CN101973773A - 氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,属于特种耐火制品技术领域,依次包括配料、成型、烘干和烧成,其配料重量百分组成为:SiC73%、Si24%、成型结合剂2%和氨气1%,成型采用振动浇注成型,冷冻脱模。能够生产高质量的大型坩埚,密度高,热稳定性好,使用寿命长,能够保证用其生产的产品产量、质量和生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及一种氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,属于特种耐火制品技术领域。
背景技术
长期以来,受坩埚技术条件和制造工艺的制约,材质、密度都不是很好,性能欠佳,因此只能生产小型的坩埚,其容量、溶液温度、使用寿命及用其生产的产品产量、质量都受到限制,影响生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,能够生产高质量的大型坩埚,密度高,热稳定性好,使用寿命长,能够保证用其生产的产品产量、质量和生产效率。
本发明所述的氮化硅(Si3N4)结合碳化硅(SiC)大型坩埚的制备方法,依次包括配料、成型、烘干和烧成,其配料重量百分组成为:SiC 73%、Si 24%、成型结合剂 2%和氨气1%。
SiC粉和Si粉可直接购买。
其中:
成型结合剂为聚乙烯醇和硅溶胶的3:7重量比例的混合溶液。
将配料混合后,采用振动浇注成型方法成型,冷冻脱模;冷冻温度在-170℃,可由液氮实现。
立体置放烘干,烘干温度280-330℃。
烧成制度控制为:
(1)电炉烧成,炉内抽真空控制为:-0.03~-0.05MPa;
(2)室温到500±30℃的升温速度为50~70℃/h;
(3)在500±30℃时,向炉内充氮气,控制炉内压力为+0.03~+0.05MPa;
(4)在500±30℃~980±20℃期间,继续向炉内充氮气,保持炉内压力为+0.03~+0.05MPa,升温速度控制为90~110℃/h,并排气、抽真空间隔进行;
其中,排气、抽真空间隔进行,控制要求为:
排气、抽真空间隔进行的时间间隔最好控制为1~3h,压力波动范围为-0.05~+0.05MPa,980~1300℃期间的总氮化合成时间为50~60h;
(5)在980±20℃~1300±20℃期间,升温速度为90~110℃/h,并连续向炉内充氮气,炉内压力控制为+0.03~+0.05MPa,反应加快时停止供电一直到结束;
(6)反应完毕后降温,直至500±20℃,保持炉内压力为+0.02~+0.05MPa;然后排气卸压,打开炉门冷却降温。
本发明利用Si3N4结合SiC材质制作的坩埚,高密度,导热性、抗热抗冷性能和抗腐蚀性好,耐温高,使用温度达1600℃,使用寿命长,效率高,为传统坩埚产品的25倍,可用于多种材料高温熔炼合成,特别适用于特种合金,如多晶片、多晶硅的冶炼制造等。
本发明坩埚产品的使用,能够保持坩埚温度,提高产品质量,降低生产成本,提高生产效率。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
本发明所述的Si3N4结合SiC大型坩埚的制备方法,依次包括配料、成型、烘干和烧成,其配料重量百分组成为:SiC 73%、Si 24%、成型结合剂 2%和氨气1%。
其中:
成型结合剂为聚乙烯醇和硅溶胶的3:7重量比例的混合溶液。
将混合后的配料采用振动浇注成型方式成型,冷冻脱模,利用液氮冷却方式控制冷冻温度在-170℃。
脱模后,立体置放烘干,烘干温度控制为300℃。
烧成制度控制为:
(1)电炉烧成,炉内抽真空控制为:-0.03~-0.05MPa;
(2)室温到500±30℃的升温速度为60~70℃/h;
(3)在500±30℃时,向炉内充氮气,控制炉内压力为+0.03~+0.05MPa;
(4)在500±30℃~980±20℃期间,继续向炉内充氮气,保持炉内压力为+0.03~+0.05MPa,升温速度控制为100~110℃/h,并排气、抽真空间隔进行;
排气、抽真空间隔进行的时间间隔最好控制为2h,压力波动范围为-0.05~+0.05MPa,980~1300℃期间的总氮化合成时间为55h;
(5)在980±20℃~1300±20℃期间,升温速度为100~110℃/h,并连续向炉内充氮气,炉内压力控制为+0.03~+0.05MPa,反应加快时停止供电一直到结束;
(6)反应完毕后降温,直至500±20℃,保持炉内压力为+0.02~+0.05MPa;然后排气卸压,打开炉门冷却降温。
实施例2
本发明所述的Si3N4结合SiC大型坩埚的制备方法,依次包括配料、成型、烘干和烧成,其配料重量百分组成为:SiC 73%、Si 24%、成型结合剂 2%和氨气1%。
其中:
成型结合剂为聚乙烯醇和硅溶胶的3:7重量比例的混合溶液。
将混合后的配料采用振动浇注成型方式成型,冷冻脱模,利用液氮冷却方式控制冷冻温度在-170℃。
脱模后,立体置放烘干,烘干温度控制为310℃。
烧成制度控制为:
(1)电炉烧成,炉内抽真空控制为:-0.03~-0.05MPa;
(2)室温到500±30℃的升温速度为50~60℃/h;
(3)在500±30℃时,向炉内充氮气,控制炉内压力为+0.03~+0.05MPa;
(4)在500±30℃~980±20℃期间,继续向炉内充氮气,保持炉内压力为+0.03~+0.05MPa,升温速度控制为90~100℃/h,并排气、抽真空间隔进行;
排气、抽真空间隔进行的时间间隔最好控制为3h,压力波动范围为-0.05~+0.05MPa,980~1300℃期间的总氮化合成时间为60h;
(5)在980±20℃~1300±20℃期间,升温速度为100~110℃/h,并连续向炉内充氮气,炉内压力控制为+0.03~+0.05MPa,反应加快时停止供电一直到结束;
(6)反应完毕后降温,直至500±20℃,保持炉内压力为+0.02~+0.05MPa;然后排气卸压,打开炉门冷却降温。
Claims (7)
1.一种氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,依次包括配料、成型、烘干和烧成,其特征在于配料重量百分组成为:SiC 73%、Si 24%、成型结合剂 2%和氨气1%。
2.根据权利要求1所述的氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,其特征在于成型结合剂为聚乙烯醇和硅溶胶的3:7重量比例的混合溶液。
3.根据权利要求1或2所述的氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,其特征在于成型采用振动浇注成型,冷冻脱模。
4.根据权利要求3所述的氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,其特征在于冷冻温度-170℃。
5.根据权利要求4所述的氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,其特征在于立体置放烘干,烘干温度280—330℃。
6.根据权利要求5所述的氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,其特征在于烧成制度控制为:
(1)电炉烧成,炉内抽真空控制为:-0.03~-0.05MPa;
(2)室温到500±30℃的升温速度为50~70℃/h;
(3)在500±30℃时,向炉内充氮气,控制炉内压力为+0.03~+0.05MPa;
(4)在500±30℃~980±20℃期间,继续向炉内充氮气,保持炉内压力为+0.03~+0.05MPa,升温速度控制为90~110℃/h,并排气、抽真空间隔进行;
(5)在980±20℃~1300±20℃期间,升温速度为90~110℃/h,并连续向炉内充氮气,炉内压力控制为+0.03~+0.05MPa,反应加快时停止供电一直到结束;
(6)反应完毕后降温,直至500±20℃,保持炉内压力为+0.02~+0.05MPa;然后排气卸压,打开炉门冷却降温。
7.根据权利要求6所述的氮化硅结合碳化硅大型坩埚的制备方法,其特征在于排气、抽真空间隔进行,控制时间间隔为1-3h,压力波动范围为-0.05~+0.05MPa,980-1300℃ 期间总氮化合成时间为50-60h。
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