CN101958303A - 双面图形芯片正装单颗封装结构及其封装方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种双面图形芯片正装单颗封装结构及其封装方法,所述结构包括基岛(1)、引脚(2)、无填料的塑封料(环氧树脂)(3)、导电或不导电粘结物质(6)、芯片(7)、金属线(8)和有填料塑封料(环氧树脂)(9),引脚(2)正面延伸到基岛(1)旁边,无填料的塑封料(3)将基岛(1)和引脚(2)下部外围、引脚(2)下部与基岛(1)下部以及引脚(2)下部与引脚(2)下部连接成一体,且使基岛和引脚背面尺寸小于基岛和引脚正面尺寸,形成上大下小的基岛和引脚结构,有填料塑封料(9)将引脚(2)正面局部单元进行包覆,在引脚(2)背面设置有柱子(10),柱子(10)根部埋入所述无填料的塑封料(3)内。本发明装片时可承受超高温且不会因不同物质的不同物理性质而产生引线框扭曲,也不会再有产生掉脚的问题和能使金属线的长度缩短。
Description
(一)技术领域
本发明涉及一种双面图形芯片正装单颗封装结构及其封装方法。属于半导体封装技术领域。
(二)背景技术
传统的芯片封装结构的制作方式是:采用金属基板的正面进行化学蚀刻及表面电镀层后,即完成引线框的制作(如图43所示)。而引线框的背面则在封装过程中再进行蚀刻。该法存在以下不足:
因为塑封前只在金属基板正面进行了半蚀刻工作,而在塑封过程中塑封料只有包裹住引脚半只脚的高度,所以塑封体与引脚的束缚能力就变小了,如果塑封体贴片到PCB板上不是很好时,再进行返工重贴,就容易产生掉脚的问题(如图44所示)。尤其塑封料的种类是采用有填料时候,因为材料在生产过程的环境与后续表面贴装的应力变化关系,会造成金属与塑封料产生垂直型的裂缝,其特性是填料比例越高则越硬越脆越容易产生裂缝。
另外,由于芯片与引脚之间的距离较远,金属线的长度较长,如图45~46所示,金属线成本较高(尤其是昂贵的纯金质的金属线);同样由于金属线的长度较长,使得芯片的信号输出速度较慢(尤其是存储类的产品以及需要大量数据的计算,更为突出);也同样由于金属线的长度较长,所以在金属线所存在的寄生电阻/寄生电容与寄生电杆对信号的干扰也较高;再由于芯片与引脚之间的距离较远,使得封装的体积与面积较大,材料成本较高,废弃物较多。
为此,本申请人在先申请了一件名称为《有基岛引线框结构及其生产方法》的发明专利,其申请号为:201010165476.0。其主要技术特征是:采用金属基板的背面先进行半蚀刻,在金属基板的背面形成凹陷的半蚀刻区域,同时相对形成基岛和引脚的背面,再在所述半蚀刻区域,填涂上无填料的软性填缝剂,并同时进行烘烤,使无填料的软性填缝剂固化成无填料的塑封料(环氧树脂),以包裹住引脚的背面。然后再在金属基板的正面进行半蚀刻,同时相对形成基岛和引脚的正面。其有益效果主要有:
1)由于在所述金属基板的背面引脚与引脚间的区域嵌置有无填料的软性填缝剂,该无填料的软性填缝剂与在塑封过程中的金属基板正面的常规有填料塑封料(环氧树脂)一起包裹住整个引脚的高度,所以塑封体与引脚的束缚能力就变大了,不会再有产生掉脚的问题,如图47。
2)由于采用了引线框正面与背面分开蚀刻作业的方法,所以在蚀刻作业中可形成背面引脚的尺寸稍小而正面引脚尺寸稍大的结构,而同个引脚的上下大小不同尺寸在被无填料的塑封料(环氧树脂)所包裹的更紧更不容易产生滑动而掉脚。
3)由于应用了引线框背面与正面分开蚀刻的技术,所以能够将引线框正面的引脚尽可能的延伸到基岛的旁边,促使芯片与引脚距离大幅的缩短,如图47~48,如此金属线所使用的成本也可以大幅的降低(尤其是昂贵的纯金质的金属线)。
4)也因为金属线的缩短使得芯片的信号输出速度也大幅的增速(尤其存储类的产品以及需要大量数据的计算,更为突出),由于金属线的长度变短了,所以金属线所存在的寄生电阻/寄生电容与寄生电杆对信号的干扰也大幅度的降低。
5)因运用了引脚的延伸技术,所以可以容易的制作出高脚数与高密度的脚之间的距离,使得封装的体积与面积可以大幅度的缩小。
6)因为将封装后的体积大幅度的缩小,更直接的体现出材料成本大幅度的下降与因为材料用量的减少也大幅度的减少废弃物环保的困扰。
但是,还是存在有以下的不足:由于封装前先进行引线框背面无填料塑封料的包裹引脚作业,再进行引线框正面的高温装片和打线作业时,因引线框和无填料塑封料两种材料的物理性能不同,两种材料的膨胀系数也不同,在高温下受热形变不同,导致后续装片时引线框产生扭曲。因此该种封装结构在装片时不能够耐超高温(200℃以上)。而以往是通过把封装体体积做得很大来达到耐高温的要求,但现在要求封装体的体积越来越小而功率是越来越大的情况下就耐不了超高温了。
(三)发明内容
本发明的目的在于克服上述不足,提供一种装片时可承受超高温且不会因不同物质的不同物理性质而产生引线框扭曲,也不会再有产生掉脚的问题和能使金属线的长度缩短的双面图形芯片正装单颗封装结构及其封装方法。
本发明的目的是这样实现的:一种双面图形芯片正装单颗封装结构,包括基岛、引脚、无填料的塑封料(环氧树脂)、导电或不导电粘结物质、芯片、金属线和有填料塑封料(环氧树脂),所述引脚正面延伸到基岛旁边,在所述基岛和引脚的正面设置有第一金属层,在所述基岛和引脚的背面设置有第二金属层,在所述基岛正面第一金属层上通过导电或不导电粘结物质设置有芯片,芯片正面与引脚正面第一金属层之间用金属线连接,在所述基岛和引脚的上部以及芯片和金属线外包封有填料塑封料(环氧树脂),在所述基岛和引脚外围的区域、引脚与基岛之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置有无填料的塑封料(环氧树脂),所述无填料的塑封料(环氧树脂)将基岛和引脚下部外围、引脚下部与基岛下部以及引脚下部与引脚下部连接成一体,且使所述基岛和引脚背面尺寸小于基岛和引脚正面尺寸,形成上大下小的基岛和引脚结构,其特点是:所述有填料塑封料(环氧树脂)将引脚正面局部单元进行包覆,在所述引脚背面设置有柱子,柱子根部埋入所述无填料的塑封料(环氧树脂)内。
本发明双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,所述方法包括以下工艺步骤:
步骤一、取金属基板
取一片厚度合适的金属基板,
步骤二、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,
步骤三、金属基板正面的光阻胶膜进行需要电镀金属层区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤二完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出金属基板正面后续需要进行电镀金属层的区域,
步骤四、金属基板正面已开窗的区域进行金属层电镀被覆
对步骤三中金属基板正面已开窗的区域进行第一金属层电镀被覆,该第一金属层置于所述基岛与引脚的正面,
步骤五、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,
步骤六、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤七、金属基板的光阻胶膜进行需要双面蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤六完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面及背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出局部金属基板以备后续需要进行的金属基板双面蚀刻作业,
步骤八、金属基板进行双面蚀刻作业
完成步骤七的曝光/显影以及开窗作业后,即在金属基板的正面及背面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出基岛和引脚的正面和背面,同时将引脚正面尽可能的延伸到基岛旁边,且使所述基岛和引脚的背面尺寸小于基岛和引脚的正面尺寸,形成上大下小的基岛和引脚结构;以及在引脚背面形成
柱子,并在基岛与引脚之间以及引脚与引脚之间留有连筋,
步骤九、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板正面和背面余下的光阻胶膜全部揭除,制成引线框,
步骤十、装片
在步骤九制成的引线框的基岛正面第一金属层上通过导电或不导电粘结物质进行芯片的植入,
步骤十一、打金属线
将已完成芯片植入作业的半成品进行芯片正面与引脚正面第一金属层之间打金属线作业,
步骤十二、包封有填料塑封料(环氧树脂)
将已打线完成的半成品正面进行局部单元包封有填料塑封料(环氧树脂)作业,使引脚正面局部单元区域露出有填料塑封料(环氧树脂),并进行塑封料包封后的固化作业,使基岛和引脚的上部以及芯片和金属线外均被有填料塑封料(环氧树脂)包封,
步骤十三、被覆光阻胶膜
利用被覆设备在将已完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜和,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤十四、已完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品的背面进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤十三完成光阻胶膜被覆作业的已完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出步骤八金属基板双面蚀刻作业后留有的连筋以及在引脚背面形成的柱子,以备后续需要进行柱子根部和连筋蚀刻作业,
步骤十五、第二次蚀刻作业
完成步骤十四的曝光/显影以及开窗作业后,即在完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品背面进行各图形的蚀刻作业,将步骤八金属基板双面蚀刻作业后留有的连筋全部蚀刻掉,在这个过程中所述柱子的根部也会同时的蚀刻掉相对的厚度,使柱子根部不露出包封后的封装结构背面,
步骤十六、半成品正面及背面进行光阻胶膜去膜
将完成步骤十五蚀刻作业的半成品背面余下的光阻胶膜以及半成品正面的光阻胶膜全部揭除,
步骤十七、包封无填料的塑封料(环氧树脂)
将已完成步骤十六所述去膜作业的半成品背面进行包封无填料的塑封料(环氧树脂)作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使基岛和引脚外围的区域、引脚与基岛之间的区域以及引脚与引脚之间的区域均嵌置无填料的塑封料(环氧树脂),该无填料的塑封料(环氧树脂)将基岛和引脚下部外围、引脚下部与基岛下部以及引脚下部与引脚下部连接成一体,且使所述柱子根部埋入该无填料的塑封料(环氧树脂)内,
步骤十八、基岛和引脚的背面以及引脚的正面进行金属层电镀被覆
对已完成步骤十七包封无填料塑封料作业的所述基岛和引脚的背面以及步骤十二所述露出有填料塑封料(环氧树脂)的引脚正面局部单元区域分别进行第二金属层和第一金属层的电镀被覆作业,
步骤十九、切割成品
将已完成步骤十八第二金属层电镀被覆的半成品进行切割作业,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片正装单颗封装结构成品。
本发明的有益效果是:
1、引线框耐超高温(200℃以上)
由于采用了双面图形蚀刻引线框技术,一次完成引线框的正、背两面双面蚀刻,同时封装时先进行引线框正面的高温装片打线再进行引线框背面的引脚包裹作业,使装片打线时只有引线框一种材料,在使用超高温的制程过程中因没有多种材料膨胀系数不同所带来的冲击,确保了引线框的耐超高温(一般是200℃以下)性能。
2、能确保引线框装片强度
因为不先做预包封,引线框装片时承受的压力大,打线时会使引线框产生振动,引线框会出现下陷现象。本发明通过在引线框背面留有柱子的设计,以增加打线时引线框的强度。
3、确保不会再有产生掉脚的问题
由于采用了双面蚀刻的工艺技术,所以可以轻松的规划设计与制造出上大下小的引脚结构,可以使上下层塑封料紧密的将上大下小的引脚结构一起包裹住,所以塑封体与引脚的束缚能力就变大了,不会再有产生掉脚的问题。
4、确保金属线的长度缩短
1)由于应用了引线框背面与正面同时且分开蚀刻的技术,所以能够将引线框正面的引脚尽可能的延伸到后续需装芯片的区域旁边,促使芯片与引脚距离大幅的缩短,如图47~图48,如此金属线的长度也缩短了,金属线的成本也可以大幅的降低(尤其是昂贵的纯金质的金属线);
2)也因为金属线的长度缩短使得芯片的信号输出速度也大幅的增速(尤其存储类的产品以及需要大量数据的计算,更为突出),由于金属线的长度变短了,所以金属线所存在的寄生电阻/寄生电容与寄生电杆对信号的干扰也大幅度的降低。
5、使封装的体积与面积可以大幅度的缩小
因运用了引脚的延伸技术,所以可以容易的制作出高脚数与高密度的脚与脚之间的距离,使得封装的体积与面积可以大幅度的缩小。
6、材料成本和材料用量减少
因为将封装后的体积大幅度的缩小,更直接的体现出材料成本大幅度的下降与因为材料用量的减少也大幅度的减少废弃物环保的困扰。
7、采用局部單元的单颗封装的优点有:
1)在不同的应用中可以将塑封体边缘的引脚伸出塑封体。
2)塑封体边缘的引脚伸出塑封体外可以清楚的检查出焊接在PCB板上的情况。
3)模块型的面积较大会容易因为多种不同的材料结构所产生收缩率不同的应立变形,而局部单元的单颗封装就可以完全分散多种不同的材料结构所产生收缩率不同的应立变形。
4)单颗封装在进行塑封体切割分离时,因为要切割的厚度只有引脚的厚度,所以切割的速度可以比模块型的封装结构要来得快很多,且切割用的刀片因为切割的厚度便薄了所以切割刀片的寿命相对的也就变的更长了。
(四)附图说明
图1(A)~图1(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例1各工序示意图。
图2为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例1结构示意图。
图3为图2的俯视图。
图4(A)~图4(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例2各工序示意图。
图5为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例2结构示意图。
图6为图5的俯视图。
图7(A)~图7(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例3各工序示意图。
图8为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例3结构示意图。
图9为图8的俯视图。
图10(A)~图10(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例4各工序示意图。
图11为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例4结构示意图。
图12为图11的俯视图。
图13(A)~图13(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例5各工序示意图。
图14为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例5结构示意图。
图15为图14的俯视图。
图16(A)~图16(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例6各工序示意图。
图17为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例6结构示意图。
图18为图17的俯视图。
图19(A)~图19(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例7各工序示意图。
图20为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例7结构示意图。
图21为图20的俯视图。
图22(A)~图22(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例8各工序示意图。
图23为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例8结构示意图。
图24为图23的俯视图。
图25(A)~图25(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例9各工序示意图。
图26为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例9结构示意图。
图27为图26的俯视图。
图28(A)~图28(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例10各工序示意图。
图29为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例10结构示意图。
图30为图29的俯视图。
图31(A)~图31(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例11各工序示意图。
图32为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例11结构示意图。
图33为图32的俯视图。
图34(A)~图34(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例12各工序示意图。
图35为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例12结构示意图。
图36为图35的俯视图。
图37(A)~图37(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例13各工序示意图。
图38为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例13结构示意图。
图39为图38的俯视图。
图40(A)~图40(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例14各工序示意图。
图41为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例14结构示意图。
图42为图41的俯视图。
图43为以往采用金属基板的正面进行化学蚀刻及表面电镀层作业图。
图44为以往形成的掉脚图。
图45为以往的封装结构一示意图。
图46为45的俯视图。
图47为以往的封装结构二示意图。
图48为47的俯视图。
图中附图标记:
基岛1、引脚2、无填料的塑封料(环氧树脂)3、第一金属层4、第二金属层5、导电或不导电粘结物质6、芯片7、金属线8、有填料塑封料(环氧树脂)9、柱子10、金属基板11、光阻胶膜12、光阻胶膜13、光阻胶膜14、光阻胶膜15、连筋16、光阻胶膜17、光阻胶膜18;第三基岛1.1、第三基岛1.2、第三基岛1.3、第四基岛1.4。
(五)具体实施方式
本发明双面图形芯片正装单颗封装结构及其封装方法如下:
实施例1:单基岛单圈引脚
参见图2和图3,图2为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例1结构示意图。图3为图2的俯视图。由图2和图3可以看出,本发明双面图形芯片正装单颗封装结构,包括基岛1、引脚2、无填料的塑封料(环氧树脂)3、导电或不导电粘结物质6、芯片7、金属线8和有填料塑封料(环氧树脂)9,所述引脚2正面延伸到基岛1旁边,在所述基岛1和引脚2的正面设置有第一金属层4,在所述基岛1和引脚2的背面设置有第二金属层5,在所述基岛1正面第一金属层4上通过导电或不导电粘结物质6设置有芯片7,芯片7正面与引脚2正面第一金属层4之间用金属线8连接,在所述基岛1和引脚2的上部以及芯片7和金属线8外包封有填料塑封料(环氧树脂)9,该有填料塑封料(环氧树脂)9将引脚2正面局部单元进行包覆,在所述基岛1和引脚2外围的区域、引脚2与基岛1之间的区域以及引脚2与引脚2之间的区域嵌置有无填料的塑封料(环氧树脂)3,所述无填料的塑封料(环氧树脂)3将基岛1和引脚2下部外围、引脚2下部与基岛1下部以及引脚2下部与引脚2下部连接成一体,且使所述基岛和引脚背面尺寸小于基岛和引脚正面尺寸,形成上大下小的基岛和引脚结构,在所述引脚2背面设置有柱子10,柱子10根部埋入所述无填料的塑封料(环氧树脂)3内。
其封装方法如下:
步骤一、取金属基板
参见图1(A),取一片厚度合适的金属基板11。金属基板的材质可以依据芯片的功能与特性进行变换,例如:铜、铝、铁、铜合金或镍铁合金等。
步骤二、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
参见图1(B),利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜12和13,以保护后续的电镀金属层工艺作业。而此光阻胶膜可以是干式光阻薄胶膜也可以是湿式光阻胶膜。
步骤三、金属基板正面的光阻胶膜进行需要电镀金属层区域的曝光/显影以及开窗
参见图1(C),利用曝光显影设备将步骤二完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出金属基板正面后续需要进行电镀金属层的区域。
步骤四、金属基板正面已开窗的区域进行金属层电镀被覆
参见图1(D),对步骤三中金属基板正面已开窗的区域进行第一金属层4电镀被覆,该第一金属层4置于所述基岛1与引脚2的正面。
步骤五、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
参见图1(E),将金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除。
步骤六、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
参见图1(F),利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜14和15,以保护后续的蚀刻工艺作业。而此光阻胶膜可以是干式光阻薄胶膜也可以是湿式光阻胶膜。
步骤七、金属基板的光阻胶膜进行需要双面蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
参见图1(G),利用曝光显影设备将步骤六完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面及背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出局部金属基板以备后续需要进行的金属基板双面蚀刻作业。
步骤八、金属基板进行双面蚀刻作业
参见图1(H),完成步骤七的曝光/显影以及开窗作业后,即在金属基板的正面及背面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出基岛1和引脚2的正面和背面,同时将引脚正面尽可能的延伸到基岛旁边,且使所述基岛1和引脚2的背面尺寸小于基岛1和引脚2的正面尺寸,形成上大下小的基岛1和引脚2结构;以及在引脚2背面形成柱子10,并在基岛1与引脚2之间和引脚2与引脚2之间留有连筋16。
步骤九、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
参见图1(I),将金属基板正面和背面余下的光阻胶膜全部揭除,制成引线框,
步骤十、装片
参见图1(J),在基岛1正面第一金属层4上通过导电或不导电粘结物质6进行芯片7的植入。
步骤十一、打金属线
参见图1(K),将已完成芯片植入作业的半成品进行芯片正面与引脚正面第一金属层之间打金属线8作业。
步骤十二、包封有填料塑封料(环氧树脂)
参见图1(L),将已打线完成的半成品正面进行局部单元包封有填料塑封料(环氧树脂)9作业,使引脚2正面局部单元区域露出有填料塑封料(环氧树脂)9,并进行塑封料包封后的固化作业,使基岛和引脚的上部以及芯片和金属线外均被有填料塑封料(环氧树脂)包封。
步骤十三、被覆光阻胶膜
参见图1(M),利用被覆设备在将已完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜17和18,以保护后续的蚀刻工艺作业。而此光阻胶膜可以是干式光阻薄胶膜也可以是湿式光阻胶膜。
步骤十四、已完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品的背面进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
参见图1(N),利用曝光显影设备将步骤十三完成光阻胶膜被覆作业的已完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出步骤八金属基板双面蚀刻作业后留有的连筋16以及在引脚2背面形成的柱子10,以备后续需要进行柱子根部和连筋蚀刻作业。
步骤十五、第二次蚀刻作业
参见图1(O),完成步骤十四的曝光/显影以及开窗作业后,即在完成包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的半成品背面进行各图形的蚀刻作业,将步骤八金属基板双面蚀刻作业后留有的连筋16全部蚀刻掉,在这个过程中所述柱子10的根部也会同时的蚀刻掉相对的厚度,使柱子根部不露出包封后的封装结构背面,避免产生断路。
步骤十六、半成品正面及背面进行光阻胶膜去膜
参见图1(P),将完成步骤十五蚀刻作业的半成品背面余下的光阻胶膜以及半成品正面的光阻胶膜全部揭除。
步骤十七、包封无填料的塑封料(环氧树脂)
参见图1(Q),将已完成步骤十六所述去膜作业的半成品背面进行包封无填料的塑封料(环氧树脂)作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使基岛1和引脚2外围的区域、引脚2与基岛1之间的区域以及引脚2与引脚2之间的区域均嵌置无填料的塑封料(环氧树脂)3,该无填料的塑封料(环氧树脂)3将基岛1和引脚2下部外围、引脚2下部与基岛1下部以及引脚2下部与引脚2下部连接成一体,且使所述柱子10根部埋入该无填料的塑封料(环氧树脂)3内。
特别说明:但也因为多了所述柱子10在封装体内,反而在封装体内的结构更为强壮了(好比混泥土中增加了钢筋又有强度又有韧性)
步骤十八、基岛和引脚的背面以及引脚的正面进行金属层电镀被覆
参见图1(R),对已完成步骤十七包封无填料塑封料作业的所述基岛和引脚的背面以及步骤十二所述露出有填料塑封料(环氧树脂)的引脚2正面区域分别进行第二金属层5和第一金属层4的电镀被覆作业,而电镀的材料可以是锡、镍金、镍钯金....等金属材质。
步骤十九、切割成品
参见图2和图3,将已完成步骤十八第二金属层电镀被覆的半成品进行切割作业,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片正装单颗封装结构成品。
实施例2:下沉基岛露出型单圈引脚
参见图4~6,图4(A)~图4(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例2各工序示意图。图5为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例2结构示意图。图6为图5的俯视图。由图4、图5和图6可以看出,实施例2与实施例1的不同之处仅在于:所述基岛1为下沉型基岛,即基岛1正面中央区域下沉。
实施例3:埋入型基岛单圈引脚
参见图7~9,图7(A)~图7(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例3各工序示意图。图8为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例3结构示意图。图9为图8的俯视图。由图7、图8和图9可以看出,实施例3与实施例1的不同之处仅在于:所述基岛1为埋入型基岛,即基岛1背面埋入所述无填料的塑封料(环氧树脂)3内。
实施例4:多凸点基岛露出型单圈引脚
参见图10~12,图10(A)~图10(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例4各工序示意图。图11为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例4结构示意图。图12为图11的俯视图。由图10、图11和图12可以看出,实施例4与实施例1的不同之处仅在于:所述基岛1为多凸点基岛,即基岛1表面设置有多个凸点。
实施例5:多个基岛露出型单圈引脚
参见图13~15,图13(A)~图13(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例5各工序示意图。图14为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例5结构示意图。图15为图14的俯视图。由图13~15可以看出,实施例5与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有多个,引脚2有单圈。
实施例6:多个下沉基岛露出型单圈引脚
参见图16~18,图16(A)~图16(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例6各工序示意图。图17为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例6结构示意图。图18为图17的俯视图。由图16~18可以看出,实施例6与实施例2的不同之处在于:所述基岛1有多个,引脚2有单圈。
实施例7:多个埋入型基岛单圈引脚
参见图19~21,图19(A)~图19(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例7各工序示意图。图20为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例7结构示意图。图21为图20的俯视图。由图19~21可以看出,实施例7与实施例3的不同之处在于:所述基岛1有多个,引脚2有单圈。
实施例8:多个多凸点基岛露出型单圈引脚
参见图22~24,图22(A)~图22(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例8各工序示意图。图23为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例8结构示意图。图24为图23的俯视图。由图22~24可以看出,实施例8与实施例4的不同之处在于:所述基岛1有多个,引脚2有单圈。
实施例9:基岛露出型及下沉基岛露出型单圈引脚
参见图25~27,图25(A)~图25(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例9各工序示意图。图26为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例9结构示意图。图27为图26的俯视图。由图25~27可以看出,实施例9与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有二组也可以是多组基岛,一组为第一基岛1.1,另一组为第二基岛1.2,所述第二基岛1.2正面中央区域下沉,在所述第一基岛1.1和引脚2的正面设置第一金属层4,在所述第一基岛1.1、第二基岛1.2和引脚2的背面设置第二金属层5,在第二基岛1.2正面中央下沉区域和第一基岛1.1正面通过导电或不导电粘结物质6设置芯片7,芯片7正面与引脚2正面第一金属层4之间以及芯片7与芯片7之间均用金属线8连接,在所述引脚2外围的区域、引脚2与第一基岛1.1之间的区域、第一基岛1.1与第二基岛1.2之间的区域、第二基岛1.2与引脚2之间的区域以及引脚2与引脚2之间的区域嵌置无填料塑封料3,所述无填料塑封料3将引脚下部外围、引脚2与第一基岛1.1下部、第一基岛1.1与第二基岛1.2下部、第二基岛1.2与引脚2下部以及引脚2与引脚2下部连接成一体,所述引脚2有单圈。
实施例10:基岛露出型及埋入型基岛单圈引脚
参见图28~30,图28(A)~图28(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例10各工序示意图。图29为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例10结构示意图。图30为图29的俯视图。由图28~30可以看出,实施例10与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有二组也可以是多组基岛,一组为第一基岛1.1,另一组为第三基岛1.3,在所述第一基岛1.1第三基岛1.3和引脚2的正面设置第一金属层4,在所述第一基岛1.1和引脚2的背面设置第二金属层5,芯片7正面与引脚2正面第一金属层4之间以及芯片7与芯片7之间均用金属线8连接,在所述引脚2外围的区域、引脚2与第一基岛1.1之间的区域、第三基岛1.3背面、第三基岛1.3与第一基岛1.1之间的区域、第三基岛1.3与引脚2之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置无填料塑封料3,所述无填料塑封料3将引脚下部外围、引脚2与第一基岛1.1下部、第三基岛1.3背面、第三基岛1.3背面与第一基岛1.1下部、第三基岛1.3背面与引脚2下部以及引脚2与引脚2下部连接成一体,所述引脚2设置有单圈。
实施例11:基岛露出型及多凸点基岛露出型单圈引脚
参见图31~33,图31(A)~图31(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例11各工序示意图。图32为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例11结构示意图。图33为图32的俯视图。由图31~33可以看出,实施例11与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有二组也可以是多组基岛,一组为第一基岛1.1,另一组为第四基岛1.4,所述第四基岛1.4正面设置成多凸点状结构,在所述引脚2外围的区域、引脚2与第一基岛1.1之间的区域、第一基岛1.1与第四基岛1.4之间的区域、第四基岛1.4与引脚2之间的区域以及引脚2与引脚2之间的区域嵌置无填料塑封料3,所述无填料的塑封料(环氧树脂)3将引脚下部外围、引脚2与第一基岛1.1下部、第一基岛1.1与第四基岛1.4下部、第四基岛1.4与引脚2下部以及引脚2与引脚2下部连接成一体,所述引脚2设置有单圈。
实施例12:下沉基岛露出型及埋入型基岛露出型单圈引脚
参见图34~36,图34(A)~图34(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例12各工序示意图。图35为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例12结构示意图。图36为图35的俯视图。由图34~36可以看出,实施例12与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有二组也可以是多组基岛,一组为第二基岛1.2,另一组为第三基岛1.3,所述第二基岛1.2正面中央区域下沉,在第二基岛1.2正面中央下沉区域和第三基岛1.3正面通过导电或不导电粘结物质6设置芯片7,在所述引脚2外围的区域、引脚2与第二基岛1.2之间的区域、第三基岛1.3背面、第二基岛背面1.2与第二基岛1.2之间的区域、第三基岛1.3背面与引脚2之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置无填料塑封料3,所述无填料塑封料3将引脚下部外围、引脚2与第二基岛1.2下部、第三基岛1.3、第三基岛1.3与第二基岛1.2下部、第三基岛1.3背面与引脚2下部以及引脚2与引脚2下部连接成一体,所述引脚2设置有一圈。
实施例13:下沉基岛露出型及多凸点基岛露出型单圈引脚
参见图37~39,图37(A)~图37(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例13各工序示意图。图38为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例13结构示意图。图39为图38的俯视图。由图37~39可以看出,实施例13与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有二组也可以是多组基岛,一组为第二基岛1.2,另一组为第四基岛1.4,所述第二基岛1.2正面中央区域下沉,第四基岛1.4正面设置成多凸点状结构,在所述第四基岛1.4和引脚2的正面设置第一金属层4,在所述第二基岛1.2、第四基岛1.4和引脚2的背面设置第二金属层5,在所述第二基岛1.2正面中央下沉区域和第四基岛1.4正面通过导电或不导电粘结物质6设置芯片7,在所述引脚2外围的区域、引脚2与第二基岛1.2之间的区域、第二基岛1.2与第四基岛1.4之间的区域、第四基岛1.4与引脚2之间的区域以及引脚2与引脚2之间的区域嵌置无填料塑封料3,所述无填料的塑封料(环氧树脂)3将引脚下部外围、引脚2与第二基岛1.2下部、第二基岛1.2与第四基岛1.4下部、第四基岛1.4与引脚2下部以及引脚2与引脚2下部连接成一体,所述引脚2设置有一圈。
实施例14:埋入型基岛及多凸点基岛露出型单圈引脚
参见图40~42,图40(A)~图40(R)为本发明双面图形芯片正装单颗封装方法实施例14各工序示意图。图41为本发明双面图形芯片正装单颗封装结构实施例14结构示意图。图42为图41的俯视图。由图40~42可以看出,实施例14与实施例1的不同之处在于:所述基岛1有二组也可以是多组基岛,一组为第三基岛1.3,另一组为第四基岛1.4,所述第四基岛1.4正面设置成多凸点状结构,在所述第三基岛1.3、第四基岛1.4和引脚2的正面设置第一金属层4,在所述第四基岛1.4和引脚2的背面设置第二金属层5,在所述引脚2外围的区域、引脚2与第四基岛1.4之间的区域、第三基岛1.3背面、第二基岛1.2与第四基岛1.4之间的区域、第三基岛1.3与引脚2之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置无填料塑封料3,所述无填料塑封料3将引脚下部外围、引脚2与第四基岛1.4下部、第三基岛1.3背面、第三基岛1.3背面与第四基岛1.4下部、第三基岛1.3背面与引脚2下部以及引脚2与引脚2下部连接成一体,所述引脚2设置有一圈。
Claims (13)
1.一种双面图形芯片正装单颗封装结构,包括基岛(1)、引脚(2)、无填料的塑封料(3)、导电或不导电粘结物质(6)、芯片(7)、金属线(8)和有填料塑封料(9),所述引脚(2)正面延伸到基岛(1)旁边,在所述基岛(1)和引脚(2)的正面设置有第一金属层(4),在所述基岛(1)和引脚(2)的背面设置有第二金属层(5),在所述基岛(1)正面第一金属层(4)上通过导电或不导电粘结物质(6)设置有芯片(7),芯片(7)正面与引脚(2)正面第一金属层(4)之间用金属线(8)连接,在所述基岛(1)和引脚(2)的上部以及芯片(7)和金属线(8)外包封有填料塑封料(9),在所述基岛(1)和引脚(2)外围的区域、引脚(2)与基岛(1)之间的区域以及引脚(2)与引脚(2)之间的区域嵌置有无填料的塑封料(3),所述无填料的塑封料(3)将基岛(1)和和引脚(2)下部外围、引脚(2)下部与基岛(1)下部以及引脚(2)下部与引脚(2)下部连接成一体,且使所述基岛和引脚背面尺寸小于基岛和引脚正面尺寸,形成上大下小的基岛和引脚结构,其特征在于:所述有填料塑封料(9)将引脚(2)正面局部单元进行包覆,在所述引脚(2)背面设置有柱子(10),柱子(10)根部埋入所述无填料的塑封料(3)内。
2.一种如权利要求1所述双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述方法包括以下工艺步骤:
步骤一、取金属基板
取一片厚度合适的金属基板,
步骤二、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,
步骤三、金属基板正面的光阻胶膜进行需要电镀金属层区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤二完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出金属基板正面后续需要进行电镀金属层的区域,
步骤四、金属基板正面已开窗的区域进行金属层电镀被覆
对步骤三中金属基板正面已开窗的区域进行第一金属层电镀被覆,该第一金属层置于所述基岛与引脚的正面,
步骤五、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,
步骤六、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤七、金属基板的光阻胶膜进行需要双面蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤六完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面及背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出局部金属基板以备后续需要进行的金属基板双面蚀刻作业,
步骤八、金属基板进行双面蚀刻作业
完成步骤七的曝光/显影以及开窗作业后,即在金属基板的正面及背面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出基岛和引脚的正面和背面,同时将引脚正面尽可能的延伸到基岛旁边,且使所述基岛和引脚的背面尺寸小于基岛和引脚的正面尺寸,形成上大下小的基岛和引脚结构;以及在引脚背面形成柱子,并在基岛与引脚之间以及引脚与引脚之间留有连筋,
步骤九、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板正面和背面余下的光阻胶膜全部揭除,制成引线框,
步骤十、装片
在步骤九制成的引线框的基岛正面第一金属层上通过导电或不导电粘结物质进行芯片的植入,
步骤十一、打金属线
将已完成芯片植入作业的半成品进行芯片正面与引脚正面第一金属层之间打金属线作业,
步骤十二、包封有填料塑封料
将已打线完成的半成品正面进行局部单元包封有填料塑封料作业,使引脚正面局部单元区域露出有填料塑封料,并进行塑封料包封后的固化作业,使基岛和引脚的上部以及芯片和金属线外均被有填料塑封料包封,
步骤十三、被覆光阻胶膜
利用被覆设备在将已完成包封有填料塑封料作业的半成品的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜和,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤十四、已完成包封有填料塑封料作业的半成品的背面进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤十三完成光阻胶膜被覆作业的已完成包封有填料塑封料作业的半成品背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出步骤八金属基板双面蚀刻作业后留有的连筋以及在引脚背面形成的柱子,以备后续需要进行柱子根部和连筋蚀刻作业,
步骤十五、第二次蚀刻作业
完成步骤十四的曝光/显影以及开窗作业后,即在完成包封有填料塑封料作业的半成品背面进行各图形的蚀刻作业,将步骤八金属基板双面蚀刻作业后留有的连筋全部蚀刻掉,在这个过程中所述柱子的根部也会同时的蚀刻掉相对的厚度,使柱子根部不露出包封后的封装结构背面,
步骤十六、半成品正面及背面进行光阻胶膜去膜
将完成步骤十五蚀刻作业的半成品背面余下的光阻胶膜以及半成品正面的光阻胶膜全部揭除,
步骤十七、包封无填料的塑封料
将已完成步骤十六所述去膜作业的半成品背面进行包封无填料的塑封料作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使基岛和引脚外围的区域、引脚与基岛之间的区域以及引脚与引脚之间的区域均嵌置无填料的塑封料,该无填料的塑封料将基岛和引脚下部外围、引脚下部与基岛下部以及引脚下部与引脚下部连接成一体,且使所述柱子根部埋入该无填料的塑封料内,
步骤十八、基岛和引脚的背面以及引脚的正面进行金属层电镀被覆
对已完成步骤十七包封无填料塑封料作业的所述基岛和引脚的背面以及步骤十二所述露出有填料塑封料的引脚正面局部单元区域分别进行第二金属层和第一金属层的电镀被覆作业,
步骤十九、切割成品
将已完成步骤十八第二金属层电镀被覆的半成品进行切割作业,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片正装单颗封装结构成品。
3.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于基岛(1)背面露出所述无填料的塑封料(3)。
4.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于基岛(1)正面中央区域下沉。
5.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于基岛1背面埋入所述无填料的塑封料3内。
6.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)正面设置成多凸点状结构。
7.根据权利要求2~6其中之一所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有多个,引脚(2)有单圈。
8.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有二组,一组为第一基岛(1.1),另一组为第二基岛(1.2),所述第二基岛(1.2)正面中央区域下沉,在所述第一基岛(1.1)和引脚(2)的正面设置有第一金属层(4),在所述第一基岛(1.1)、第二基岛(1.2)和引脚(2)的背面设置有第二金属层(5),在第二基岛(1.2)正面中央下沉区域和第一基岛(1.1)正面通过导电或不导电粘结物质(6)设置有芯片(7),芯片(7)正面与引脚(2)正面第一金属层(4)之间以及芯片(7)与芯片(7)之间均用金属线(8)连接,在所述引脚(2)外围的区域、引脚(2)与第一基岛(1.1)之间的区域、第一基岛(1.1)与第二基岛(1.2)之间的区域、第二基岛(1.2)与引脚(2)之间的区域以及引脚(2)与引脚(2)之间的区域嵌置无填料塑封料(3),所述无填料塑封料(3)将引脚下部外围、引脚(2)与第一基岛(1.1)下部、第一基岛(1.1)与第二基岛(1.2)下部、第二基岛(1.2)与引脚(2)下部以及引脚(2)与引脚(2)下部连接成一体,所述引脚(2)设置有单圈。
9.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有二组,一组为第一基岛(1.1),另一组为第三基岛(1.3),在所述第一基岛(1.1)第三基岛(1.3)和引脚(2)的正面设置有第一金属层(4),在所述第一基岛(1.1)和引脚(2)的背面设置有第二金属层(5),在基岛(1)正面通过导电或不导电粘结物质(6)设置有芯片(7),芯片(7)正面与引脚(2)正面第一金属层(4)之间以及芯片(7)与芯片(7)之间均用金属线(8)连接,在所述基岛(1)和引脚(2)的上部以及芯片(7)和金属线(8)外包封有填料塑封料(9),在所述引脚(2)外围的区域、引脚(2)与第一基岛(1.1)之间的区域、第三基岛(1.3)背面、第二基岛(1.2)与第一基岛(1.1)之间的区域、第三基岛(1.3)与引脚(2)之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置无填料塑封料(3),所述无填料塑封料(3)将引脚下部外围、引脚(2)与第一基岛(1.1)下部、第三基岛(1.3)背面、第三基岛(1.3)背面与第一基岛(1.1)下部、第三基岛(1.3)背面与引脚(2)下部以及引脚(2)与引脚(2)下部连接成一体,所述引脚(2)设置有单圈。
10.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有二组,一组为第一基岛(1.1),另一组为第四基岛(1.4),所述第四基岛(1.4)正面设置成多凸点状结构,在所述引脚(2)外围的区域、引脚(2)与第一基岛(1.1)之间的区域、第一基岛(1.1)与第四基岛(1.4)之间的区域、第四基岛(1.4)与引脚(2)之间的区域以及引脚(2)与引脚(2)之间的区域嵌置无填料塑封料(3),所述无填料的塑封料(3)将引脚下部外围、引脚(2)与第一基岛(1.1)下部、第一基岛(1.1)与第四基岛(1.4)下部、第四基岛(1.4)与引脚(2)下部以及引脚(2)与引脚(2)下部连接成一体,所述引脚(2)设置有单圈。
11.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有二组也可以是多组基岛,一组为第二基岛(1.2),另一组为第三基岛(1.3),所述第二基岛(1.2)正面中央区域下沉,在第二基岛(1.2)正面中央下沉区域和第三基岛(1.3)正面通过导电或不导电粘结物质(6)设置有芯片(7),在所述引脚(2)外围的区域、引脚(2)与第二基岛(1.2)之间的区域、第三基岛(1.3)背面、第二基岛背面(1.2)与第二基岛(1.2)之间的区域、第三基岛(1.3)背面与引脚(2)之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置无填料塑封料(3),所述无填料塑封料(3)将引脚下部外围、引脚(2)与第二基岛(1.2)下部、第三基岛(1.3)、第三基岛(1.3)与第二基岛(1.2)下部、第三基岛(1.3)背面与引脚(2)下部以及引脚(2)与引脚(2)下部连接成一体,所述引脚(2)设置有单圈。
12.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有二组,一组为第二基岛(1.2),另一组为第四基岛(1.4),所述第二基岛(1.2)正面中央区域下沉,第四基岛(1.4)正面设置成多凸点状结构,在所述第四基岛(1.4)和引脚(2)的正面设置有第一金属层(4),在所述第二基岛(1.2)、第四基岛(1.4)和引脚(2)的背面设置有第二金属层(5),在所述第二基岛(1.2)正面中央下沉区域和第四基岛(1.4)正面通过导电或不导电粘结物质(6)设置有芯片(7),在所述引脚(2)外围的区域、引脚(2)与第二基岛(1.2)之间的区域、第二基岛(1.2)与第四基岛(1.4)之间的区域、第四基岛(1.4)与引脚(2)之间的区域以及引脚(2)与引脚(2)之间的区域嵌置无填料塑封料(3),所述无填料的塑封料(3)将引脚下部外围、引脚(2)与第二基岛(1.2)下部、第二基岛(1.2)与第四基岛(1.4)下部、第四基岛(1.4)与引脚(2)下部以及引脚(2)与引脚(2)下部连接成一体,所述引脚(2)设置有单圈。
13.根据权利要求2所述的一种双面图形芯片正装单颗封装结构的封装方法,其特征在于所述基岛(1)有二组,一组为第三基岛(1.3),另一组为第四基岛(1.4),所述第四基岛(1.4)正面设置成多凸点状结构,在所述第三基岛(1.3)、第四基岛(1.4)和引脚(2)的正面设置有第一金属层(4),在所述第四基岛(1.4)和引脚(2)的背面设置有第二金属层(5),在所述引脚(2)外围的区域、引脚(2)与第四基岛(1.4)之间的区域、第三基岛(1.3)背面、第二基岛(1.2)与第四基岛(1.4)之间的区域、第三基岛(1.3)与引脚(2)之间的区域以及引脚与引脚之间的区域嵌置无填料塑封料(3),所述无填料塑封料(3)将引脚下部外围、引脚(2)与第四基岛(1.4)下部、第三基岛(1.3)背面、第三基岛(1.3)背面与第四基岛(1.4)下部、第三基岛(1.3)背面与引脚(2)下部以及引脚(2)与引脚(2)下部连接成一体,所述引脚(2)设置有单圈。
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
CN103681578A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-03-26 | 华天科技(西安)有限公司 | 一种基于框架采用引脚优化技术的扁平封装件及其制作工艺 |
CN106783788A (zh) * | 2014-08-28 | 2017-05-31 | 联测总部私人有限公司 | 具有布线迹线的半导体封装 |
CN113471155A (zh) * | 2021-04-02 | 2021-10-01 | 江苏尊阳电子科技有限公司 | 一种背面预蚀的封装结构的封装工艺 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1635635A (zh) * | 2004-12-17 | 2005-07-06 | 江苏长电科技股份有限公司 | 直接连结式芯片封装结构 |
US20070296067A1 (en) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Bga semiconductor package and method of fabricating the same |
CN201051498Y (zh) * | 2007-05-30 | 2008-04-23 | 宁波康强电子股份有限公司 | 集成电路引线框架 |
US20090108423A1 (en) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor package |
US20090224384A1 (en) * | 2008-03-07 | 2009-09-10 | Chipmos Technologies Inc. | Chip package |
CN201936874U (zh) * | 2010-09-04 | 2011-08-17 | 江苏长电科技股份有限公司 | 双面图形芯片正装单颗封装结构 |
-
2010
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1635635A (zh) * | 2004-12-17 | 2005-07-06 | 江苏长电科技股份有限公司 | 直接连结式芯片封装结构 |
US20070296067A1 (en) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Bga semiconductor package and method of fabricating the same |
CN201051498Y (zh) * | 2007-05-30 | 2008-04-23 | 宁波康强电子股份有限公司 | 集成电路引线框架 |
US20090108423A1 (en) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor package |
US20090224384A1 (en) * | 2008-03-07 | 2009-09-10 | Chipmos Technologies Inc. | Chip package |
CN201936874U (zh) * | 2010-09-04 | 2011-08-17 | 江苏长电科技股份有限公司 | 双面图形芯片正装单颗封装结构 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103681578A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-03-26 | 华天科技(西安)有限公司 | 一种基于框架采用引脚优化技术的扁平封装件及其制作工艺 |
CN106783788A (zh) * | 2014-08-28 | 2017-05-31 | 联测总部私人有限公司 | 具有布线迹线的半导体封装 |
CN113471155A (zh) * | 2021-04-02 | 2021-10-01 | 江苏尊阳电子科技有限公司 | 一种背面预蚀的封装结构的封装工艺 |
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