学活性羟胺类亚胺保护体、或式[2]所示的光学活性羟胺类噁唑烷保护体通过式[4]所示的光学活性羟胺类和式[5]所示的醛类的脱水缩合而获得，
Figure FPA00001229941000021
式中，R1和R2分别独立地表示烷基或芳香环基；*表示不对称碳，通过脱水缩合而使立体化学得以保持。
4.根据权利要求3所述的制造光学活性氟胺类保护体的方法，其特征在于，式[4]的R1为碳原子数1～9的烷基。
5.根据权利要求3或4所述的制造光学活性氟胺类保护体的方法，其特征在于，所述脱水缩合在酸催化剂的存在下进行。
6.根据权利要求5所述的制造光学活性氟胺类保护体的方法，其特征在于，所述酸催化剂为对甲苯磺酸或对甲苯磺酸吡啶盐。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的制造光学活性氟胺类保护体的方法，其特征在于，权利要求1的叔胺类为二异丙基乙胺。
8.一种制造式[6]所示的光学活性氟胺类的方法，其包括如下步骤：使在权利要求1～7的任一项的方法中得到的、式[3]所示的光学活性氟胺类保护体在酸性条件下水解，
Figure FPA00001229941000031
式中，R1表示烷基或芳香环基；*表示不对称碳，通过水解而使立体化学得以保持。
9.根据权利要求8所述的制造光学活性氟胺类的方法，其特征在于，所述水解是通过使式[3]所示的光学活性氟胺类保护体与酸催化剂的水溶液反应而进行的，所述酸催化剂为氯化氢或硫酸。
10.一种式[3]所示的光学活性氟胺类保护体，
Figure FPA00001229941000032
式中，R1和R2分别独立地表示烷基或芳香环基；*表示不对称碳；波浪线表示氮-碳双键为E体、Z体、或E体与Z体的混合物。
11.根据权利要求10所述的光学活性氟胺类保护体，其特征在于，在权利要求10中，式[3]所示的光学活性氟胺类保护体的R2为芳香族烃基。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5857750B2 (ja) * 2011-01-21 2016-02-10 セントラル硝子株式会社 フルオロアミン類の製造方法
US8828346B2 (en) 2011-03-08 2014-09-09 Trinapco, Inc. Method of making fluorosulfonylamine
CN104918913B (zh) 2012-11-16 2018-02-09 特里纳普克公司 四丁铵双(氟磺酰基)酰亚胺及相关盐的合成
CA2900665C (en) * 2013-02-11 2021-02-09 Martin Reid Johnson Preparation of fluorosulfonate esters and onium salts derived therefrom

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4528028A (en) * 1983-09-15 1985-07-09 Flint Dennis H Use of certain halogen-containing amino-acid compounds for controlling the growth of unwanted plants
WO2000044706A1 (fr) * 1999-01-28 2000-08-03 Ajinomoto Co., Inc. Procede relatif a l'elaboration d'alpha-aminocetones
JP2006290870A (ja) * 2005-03-18 2006-10-26 Central Glass Co Ltd スルフリルフルオリドを用いるフッ素化反応
JP2008007488A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Central Glass Co Ltd 脱ヒドロキシフッ素化剤

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4528028A (en) * 1983-09-15 1985-07-09 Flint Dennis H Use of certain halogen-containing amino-acid compounds for controlling the growth of unwanted plants
WO2000044706A1 (fr) * 1999-01-28 2000-08-03 Ajinomoto Co., Inc. Procede relatif a l'elaboration d'alpha-aminocetones
JP2006290870A (ja) * 2005-03-18 2006-10-26 Central Glass Co Ltd スルフリルフルオリドを用いるフッ素化反応
JP2008007488A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Central Glass Co Ltd 脱ヒドロキシフッ素化剤

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DMITRII O. BERBASOV等: "Synthesis of highly 1,3-proton shift transferable N-benzyl imines of trifluoroacetophenone under the ‘‘low-basicity’’ reaction conditions", 《JOURNAL OF FLUORINE CHEMISTRY》 *
YA LI等: "Stereoselective Nucleophilic Monofluoromethylation of N-(tert-Butanesulfinyl)imines with Fluoromethyl Phenyl Sulfone", 《ORGANIC LETTERS》 *

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