CN101893977B - 触摸屏、彩膜基板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种触摸屏、彩膜基板及其制造方法。触摸屏包括基板，所述基板上设置有形成数个触摸感受区域的数条第一信号线和第二信号线，所述第一信号线与第一压电开关连接，所述第二信号线与第二压电开关连接，所述第一压电开关和第二压电开关用于在触摸感受区域被触摸受压时导通，并分别通过所述第一信号线和第二信号线传递电压信号，以确定被触摸的触摸感受区域的位置坐标。本发明利用压电薄膜在受压时薄膜表面形成电荷的原理，采用信号线和压电开关的结构形式，具有结构简单、成本低、精度高和寿命长等优点。

Description

触摸屏、彩膜基板及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种触摸装置及其制造方法，特别是一种触摸屏、彩膜基板及其制造方法。

背景技术

现有触摸屏有多种结构类型，按照工作原理划分，主要包括电感式、电容式和电阻式几种类型，其中电阻式触摸屏利用压力感应进行控制。电阻式触摸屏的主要结构是一块与显示器表面紧密配合的电阻薄膜，电阻薄膜与显示器配合使用，如果能测量出触摸点在显示器上的坐标位置，则可根据显示屏上对应坐标点的显示内容或图形获知触摸者的意图。目前，现有技术应用于液晶显示器的电阻式触摸屏主要包括二种类型：四线电阻触摸屏和五线电阻触摸屏。

四线电阻触摸屏是一种具有四层结构的复合薄膜，下部外层以玻璃板或硬塑料板作为基层，下部内层为涂覆在基层内表面上的透明导电薄膜(如氧化铟锡ITO)，上部外层为防表面硬化和防划伤的塑料层，塑料层的内表面也涂有透明导电薄膜，两个透明导电薄膜之间有许多细小的透明间隔点把两者隔开。两个透明导电薄膜是触摸屏的两个工作面，每个工作面的两端各涂有一条银胶，称为该工作面的一对电极，若在一个工作面的电极对上施加电压，则在该工作面上就会形成均匀连续的平行电压分布。当手指触摸塑料层外表面时，平时处于相互绝缘状态的两层透明导电薄膜就在触摸点位置接触。假如在一个方向(如X轴方向)的电极对上施加一确定的电压，而另一个方向(如Y轴方向)的电极对上不施加电压时，在X轴平行电场中，触点处的电压值可以在Y轴方向的电极对上反映出来，通过测量Y轴方向电极对上的电压值，便可得知触点X轴方向的坐标值。同理，当在Y轴方向的电极对上施加电压，而在X轴方向的电极对上不加电压时，通过测量X轴方向的电极对上的电压值，便可得知触点Y轴方向的坐标值。由于四线电阻触摸屏的导电层采用极薄的透明导电薄膜，当触摸面经常被触动时，透明导电薄膜很快会产生细小的裂纹，而裂纹一旦产生，原流经该处的电流被迫绕裂纹而行，本该均匀分布的电压随之遭到破坏，表现为触摸点不准确。随着裂纹的加剧和增多，触摸屏会慢慢失效，因此使用寿命短是四线电阻触摸屏的主要缺陷。

五线电阻触摸屏虽然也是四层结构的复合薄膜，但下部外层的玻璃板上形成有两个方向电压场的精密电阻网络，上部外层的塑料层形成有仅用来当作纯导体的镍金导电层，也就是说，五线电阻触摸屏将两个方向的电压场分时工作加在同一工作面上，有触摸后分时检测触摸点X轴和Y轴的电压值，最终测得触摸点的位置坐标。五线电阻触摸屏的工作面需四条引线，导体面需一条引线，因此该结构引出线共有5条。虽然五线电阻触摸屏通过采用延展性好、电阻率低的镍金导电层提高了使用寿命，但该结构存在结构复杂、成本高等缺陷。此外，由于工艺限制，镍金导电层厚薄不均匀会造成电压场不均匀分布，出现由线性失真导致的精度降低等缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种触摸屏、彩膜基板及其制造方法，具有结构简单、成本低、精度高和寿命长等优点。

为了实现上述目的，本发明提供了一种触摸屏，包括基板，所述基板上设置有形成数个触摸感受区域的数条第一信号线和第二信号线，所述第一信号线与第一压电开关连接，所述第二信号线与第二压电开关连接，所述第一压电开关和第二压电开关用于在触摸感受区域被触摸受压时导通，并分别通过所述第一信号线和第二信号线传递电压信号，以确定被触摸的触摸感受区域的位置坐标。

所述第一压电开关包括第一有源层、源电极和漏电极，所述第一有源层由压电薄膜制成并形成在所述触摸感受区域内，作为源电极的第一信号线和作为漏电极且提供工作电压的第一电极分别连接第一有源层，第一信号线与第一电极之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二压电开关包括第二有源层、源电极和漏电极，所述第二有源层由压电薄膜制成并形成在所述触摸感受区域内，作为源电极的第二信号线和作为漏电极且提供工作电压的第二电极分别连接第二有源层，第二信号线与第二电极之间形成第二压电开关沟道区域。

为了实现上述目的，本发明还提供了一种触摸屏制造方法，包括：

步骤11、在基板上沉积压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形；

步骤12、在完成步骤11的基板上形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，并在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线和第二电极与所述第二有源层连接，并在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤13、在完成步骤12的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置；

步骤14、在完成步骤13的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

为了实现上述目的，本发明提供了一种彩膜基板，包括基板，所述基板上形成有彩色树脂层和用于实现触摸位置坐标确定的触摸结构层，所述触摸结构层包括形成数个像素显示区域的数条第一信号线和第二信号线，所述第一信号线与第一压电开关连接，所述第二信号线与第二压电开关连接，所述第一压电开关和第二压电开关用于在像素显示区域被触摸受压时导通，并分别通过所述第一信号线和第二信号线传递电压信号，以确定被触摸的像素显示区域的位置坐标。

所述第一压电开关包括第一有源层、源电极和漏电极，所述第一有源层由压电薄膜制成并形成在所述像素显示区域内，作为源电极的第一信号线和作为漏电极且提供工作电压的第一电极分别连接第一有源层，第一信号线与第一电极之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二压电开关包括第二有源层、源电极和漏电极，所述第二有源层由压电薄膜制成并形成在所述像素显示区域内，作为源电极的第二信号线和作为漏电极且提供工作电压的第二电极分别连接第二有源层上，第二信号线与第二电极之间形成第二压电开关沟道区域。

为了实现上述目的，本发明还提供了一种彩膜基板制造方法，包括：

步骤21、在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层；

步骤22、在完成步骤21的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤23、在完成步骤22的基板上形成彩色树脂层，同时形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤24、在完成步骤23的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤25、在完成步骤24的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的第一绝缘层和彩色树脂层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的第一绝缘层和彩色树脂层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤26、在完成步骤25的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

为了实现上述目的，本发明还提供了另一种彩膜基板制造方法，包括：

步骤31、在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层；

步骤32、在完成步骤31的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤33、在完成步骤32的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤34、在完成步骤33的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤35、在完成步骤34的基板上形成彩色树脂层，同时形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的彩色树脂层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的彩色树脂层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤36、在完成步骤35的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

为了实现上述目的，本发明还提供了另一种彩膜基板制造方法，包括：

步骤41、在基板上形成彩色树脂层；

步骤42、在完成步骤41的在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括遮光层、第一有源层和第二有源层的图形，所述遮光层位于第一有源层和第二有源层的下方；

步骤43、在完成步骤42的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤44、在完成步骤43的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤45、在完成步骤44的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤46、在完成步骤45的基板上沉积第二绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的第二绝缘层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的第二绝缘层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤47、在完成步骤46的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

为了实现上述目的，本发明还提供了另一种彩膜基板制造方法，包括：

步骤51、在基板上形成彩色树脂层；

步骤52、在完成步骤51的基板上沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，遮光层位于第一有源层和第二有源层的下方；

步骤53、在完成步骤52的基板上形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，并在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线和第二电极与所述第二有源层连接，并在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤54、在完成步骤53的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置；

步骤55、在完成步骤54的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本发明提出了一种触摸屏、彩膜基板及其制造方法，通过在一个基板上形成第一信号线、第二信号线、第一压电开关和第二压电开关，利用压电薄膜在受压时薄膜表面形成电荷使第一压电开关和第二压电开关导通，第一压电开关通过第一信号线和第二压电开关通过第二信号线传递电压信号，实现了触摸点位置坐标的确定。由于采用信号线和压电开关的结构形式，本发明具有结构简单、成本低、精度高和寿命长等优点。本发明触摸屏和彩膜基板的制备可采用现有成熟的生产设备和工艺，工艺简单，生产成本低，具有广泛的应用前景。

附图说明

图1为本发明触摸屏第一实施例的结构示意图；

图2为图1中A1-A1向的剖面图；

图3为图1中B1-B1向的剖面图；

图4为图1中C1-C1向的剖面图；

图5为本发明触摸屏第一实施例第一次构图工艺后的平面图；

图6为图5中A2-A2向的剖面图；

图7为图5中B2-B2向的剖面图；

图8为本发明触摸屏第一实施例第二次构图工艺后的平面图；

图9为图8中A3-A3向的剖面图；

图10为图8中B3-B3向的剖面图；

图11为图8中C3-C3向的剖面图；

图12为本发明触摸屏第一实施例第三次构图工艺后的平面图；

图13为图12中A4-A4向的剖面图；

图14为图12中B4-B4向的剖面图；

图15为图12中C4-C4向的剖面图；

图16为本发明触摸屏第一实施例第四次构图工艺后的平面图；

图17为图16中A5-A5向的剖面图；

图18为图16中B5-B5向的剖面图；

图19为图16中C5-C5向的剖面图；

图20为本发明触摸屏第二实施例的结构示意图；

图21为图20中A6-A6向的剖面图；

图22为图20中B6-B6向的剖面图；

图23为本发明触摸屏制造方法的流程图；

图24为本发明触摸屏制造方法第一实施例的流程图；

图25为本发明触摸屏制造方法第二实施例的流程图；

图26为本发明彩膜基板第一实施例的平面图；

图27为图26中D1-D1向的剖面图；

图28为图26中E1-E1向的剖面图；

图29为图26中F1-F1向的剖面图；

图30为本发明彩膜基板第一实施例形成彩色树脂层后的平面图；

图31为图30中D2-D2向的剖面图；

图32为图30中E2-E2向的剖面图；

图33为图30中F2-F2向的剖面图；

图34为本发明彩膜基板第一实施例第四次构图工艺后的平面图；

图35为图34中F3-F3向的剖面图；

图36为本发明彩膜基板第一实施例第五次构图工艺后的平面图；

图37为图36中D4-D4向的剖面图；

图38为图36中E4-E4向的剖面图；

图39为图36中F4-F4向的剖面图；

图40、图41为本发明彩膜基板第二实施例的结构示意图；

图42、图43为本发明彩膜基板第三实施例的结构示意图；

图44为本发明彩膜基板制造方法第一实施例的流程图；

图45为本发明彩膜基板制造方法第二实施例的流程图；

图46为本发明彩膜基板制造方法第三实施例的流程图；

图47为本发明彩膜基板制造方法第四实施例的流程图。

附图标记说明：

10-基板；      11-第一有源层；12-第二有源层；

13-遮光层；    14-第一绝缘层；15-彩色树脂层；

16-第二绝缘层；21-第一信号线；22-第二信号线；

31-第一电极；  32-第二电极；  41-第一过孔；

42-第二过孔；  43-第三过孔；  44-第四过孔；

45-第五过孔；  46-第六过孔；  51-工作电极；

52-连接电极。

具体实施方式

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

图1为本发明触摸屏第一实施例的结构示意图，所反映的是二个触摸感受区域的结构，图2为图1中A1-A1向的剖面图，图3为图1中B1-B1向的剖面图，图4为图1中C1-C1向的剖面图。如图1～图4所示，本发明触摸屏的主体结构包括形成在基板10上的数条第一信号线21、数条第二信号线22、数个第一压电开关和数个第二压电开关，相互垂直且绝缘的第一信号线21和第二信号线22定义了数个触摸感受区域，第一压电开关和第二压电开关设置在触摸感受区域内，第一压电开关与第一信号线21连接，第二压电开关与第二信号线22连接。其中，第一信号线21为横向延伸的整体连续结构，第二信号线22为纵向延伸的分体间断结构，第二信号线22分别形成在相邻的两个第一信号线21之间，在每个第一信号线21的两侧形成间断点，分体间断结构的第二信号线22通过连接电极52相互连接。具体地，本实施例触摸屏包括形成在基板10上的第一有源层11和第二有源层12，横向延伸的第一信号线21压设在第一有源层11上，第一有源层11上还压设有第一电极31，第一电极31与第一信号线21之间形成第一压电开关沟道区域，使第一有源层11、第一信号线21和第一电极31一起构成第一压电开关，第一有源层11作为传输层，第一信号线21作为源电极(或漏电极)，第一电极31作为漏电极(或源电极)；纵向延伸的第二信号线22压设在第二有源层12上，第二有源层12上还压设有第二电极32，第二电极32与第二信号线22之间形成第二压电开关沟道区域，使第二有源层12、第二信号线22和第二电极32一起构成第二压电开关，第二有源层12作为传输层，第二信号线22作为源电极(或漏电极)，第二电极32作为漏电极(或源电极)；第一信号线21、第一电极31、第二信号线22和第二电极32上形成有第一绝缘层14，第一绝缘层14上分别开设有第一过孔41、第二过孔42、第三过孔43和第四过孔44，第一过孔41开设在第一电极31所在位置，第二过孔42开设在第二电极32所在位置，第三过孔43和第四过孔44分别开设在间断点两侧第二信号线22的端部；第一绝缘层14上形成有工作电极51和连接电极52，连接电极52通过第三过孔43和第四过孔44使位于数个第一信号线21之间的第二信号线22连接成整体连续结构，工作电极51形成在连接电极52的以外区域，通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔42与第二电极32连接。

本实施例通过在一个基板上形成第一信号线、第二信号线、第一压电开关和第二压电开关，利用压电薄膜在受压时薄膜表面形成电荷使第一压电开关和第二压电开关导通，第一压电开关通过第一信号线和第二压电开关通过第二信号线传递电压信号，实现了触摸感受区域(触摸点)位置坐标的确定。工作时，由于工作电极上施加有工作电压(如5V)，因此相当于在第一压电开关的第一电极和第二压电开关的第二电极上施加有工作电压。没有触摸时，由于第一信号线与第一电极之间的第一压电开关沟道区域和第二信号线与第二电极之间的第二压电开关沟道区域处于绝缘状态，因此第一压电开关和第二压电开关截止，第一信号线和第二信号线没有信号输出。当有物品(如手指)触摸本实施例触摸屏时，手指对基板施加的压力被传递到由压电薄膜材料制成的第一有源层和第二有源层上，该压力使第一有源层和第二有源层的表面形成电荷，该表面电荷使第一压电开关沟道区域和第二压电开关沟道区域处于导通状态，即第一压电开关和第二压电开关导通，因此第一信号线和第二信号线有电压信号输出。由于第一信号线只与第一压电开关连接，只输出一个方向的电压信号，第二信号线只与第二压电开关连接，只输出另一个方向的电压信号。如果将数条横向设置的第一信号线用行号标识，将数条纵向设置的第二信号线用列号标识，因此通过某一行或某几行第一信号线输出的电压信号可以确定该触摸点(触摸感受区域)所对应的行号，通过某一列或某几列第二信号线输出的电压信号可以确定该触摸点所对应的列号，根据行号和列号即可确定触摸点的位置坐标。

本实施例上述技术方案中，压电薄膜可以采用锆钛酸铅(PZT)、氧化锌(ZnO)、氮化铝(AlN)等材料。实际使用中，可以根据使用需要，在第一有源层11和第二有源层12的下方形成有遮光层13，遮光层13可以用于遮挡光线，起到黑矩阵的作用。本实施例的每个触摸感受区域作为一个基本单元，其面积大小与触摸点的触摸精度有关，对于同等面积的基板，第一信号线与第二信号线所定义的触摸感受区域数量越多，触摸感受区域的面积越小，触摸精度越高。由于实际应用中触摸点的面积远远大于一个触摸感受区域的面积，因此本实施例触摸屏结构中的第一压电开关和第二压电开关既可以设置在一个触摸感受区域内，也可以分别设置在两个相邻(如图1所示实施例)或相近的触摸感受区域内。

从上述技术方案可以看出，由于采用信号线和压电开关的结构形式，因此本实施例触摸屏具有结构简单、成本低、精度高和寿命长等优点。与现有技术四线电阻触摸屏相比，本实施例由导电薄膜制成的工作电极只起到提供工作电压的作用，即使出现损伤(如裂纹)也不会影响触摸屏工作，极大地提高了使用寿命。与现有技术五线电阻触摸屏相比，本实施例通过将信号线和压电开关集成在一个基板上，不仅简化了结构，而且降低了工艺要求，即使出现薄膜厚薄不均匀，也不会影响触摸点确定精度。本实施例触摸屏的制备可采用现有成熟的生产设备和工艺，工艺简单，生产成本低，具有广泛的应用前景。

图5～图19为本发明第一实施例触摸屏制造过程的示意图，可以进一步说明本实施例触摸屏的技术方案。在以下说明中，本发明所称的构图工艺包括光刻胶涂覆、掩模、曝光、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。

图5为本发明触摸屏第一实施例第一次构图工艺后的平面图，所反映的是二个触摸感受区域的结构，图6为图5中A2-A2向的剖面图，图7为图5中B2-B2向的剖面图。首先采用磁控溅射或热蒸发的方法，在基板10(如玻璃基板或石英基板)上沉积一层第一金属薄膜，第一金属薄膜可以采用单层薄膜，也可以采用由多层金属薄膜构成的复合薄膜。然后采用金属有机化学气相淀积(MOCVD)或磁控溅射方法，沉积一层压电薄膜。采用普通掩模板对第一金属薄膜和压电薄膜进行构图，在基板10上形成包括第一有源层11和第二有源层12的图形，如图5～图7所示。本次构图工艺后，第一有源层11位于一个触摸感受区域内，第二有源层12位于另一个触摸感受区域内，实际应用中也可以将第一有源层11和第二有源层12设置在相同的触摸感受区域内。由第一金属薄膜构成的遮光层13分别位于第一有源层11和第二有源层12的下方。当第一金属薄膜和压电薄膜都采用磁控溅射方法沉积时，可以采用连续沉积的方法，在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜。

图8为本发明触摸屏第一实施例第二次构图工艺后的平面图，所反映的是二个触摸感受区域的结构，图9为图8中A3-A3向的剖面图，图10为图8中B3-B3向的剖面图，图11为图8中C3-C3向的剖面图。在完成图5所示结构图形的基板上，采用磁控溅射或热蒸发的方法，沉积一层第二金属薄膜，第二金属薄膜可以采用单层薄膜，也可以采用由多层金属薄膜构成的复合薄膜。采用普通掩模板对第二金属薄膜进行构图，形成包括第一信号线21、第一电极31、第二信号线22和第二电极32的图形，如图8～图11所示。其中，第一信号线21为横向延伸的整体连续结构，压设在每个第一有源层11上；第二信号线22为纵向延伸的分体间断结构，形成在相邻的两个第一信号线21之间，在每个第一信号线21的两侧形成间断点，并压设在每个第二有源层12上；第一电极31设置在每个第一有源层11上，使第一电极31与第一信号线21之间形成第一压电开关沟道区域；第二电极32设置在每个第二有源层12上，使第二电极32与第二信号线22之间形成第二压电开关沟道区域。

图12为本发明触摸屏第一实施例第三次构图工艺后的平面图，所反映的是二个触摸感受区域的结构，图13为图12中A4-A4向的剖面图，图14为图12中B4-B4向的剖面图，图15为图12中C4-C4向的剖面图。在完成图8所示结构图形的基板上，采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法，沉积一层第一绝缘层14，第一绝缘层14可以采用氧化物、氮化物或氧氮化合物。采用普通掩模板对第一绝缘层进行构图，形成包括第一过孔41、第二过孔42、第三过孔43和第四过孔44的图形，如图12～图15所示。其中，第一过孔41开设在第一电极31所在位置，第一过孔41内暴露出第一电极31的表面，第二过孔42开设在第二电极32所在位置，第二过孔42内暴露出第二电极32的表面，第三过孔43和第四过孔44分别开设在间断点两侧第二信号线22的端部，第三过孔43和第四过孔44内暴露出第二信号线22的表面。

图16为本发明触摸屏第一实施例第四次构图工艺后的平面图，所反映的是二个触摸感受区域的结构，图17为图16中A5-A5向的剖面图，图18为图16中B5-B5向的剖面图，图19为图16中C5-C5向的剖面图。在完成图12所示结构图形的基板上，采用磁控溅射或热蒸发的方法，沉积一层导电薄膜，采用普通掩模板对导电薄膜进行构图，形成包括工作电极51和连接电极52的图形，如图16～图19所示。其中，连接电极52形成在间断点两侧第二信号线22的端部之间，通过第三过孔43和第四过孔44与第二信号线22连接，使位于数个第一信号线21之间的第二信号线22通过第三过孔43、连接电极52和第四过孔44连接成整体连续结构。工作电极51形成在连接电极52的以外区域，与连接电极52隔离，覆盖住第一电极31和第二电极32，通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔42与第二电极32连接。实际使用中，导电薄膜可以采用金属薄膜或透明导电薄膜，透明导电薄膜包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)或氧化铝锌等材料。

图20为本发明触摸屏第二实施例的结构示意图，所反映的是二个触摸感受区域的结构，图21为图20中A6-A6向的剖面图，图22为图20中B6-B6向的剖面图。如图20～图22所示，本实施例触摸屏的主体结构和工作原理与前述第一实施例的技术方案基本相同，包括形成在基板10上的第一信号线21、第二信号线22、第一压电开关和第二压电开关，相互垂直且绝缘的第一信号线21和第二信号线22定义了触摸感受区域，第一压电开关和第二压电开关设置在同一个触摸感受区域内，第一压电开关与第一信号线21连接，第二压电开关与第二信号线22连接。其中，第一信号线21和第二信号线22均为整体连续结构，二者之间通过第一绝缘层14隔离。具体地，本实施例的第一有源层11和第二有源层12形成在基板10上；第一电极31和横向延伸的第一信号线21压设在第一有源层11上，并形成第一压电开关沟道区域，使第一有源层11、第一信号线21和第一电极31一起构成第一压电开关；第一绝缘层14形成在第一信号线21和第一电极31上并覆盖整个基板，第二有源层12所在位置的第一绝缘层14上分别开设有第五过孔45和第六过孔46；第二电极32和纵向延伸的第二信号线22形成在第一绝缘层14上，第二信号线22通过第五过孔45与第二有源层12连接，第二电极32通过第六过孔46也与第二有源层12连接，在第二电极32与第二信号线22之间形成第二压电开关沟道区域，使第二有源层12、第二信号线22和第二电极32一起构成第二压电开关；第二绝缘层16形成在第二信号线22和第二电极32上并覆盖整个基板，第二绝缘层16上分别开设有第一过孔41和第二过孔42，第一过孔41开设在第一电极31所在位置，第二过孔42开设在第二电极32所在位置；工作电极51形成在第二绝缘层16上，通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔42与第二电极32连接。

本实施例触摸屏的制造过程具体为：首先在基板上沉积压电薄膜，形成包括第一有源层11和第二有源层12的图形，第一有源层11和第二有源层12位于相同的触摸感受区域内，第一有源层11和第二有源层12的下方也可以形成遮光层。在完成前述结构图形的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线21和第一电极31的图形，第一信号线21为横向延伸的整体连续结构，压设在每个第一有源层11上；第一电极31设置在每个第一有源层11上，使第一电极31与第一信号线21之间形成第一压电开关沟道区域。在完成前述结构图形的基板上沉积第一绝缘层14，通过构图工艺形成包括第五过孔45和第六过孔46的图形，第五过孔45和第六过孔46开设在第二有源层12所在位置，暴露出第二有源层12的表面。在完成前述结构图形的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括第二信号线22和第二电极32的图形，第二信号线22为纵向延伸的整体连续结构，通过第五过孔45与第二有源层12连接，第二电极32通过第六过孔46也与第二有源层12连接，使第二电极32与第二信号线22之间形成第二压电开关沟道区域。第三金属薄膜的材料可以与第二金属薄膜的材料相同。在完成前述结构图形的基板上沉积第二绝缘层16，通过构图工艺形成包括第一过孔41和第二过孔42的图形，第一过孔41开设在第一电极31所在位置，第一过孔41内的第一绝缘层14和第二绝缘层16被刻蚀掉，暴露出第一电极31的表面，第二过孔42开设在第二电极32所在位置，第二过孔42内的第二绝缘层16被刻蚀掉，暴露出第二电极32的表面。最后在完成前述结构图形的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极51的图形，工作电极51覆盖住第一电极31和第二电极32，通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔42与第二电极32连接。

需要说明的是，本发明触摸屏上述实施例仅仅是一种示意性的实现结构，实际应用中，可以通过修改、调整和替换形成多种结构变形。例如，对于第一实施例，可以采用第二信号线为纵向延伸的整体连续结构，第一信号线为横向延伸的分体间断结构，在每个第二信号线的两侧形成间断点；或第一压电开关和第二压电开关所在的触摸感受区域既可以是横向相邻或纵向相邻，也可以间隔设置。又如，对于第二实施例，可以先形成第二信号线和第二电极，然后再形成第一信号线和第一电极等。此外，工作电极的形状也可以根据需要设置成其它形状，这里不再一一赘述。

图23为本发明触摸屏制造方法的流程图，包括：

步骤11、在基板上沉积压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形；

步骤12、在完成步骤11的基板上形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，并在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线和第二电极与所述第二有源层连接，并在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤13、在完成步骤12的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置；

步骤14、在完成步骤13的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本发明触摸屏制造方法技术方案中，步骤12可以通过多种制造方法形成多种结构形式的第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极，下面通过二个具体实施例予以说明。

图24为本发明触摸屏制造方法第一实施例的流程图，包括：

步骤111、在基板上沉积压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形；

步骤112、在完成步骤111的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤113、在完成步骤112的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔、第二过孔、第三过孔和第四过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤114、在完成步骤113的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极和连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接，所述工作电极形成在连接电极的以外区域，通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本实施例提供的触摸屏制造方法可以用于制备本发明触摸屏第一实施例的结构，制造方法的流程已在前述图5～图19所示实施例中详细说明。

图25为本发明触摸屏制造方法第二实施例的流程图，包括：

步骤211、在基板上沉积压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形；

步骤212、在完成步骤211的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线和第一电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；

步骤213、在完成步骤212的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第五过孔和第六过孔的图形，所述第五过孔和第六过孔开设在第二有源层所在位置；

步骤214、在完成步骤213的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括第二信号线和第二电极的图形，所述第二信号线通过第五过孔与所述第二有源层连接，所述第二电极通过第六过孔与所述第二有源层连接，在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤215、在完成步骤214的基板上沉积第二绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，暴露出第二电极的表面；

步骤216、在完成步骤215的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本实施例提供的触摸屏制造方法可以用于制备本发明触摸屏第二实施例的结构，制造方法的流程已经详细说明。

本发明提供了一种触摸屏制造方法，通过形成信号线和压电开关的结构形式，具有结构简单、成本低、精度高和寿命长等优点。本发明可以采用现有成熟的生产设备和工艺，工艺简单，生产成本低，具有广泛的应用前景。

实际使用中，可以根据使用需要，在第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层，遮光层可以用于遮挡光线，起到黑矩阵的作用。相应地，步骤11包括：在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层。

图26为本发明彩膜基板第一实施例的平面图，所反映的是三个像素显示区域的结构，图27为图26中D1-D1向的剖面图，图28为图26中E1-E1向的剖面图，图29为图26中F1-F1向的剖面图。如图26～图29所示，本实施例彩膜基板的主体结构包括形成在基板10上的触摸结构层和彩膜结构层，触摸结构层用于实现触摸点位置坐标的确定，彩膜结构层用于实现彩色显示。触摸结构层包括形成在基板10上的数条第一信号线21、数条第二信号线22、数个第一压电开关、数个第二压电开关和工作电极，相互垂直且绝缘的第一信号线21和第二信号线22定义了数个像素显示区域，第一压电开关和第二压电开关设置在像素显示区域内，第一信号线21与第一压电开关连接，第二信号线22与第二压电开关连接。彩膜结构层包括形成在彩膜基板上的彩色树脂层和公共电极，其中彩膜结构层的公共电极与触摸结构层的工作电极为一体结构。具体地，基板10上形成有第一有源层11和第二有源层12，由压电薄膜材料制成的第一有源层11和第二有源层12的下方形成有遮光层13，遮光层13可以起到黑矩阵遮挡光线的作用。横向延伸的第一信号线21压设在第一有源层11上，第一有源层11上还压设有第一电极31，第一电极31与第一信号线21之间形成第一压电开关沟道区域，使第一有源层11、第一信号线21和第一电极31一起构成第一压电开关，第一有源层11作为传输层，第一信号线21作为源电极(或漏电极)，第一电极32作为漏电极(或源电极)。纵向延伸的第二信号线22压设在第二有源层12上，第二有源层12上还压设有第二电极32，第二电极32与第二信号线22之间形成第二压电开关沟道区域，使第二有源层12、第二信号线22和第二电极32一起构成第二压电开关，第二有源层12作为传输层，第二信号线22作为源电极(或漏电极)，第二电极32作为漏电极(或源电极)。其中，第一信号线21为整体连续结构，第二信号线22为分体间断结构，第二信号线22分别形成在相邻的两个第一信号线21之间，在每个第一信号线21的两侧形成间断点，相互垂直的数条第一信号线21和数条第二信号线22形成数个像素显示区域。彩色树脂层15形成在第一信号线21、第一电极31、第二信号线22和第二电极32上，彩色树脂层15包括红色树脂图形、蓝色树脂图形和绿色树脂图形，每个颜色的图形对应一个像素显示区域，形成彩色像素显示区域；彩色树脂层15上分别开设有第三过孔43和第四过孔44，第三过孔43和第四过孔44分别开设在间断点两侧第二信号线22的端部。连接电极52形成在彩色树脂层15上，通过第三过孔43和第四过孔44与分体间断结构的第二信号线22连接，使位于数个第一信号线21之间的第二信号线22连接成整体连续结构。第一绝缘层14形成在连接电极52上并覆盖整个基板，第一绝缘层14上分别开设有第一过孔41和第二过孔42，第一过孔41开设在第一电极31所在位置，第一过孔41内的第一绝缘层14和彩色树脂层15被刻蚀掉，暴露出第一电极31的表面，第二过孔42开设在第二电极32所在位置，第二过孔42内的第一绝缘层14和彩色树脂层15被刻蚀掉，暴露出第二电极32的表面。工作电极51形成在第一绝缘层14上，一方面通过第一过孔41与第一电极31连接，另一方面通过第二过孔42与第二电极32连接，同时工作电极51还作为彩膜结构层的公共电极。

图30～图39为本发明彩膜基板第一实施例制造过程的示意图，可以进一步说明本发明彩膜基板的技术方案，相关沉积工艺和所采用材料同前所述，不再重复。

本发明彩膜基板第一实施例第一次构图工艺可参见图5～图7所示以及相应说明。本次构图工艺后，第一有源层11位于一个像素显示区域内，第二有源层12位于另一个像素显示区域内，实际应用中也可以将第一有源层11和第二有源层12设置在相同的像素显示区域内。本发明彩膜基板第一实施例第二次构图工艺可参见图8～图11所示以及相应说明。

图30为本发明彩膜基板第一实施例形成彩色树脂层后的平面图，所反映的是三个像素显示区域的结构，图31为图30中D2-D2向的剖面图，图32为图30中E2-E2向的剖面图，图33为图30中F2-F2向的剖面图。在完成前述工艺后，采用涂覆、光刻工艺形成彩色树脂层15，同时形成包括第三过孔43和第四过孔44的图形，如图30～图33所示。其中，第三过孔43和第四过孔44分别开设在间断点两侧第二信号线22的端部，第三过孔43和第四过孔44内的彩色树脂层15被刻蚀掉，暴露出第二信号线22的表面。本实施例形成彩色树脂层的过程是本领域通常采用的工艺，主要过程包括：首先涂覆一层红色树脂材料层，之后采用普通掩模板对红色树脂材料层进行曝光，使红色树脂材料层形成完全保留区域和完全去除区域，显影处理后，完全去除区域的红色树脂材料层被完全去除，完全保留区域的红色树脂材料层全部保留，烘烤处理后形成包括红色树脂、第三过孔和第四过孔的图形。采用相同方法，依次形成蓝色和绿色树脂图形，红色、蓝色和绿色树脂图形组成本实施例彩色树脂层，每个彩色树脂图形位于第一信号线和第二信号线限定的像素显示区域内，第一信号线和第二信号线同时起到黑矩阵的作用。实际上，形成三种颜色树脂图形可以采用任意次序。

图34为本发明彩膜基板第一实施例第四次构图工艺后的平面图，所反映的是三个像素显示区域的结构，图35为图34中F3-F3向的剖面图。在完成图30所示结构图形的基板上，采用磁控溅射或热蒸发的方法沉积一层第三金属薄膜，采用普通掩模板对第三金属薄膜进行构图，形成包括连接电极52的图形，如图34和图35所示。其中，连接电极52形成在间断点两侧第二信号线22的端部，通过第三过孔43和第四过孔44与第二信号线22连接，使位于数个第一信号线21之间的第二信号线22通过第三过孔43、连接电极52和第四过孔44连接成整体连续结构。

图36为本发明彩膜基板第一实施例第五次构图工艺后的平面图，所反映的是三个像素显示区域的结构，图37为图36中D4-D4向的剖面图，图38为图36中E4-E4向的剖面图，图39为图36中F4-F4向的剖面图。在完成图34所示结构图形的基板上，采用PECVD方法沉积一层第一绝缘层14，采用普通掩模板通过构图工艺形成包括第一过孔41和第二过孔42的图形，如图36～图39所示。其中，第一过孔41开设在第一电极31所在位置，第一过孔41内的第一绝缘层14和彩色树脂层15被刻蚀掉，暴露出第一电极31的表面，第二过孔42开设在第二电极32所在位置，第二过孔42内的第一绝缘层14和彩色树脂层15被刻蚀掉，暴露出第二电极32的表面。

最后，在完成图36所示结构图形的基板上，采用磁控溅射或热蒸发的方法沉积一层导电薄膜，形成工作电极51，工作电极51通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔42与第二电极32连接，如图26～图29所示。本实施例中，导电薄膜采用透明导电薄膜，使工作电极51同时作为彩膜结构层的公共电极。

本实施例提供了一种具有触摸功能的彩膜基板，利用触摸结构层实现触摸点位置坐标的确定，利用彩膜结构层实现彩色显示功能，触摸结构层采用了前述本发明触摸屏的技术方案，将现有技术的彩膜结构和本发明触摸结构有机地结合在一起，形成本实施例具有触摸功能的彩膜基板。本实施例彩膜基板中触摸结构层的结构形式和工作原理与本发明触摸屏技术方案基本相同，彩膜结构层的结构形式和工作原理与现有技术彩膜基板基本相同，所不同的是，触摸结构层的第一信号线和第二信号线结构除了起到传输信号的作用外，还起到遮挡光线的黑矩阵的作用，彩膜结构层的公共电极与触摸结构层的工作电极合为一体。

从上述技术方案可以看出，由于触摸结构层采用了前述本发明触摸屏的技术方案，因此从触摸功能来说，本实施例彩膜基板具有结构简单、成本低、精度高和寿命长等优点。由于触摸结构层的第一信号线和第二信号线还作为黑矩阵，且彩膜结构层的公共电极与触摸结构层的工作电极为同一结构，因此从彩膜功能来说，本实施例彩膜基板的结构复杂程度和生产成本增加不多，却提供了精度高、寿命长的触摸功能，具有广泛的应用前景。

实际应用中，本实施例彩膜基板中的第一压电开关和第二压电开关既可以设置在同一个像素显示区域内，也可以在每两个相邻或相近的像素显示区域内分别设置，还可以在30～100个像素显示区域内只设置一对压电开关，即只在30～100个像素显示区域范围内中的一个、两个、相邻或相近的像素显示区域内设置第一压电开关和第二压电开关，在保证触摸精度前提下，最大限度地降低触摸屏对显示性能的影响。

图40、图41为本发明彩膜基板第二实施例的结构示意图，其中图40所反映的是图26中D1-D1向的剖面图，图41所反映的是图26中F1-F1向的剖面图。如图40和图41所示，本实施例彩膜基板的主体结构和工作原理与前述第一实施例的技术方案基本相同，包括形成在基板上的触摸结构层和彩膜结构层，所不同的是，本实施例第一信号线21、第一电极31、第二信号线22和第二电极32上形成有第一绝缘层14，第一绝缘层14上分别开设有第三过孔43和第四过孔44，连接电极52形成在第一绝缘层14上，通过第三过孔43和第四过孔44与第二信号线22连接；彩色树脂层15形成在连接电极52以及连接电极52以外区域的第一绝缘层14上，彩色树脂层15上分别开设有第一过孔41和第二过孔，第一过孔41和第二过孔内的彩色树脂层15和第一绝缘层14被刻蚀掉，分别暴露出第一电极31和第二电极的表面；工作电极51形成在彩色树脂层15上，通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔与第二电极连接。本实施例中，导电薄膜采用透明导电薄膜，使工作电极51同时作为彩膜结构层的公共电极。

图42、图43为本发明彩膜基板第三实施例的结构示意图，其中图42所反映的是图26中D1-D1向的剖面图，图43所反映的是图26中F1-F1向的剖面图。如图42和图43所示，本实施例彩膜基板的主体结构和工作原理与前述第一实施例的技术方案基本相同，包括形成在基板上的触摸结构层和彩膜结构层，所不同的是，本实施例的彩色树脂层15形成在基板10上，遮光层13和第一有源层11、遮光层和第二有源层形成在彩色树脂层15上；第一电极31与第一信号线21之间形成第一压电开关沟道区域，第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；第一信号线21、第一电极31、第二信号线和第二电极上形成有第一绝缘层14，第一绝缘层14上开设有第三过孔43和第四过孔44，连接电极52形成在第一绝缘层14上，通过第三过孔43和第四过孔44与第二信号线22连接；第二绝缘层16形成在连接电极52以及连接电极52以外区域的第一绝缘层14上，第二绝缘层16上分别开设有第一过孔41和第二过孔，第一过孔41和第二过孔内的第二绝缘层16和第一绝缘层14被刻蚀掉，分别暴露出第一电极31和第二电极的表面；工作电极51形成在第二绝缘层16上，通过第一过孔41与第一电极31连接，通过第二过孔与第二电极连接。本实施例中，导电薄膜采用透明导电薄膜，使工作电极51同时作为彩膜结构层的公共电极。

需要说明的是，本发明彩膜基板上述实施例仅仅给出了几个示意性的实现结构，实际应用中，通过修改、调整和替换可以形成多种结构变形。例如，本发明彩膜基板前述第一实施例～第三实施例所涉及的是一种带有公共电极的彩膜基板结构，实际应用中，对于不设置公共电极的彩膜基板(如应用于FFS型薄膜晶体管液晶显示器的彩膜基板)，只需改变前述本发明彩膜基板三个实施例中工作电极的形状，即可形成仅作为触摸结构层工作电极的电极，这里不再赘述。进一步地，对于不设置公共电极的彩膜基板，可以通过彩色树脂层与前述本发明触摸屏第一、第二实施例的组合形成相应的彩膜基板技术方案。例如，可以将彩色树脂层形成在基板上，彩色树脂层上形成第一有源层和第二有源层，之后形成第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极，然后形成第一绝缘层，第一绝缘层上形成工作电极和连接电极。该方案中，为了保证FFS型薄膜晶体管液晶显示器的正常工作，可以将工作电极设置在作为黑矩阵的第一信号线和第二信号线的上方。

图44为本发明彩膜基板制造方法第一实施例的流程图，包括：

步骤21、在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层；

步骤22、在完成步骤21的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤23、在完成步骤22的基板上形成彩色树脂层，同时形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤24、在完成步骤23的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤25、在完成步骤24的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的第一绝缘层和彩色树脂层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的第一绝缘层和彩色树脂层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤26、在完成步骤25的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本实施例提供了一种彩膜基板制造方法，可以用于制备本发明彩膜基板第一实施例的结构。本实施例导电薄膜可以采用透明导电薄膜，工作电极作为彩膜结构层的公共电极。本实施例制造方法的流程已在前述图26～图39所示实施例中详细说明，这里不再赘述。

图45为本发明彩膜基板制造方法第二实施例的流程图，包括：

步骤31、在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层；

步骤32、在完成步骤31的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤33、在完成步骤32的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤34、在完成步骤33的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤35、在完成步骤34的基板上形成彩色树脂层，同时形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的彩色树脂层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的彩色树脂层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤36、在完成步骤35的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本实施例提供了另一种彩膜基板制造方法，可以用于制备本发明彩膜基板第二实施例的结构。本实施例导电薄膜可以采用透明导电薄膜，工作电极作为彩膜结构层的公共电极。本实施例制造方法的流程已在前述图40和图41所示实施例中说明，这里不再赘述。

图46为本发明彩膜基板制造方法第三实施例的流程图，包括：

步骤41、在基板上形成彩色树脂层；

步骤42、在完成步骤41的在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括遮光层、第一有源层和第二有源层的图形，所述遮光层位于第一有源层和第二有源层的下方；

步骤43、在完成步骤42的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤44、在完成步骤43的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤45、在完成步骤44的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤46、在完成步骤45的基板上沉积第二绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的第二绝缘层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的第二绝缘层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤47、在完成步骤46的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本实施例提供了再一种彩膜基板制造方法，可以用于制备本发明彩膜基板第三实施例的结构。本实施例导电薄膜可以采用透明导电薄膜，工作电极作为彩膜结构层的公共电极。本实施例制造方法的流程已在前述图42和图43所示实施例中说明，这里不再赘述。

图47为本发明彩膜基板制造方法第四实施例的流程图，包括：

步骤51、在基板上形成彩色树脂层；

步骤52、在完成步骤51的基板上沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述遮光层位于第一有源层和第二有源层的下方；

步骤53、在完成步骤52的基板上形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，并在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线和第二电极与所述第二有源层连接，并在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤54、在完成步骤53的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置；

步骤55、在完成步骤54的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

本实施例是彩膜结构层与本发明触摸屏制造方法技术方案的组合方案，导电薄膜可以采用金属薄膜或透明导电薄膜，其中触摸屏制造方法的流程已在前述实施例中说明，这里不再赘述。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (28)

1.一种触摸屏，包括基板，其特征在于，所述基板上设置有形成数个触摸感受区域的数条第一信号线和第二信号线，所述第一信号线与第一压电开关连接，所述第二信号线与第二压电开关连接，所述第一压电开关和第二压电开关用于在触摸感受区域被触摸受压时导通，并分别通过所述第一信号线和第二信号线传递电压信号，以确定被触摸的触摸感受区域的位置坐标；其中，

所述第一压电开关包括第一有源层、源电极和漏电极，所述第一有源层由压电薄膜制成并形成在所述触摸感受区域内，作为源电极的第一信号线和作为漏电极且提供工作电压的第一电极分别连接第一有源层，第一信号线与第一电极之间形成第一压电开关沟道区域；

所述第二压电开关包括第二有源层、源电极和漏电极，所述第二有源层由压电薄膜制成并形成在所述触摸感受区域内，作为源电极的第二信号线和作为漏电极且提供工作电压的第二电极分别连接第二有源层，第二信号线与第二电极之间形成第二压电开关沟道区域。

2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一信号线和第一电极压设在所述第一有源层上，所述第二信号线和第二电极压设在所述第二有源层上，所述第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极上形成有第一绝缘层，位于第一电极所在位置的第一绝缘层上开设有第一过孔，位于第二电极所在位置的第一绝缘层上开设有第二过孔，提供工作电压的工作电极形成在所述第一绝缘层上，通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

3.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一信号线为整体连续结构，所述第二信号线为形成在相邻的第一信号线之间的分体间断结构，分体间断结构的第二信号线通过连接电极相互连接，或所述第二信号线为整体连续结构，所述第一信号线为形成在相邻的第二信号线之间的分体间断结构，分体间断结构的第一信号线通过连接电极相互连接。

4.根据权利要求3所述的触摸屏，其特征在于，所述连接电极形成在第一绝缘层上，所述第一绝缘层上开设有第三过孔和第四过孔，所述连接电极通过所述第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第一信号线或第二信号线相互连接。

5.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一信号线和第一电极压设在所述第一有源层上，其上形成有第一绝缘层，所述第一绝缘层上开设有第五过孔和第六过孔，形成在第一绝缘层上的第二电极和第二信号线分别通过所述第五过孔和第六过孔与第二有源层连接；所述第二电极和第二信号线上形成有第二绝缘层，所述第二绝缘层上开设有第一过孔和第二过孔，提供工作电压的工作电极形成在所述第二绝缘层上，通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接，其中，所述第一过孔开在所述第一电极所在位置，所述第一过孔内的所述第一绝缘层和所述第二绝缘层被蚀刻掉，暴露出所述第一电极的表面。

6.根据权利要求1～5中任一权利要求所述的触摸屏，其特征在于，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层。

7.一种触摸屏制造方法，其特征在于，包括：

步骤11、在基板上沉积压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形；

步骤12、在完成步骤11的基板上形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，并在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线和第二电极与所述第二有源层连接，并在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤13、在完成步骤12的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置；

步骤14、在完成步骤13的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

8.根据权利要求7所述的触摸屏制造方法，其特征在于，所述步骤12包括：在完成步骤11的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；所述步骤13中还形成有第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；所述步骤14中还形成有连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接。

9.根据权利要求7所述的触摸屏制造方法，其特征在于，所述步骤12包括：在完成步骤11的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线和第一电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第五过孔和第六过孔的图形，所述第五过孔和第六过孔开设在第二有源层所在位置；沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括第二信号线和第二电极的图形，所述第二信号线通过第五过孔与所述第二有源层连接，所述第二电极通过第六过孔与所述第二有源层连接，在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域。

10.根据权利要求7～9中任一权利要求所述的触摸屏制造方法，其特征在于，所述步骤11包括：在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层。

11.一种彩膜基板，包括基板，其特征在于，所述基板上形成有彩色树脂层和用于实现触摸位置坐标确定的触摸结构层，所述触摸结构层包括形成数个像素显示区域的数条第一信号线和第二信号线，所述第一信号线与第一压电开关连接，所述第二信号线与第二压电开关连接，所述第一压电开关和第二压电开关用于在像素显示区域被触摸受压时导通，并分别通过所述第一信号线和第二信号线传递电压信号，以确定被触摸的像素显示区域的位置坐标；其中，

所述第一压电开关包括第一有源层、源电极和漏电极，所述第一有源层由压电薄膜制成并形成在所述像素显示区域内，作为源电极的第一信号线和作为漏电极且提供工作电压的第一电极分别连接第一有源层，第一信号线与第一电极之间形成第一压电开关沟道区域；

所述第二压电开关包括第二有源层、源电极和漏电极，所述第二有源层由压电薄膜制成并形成在所述像素显示区域内，作为源电极的第二信号线和作为漏电极且提供工作电压的第二电极分别连接第二有源层上，第二信号线与第二电极之间形成第二压电开关沟道区域。

12.根据权利要求11所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一信号线和第一电极压设在所述第一有源层上，所述第二信号线和第二电极压设在所述第二有源层上，所述第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极上形成有彩色树脂层和第一绝缘层，位于第一电极所在位置的彩色树脂层和第一绝缘层上开设有第一过孔，位于第二电极所在位置的彩色树脂层和第一绝缘层上开设有第二过孔，提供工作电压的工作电极形成在所述彩色树脂层或第一绝缘层上，通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

13.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，所述工作电极同时作为彩膜结构层的公共电极。

14.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一信号线为整体连续结构，所述第二信号线为形成在相邻的第一信号线之间的分体间断结构，分体间断结构的第二信号线通过连接电极相互连接，或所述第二信号线为整体连续结构，所述第一信号线为形成在相邻的第二信号线之间的分体间断结构，分体间断结构的第一信号线通过连接电极相互连接。

15.根据权利要求14所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色树脂层形成在第一信号线和第二信号线上，所述连接电极形成在所述彩色树脂层上，通过彩色树脂层上开设的第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第一信号线或第二信号线相互连接，所述第一绝缘层形成在所述连接电极上。

16.根据权利要求14所述的彩膜基板，其特征在于，第一绝缘层形成在第一信号线和第二信号线上，所述连接电极形成在所述第一绝缘层上，通过第一绝缘层上开设的第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第一信号线或第二信号线相互连接，所述彩色树脂层形成在所述连接电极上。

17.根据权利要求11所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色树脂层形成在基板上，所述第一信号线和第二信号线形成在彩色树脂层上；所述第一信号线为整体连续结构，所述第二信号线为形成在相邻的第一信号线之间的分体间断结构，分体间断结构的第二信号线通过连接电极相互连接，或所述第二信号线为整体连续结构，所述第一信号线为形成在相邻的第二信号线之间的分体间断结构，分体间断结构的第一信号线通过连接电极相互连接。

18.根据权利要求17所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一信号线和第二信号线上形成有第一绝缘层，所述连接电极形成在第一绝缘层上，通过第一绝缘层上开设的第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第一信号线或第二信号线相互连接。

19.根据权利要求18所述的彩膜基板，其特征在于，所述连接电极上形成有第二绝缘层，位于第一电极所在位置的第一绝缘层和第二绝缘层上开设有第一过孔，位于第二电极所在位置的第一绝缘层和第二绝缘层上开设有第二过孔，提供工作电压的工作电极形成在所述第二绝缘层上，通过所述第一过孔与第一电极连接，通过所述第二过孔与第二电极连接。

20.根据权利要求19所述的彩膜基板，其特征在于，所述工作电极同时作为彩膜结构层的公共电极。

21.根据权利要求11～20中任一权利要求所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层。

22.一种彩膜基板制造方法，其特征在于，包括：

步骤21、在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层；

步骤22、在完成步骤21的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤23、在完成步骤22的基板上形成彩色树脂层，同时形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤24、在完成步骤23的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤25、在完成步骤24的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的第一绝缘层和彩色树脂层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的第一绝缘层和彩色树脂层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤26、在完成步骤25的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

23.根据权利要求22所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述导电薄膜为透明导电薄膜，所述工作电极还作为公共电极。

24.一种彩膜基板制造方法，其特征在于，包括：

步骤31、在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，所述第一有源层和第二有源层的下方形成有遮光层；

步骤32、在完成步骤31的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤33、在完成步骤32的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤34、在完成步骤33的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤35、在完成步骤34的基板上形成彩色树脂层，同时形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的彩色树脂层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的彩色树脂层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤36、在完成步骤35的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

25.根据权利要求24所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述导电薄膜为透明导电薄膜，所述工作电极还作为公共电极。

26.一种彩膜基板制造方法，其特征在于，包括：

步骤41、在基板上形成彩色树脂层；

步骤42、在完成步骤41的在基板上依次沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括遮光层、第一有源层和第二有源层的图形，所述遮光层位于第一有源层和第二有源层的下方；

步骤43、在完成步骤42的基板上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线为整体连续结构，压设在第一有源层上，所述第一电极也设置在第一有源层上，使第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线为分体间断结构，形成在相邻的第一信号线之间，并压设在第二有源层上，所述第二电极也设置在第二有源层上，使第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤44、在完成步骤43的基板上沉积第一绝缘层，通过构图工艺形成包括第三过孔和第四过孔的图形，所述第三过孔和第四过孔分别开设在分体间断结构的第二信号线的端部；

步骤45、在完成步骤44的基板上沉积第三金属薄膜，通过构图工艺形成包括连接电极的图形，所述连接电极通过第三过孔和第四过孔使分体间断结构的第二信号线相互连接；

步骤46、在完成步骤45的基板上沉积第二绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，第一过孔内的第二绝缘层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第一电极的表面，所述第二过孔开设在第二电极所在位置，第二过孔内的第二绝缘层和第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出第二电极的表面；

步骤47、在完成步骤46的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成工作电极，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

27.根据权利要求26所述的彩膜基板制造方法，其特征在于，所述导电薄膜为透明导电薄膜，所述工作电极还作为公共电极。

28.一种彩膜基板制造方法，其特征在于，包括：

步骤51、在基板上形成彩色树脂层；

步骤52、在完成步骤51的基板上沉积第一金属薄膜和压电薄膜，通过构图工艺形成包括第一有源层和第二有源层的图形，遮光层位于第一有源层和第二有源层的下方；

步骤53、在完成步骤52的基板上形成包括第一信号线、第一电极、第二信号线和第二电极的图形，所述第一信号线和第一电极与所述第一有源层连接，并在第一电极与第一信号线之间形成第一压电开关沟道区域；所述第二信号线和第二电极与所述第二有源层连接，并在第二电极与第二信号线之间形成第二压电开关沟道区域；

步骤54、在完成步骤53的基板上沉积绝缘层，通过构图工艺形成包括第一过孔和第二过孔的图形，所述第一过孔开设在第一电极所在位置，所述第二过孔开设在第二电极所在位置；

步骤55、在完成步骤54的基板上沉积导电薄膜，通过构图工艺形成包括工作电极的图形，所述工作电极通过第一过孔与第一电极连接，通过第二过孔与第二电极连接。

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