CN101859860B - 具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法 - Google Patents
具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101859860B CN101859860B CN2010101709360A CN201010170936A CN101859860B CN 101859860 B CN101859860 B CN 101859860B CN 2010101709360 A CN2010101709360 A CN 2010101709360A CN 201010170936 A CN201010170936 A CN 201010170936A CN 101859860 B CN101859860 B CN 101859860B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- algainp
- emitting diode
- layer
- distributed bragg
- series light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/44—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
- H01L33/46—Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
本发明公开的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,包括以下工艺步骤:提供一临时基板;形成于临时基板正面上的外延层;形成于外延层上的分布布拉格反射层;形成开口结构于分布布拉格反射层中,使分布布拉格反射层呈网格状分布并暴露出外延层顶面的一部分;形成金属层设于分布布拉格反射层与外延层的顶面暴露部分上,并填满上述开口结构;选择一永久基板与金属层粘合;去除临时基板;分别在外延层底面、永久基板顶面形成第一电极、第二电极;切割得铝镓铟磷系发光二极管;采用本发明制作兼具分布布拉格反射层和金属反射层的铝镓铟磷系发光二极管,可最大限度地发挥反射层的优异反射性,有效地提高铝镓铟磷系发光二极管的发光效率。
Description
技术领域
本发明涉及四元系发光二极管,尤其是一种具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法。
背景技术
发光二极管(英文为Light Emitting Diode,简称LED)是半导体二极管的一种,它能将电能转化为光能,发出黄、绿、蓝等各种颜色的可见光及红外和紫外不可见光。与小白炽灯泡及氖灯相比,它具有工作电压和电流低、可靠性高、寿命长且可方便调节发光亮度等优点。
半导体红光发光二极管是最早采用液相外延生长技术做成的LED。自从金属有机化学外延生长技术成功开发后,铝镓铟磷(AlGaInP)系材料发展迅速被用来制作高功率高亮度红光及黄光LED。虽然现在用AlGaInP系材料制造的红光LED已经商业化生产,由于砷化镓(GaAs)基板对红光的吸收,半导体材料的折射率造成的出射角过小,使AlGaInP红光LED的出光效率很低,所以在商业化生产的同时,有关提高AlGaInP红光LED发光效率的研究工作一直在进行。
目前,改善红光LED发光效率的主要技术有加厚磷化镓(GaP)窗口层、在吸收红光的GaAs基板前生长分布布拉格反射层(英文为Distributed BraggReflector,简称DBR),用对红光透明的GaP材料代替对红光吸收的GaAs基板,以及加金属反射镜的倒装结构等。
中国发明专利(CN1373522A)公开了一种镀有金属反射镜膜基板的发光二极管及其制造方法,其以具金属反射面基板为永久基板的发光二极管,将LED组件结构成长于一暂时性基板后,再将此LED组件黏贴至一当做永久性具反射镜的基板上,而后将先前会吸光的暂时性基板去除,使得LED组件所发射的光能不被基板吸收,同时向基板方向的光可被反射出表面以增强其发光亮度;但是该发明中金属对光的反射是有限的,一般在90%以下,特别是单一金属反射层结构,金属与半导体直接接触,在一定温度下由于扩散效应甚至形成某种合金,势必导致金属反射层反射率的急剧下降。
中国发明专利(CN1897316A)公开了具有反射层的高亮度发光二极管结构,其包括:基板,以及在该基板上依序形成的金属层、非合金欧姆接触层与发光结构;该金属层作为反射镜,且由于该金属层由纯金属或金属氮化物所形成,因此其能具有优异的反射性;该非合金欧姆接触层夹在该金属层与该发光结构之间,以达到所需的欧姆接触;为了避免该金属层与该非合金欧姆接触层彼此相混,且为了维持第一金属层反射表面的平坦性,将根据需要的介电层夹在该金属层与该非合金欧姆接触层之间;但是该发明中非合金欧姆接触层形成过程不易控制,且在基板与发光结构之间需要金属层、介电层、非合金欧姆接触层才能充分发挥金属层的优良反射性。
发明内容
为解决上述发光二极管所存在的问题,本发明旨在提供具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,具体说是一种兼具分布布拉格反射层和反射金属层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,包括下列步骤:
1)提供一临时基板;
2)在临时基板正面上形成外延层;
3)在外延层上形成分布布拉格反射层;
4)在分布布拉格反射层中形成开口结构,使分布布拉格反射层呈网格状分布并部分暴露出外延层顶面;
5)在分布布拉格反射层上及暴露于开口结构的外延层上形成一反射金属层;
6)选择一永久基板与反射金属层粘合;
7)去除临时基板;
8)在外延层底面、永久基板顶面分别形成第一电极、第二电极;
9)切割得铝镓铟磷系发光二极管。
本发明的临时基板选用GaAs基板;永久基板选用Si、GaP、SiC、Cu、Ni、Mo、AlN基板或前述基板的组合之一;分布布拉格反射层由交替的高折射率和低折射率材料层组成,分布布拉格反射层的高折射率层材料选自TiO、TiO2、Ti3O5、Ti2O3、Ta2O5、ZrO2或前述的任意组合之一,分布布拉格反射层的低折射率层材料选自SiNx、SiO2或前述的任意组合之一;呈网格状分布的分布布拉格反射层的图案形状为矩形、圆形或多边形;反射金属层材料选自Au、Be/Au、Au/Zn、Pd或前述的任意组合之一;永久基板与反射金属层的粘合方式采用晶片键合或电镀粘合。
本发明的有益效果是:分布布拉格反射层对垂直射入发光二极管光反射达到99%,而对倾斜射入的光线反射不佳,因此通过分布布拉格反射层及反射金属层可将光充分反射出来,并克服了反射金属层对光线的吸收问题,最大限度地发挥双反射层的优异反射性,提高发光二极管的发光效率;且设于分布布拉格反射层与外延层的顶面暴露部分上的反射金属层还兼做欧姆接触用金属,有效地简化了LED的结构。
附图说明
图1~图6是本发明铝镓铟磷系发光二极管芯片制备过程的截面示意图。
图中:1.临时基板;2.外延层;3.分布布拉格反射层;31.蚀刻后的分布布拉格反射层;32.开口结构;4.反射金属层;5.永久基板;6.第一电极;7.第二电极。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制作工艺,其步骤如下:
如图1所示,先提供GaAs临时基板1,供后续生长外延层用;在GaAs临时基板1上生长外延层2;利用沉积方式在外延层2上形成分布布拉格反射层3;
如图2所示,利用光罩与蚀刻方式,形成开口结构32于分布布拉格反射层3中,使蚀刻后的分布布拉格反射层31图案为矩形且呈网格状分布,并暴露出外延层2顶面的一部分,其中分布布拉格反射层31由交替的高折射率TiO2材料和低折射率的SiO2材料组成;
如图3所示,形成Be/Au反射金属层4设于蚀刻后的分布布拉格反射层31与外延层2的顶面暴露部分上,并填满上述开口结构32;
如图4所示,通过晶片键合技术,将Si永久基板5与Be/Au反射金属层4连接;
如图5所示,去除GaAs临时基板1;
如图6所示,分别在外延层2底面、Si永久基板5顶面形成第一电极6、第二电极7,切割得铝镓铟磷系发光二极管;
依上述工艺制备的铝镓铟磷系LED芯片,如图6所示,从下至上依次包括:最底层为第一电极6;外延层2形成于第一电极6上;蚀刻后的分布布拉格反射层31呈网格状分布并形成在外延层2上,其中蚀刻后的分布布拉格反射层31由交替的高折射率TiO2材料和低折射率的SiO2材料组成;Be/Au反射金属层4形成于蚀刻后的分布布拉格反射层31与外延层2的顶面暴露部分上;Si永久基板5形成于Be/Au反射金属层4上;第二电极7形成于Si永久基板5上。
分布布拉格反射层对于垂直射入光反射率可达95%以上,穿透光再通过反射金属层再反射,使得整体反射率可达99%以上,依上述工艺制备的镓铟磷系LED芯片的亮度可以提升20%以上。
以上实施例仅供说明本发明之用,而非对本发明的限制,本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,还可以作出各种变换或变化;因此,所有等同技术方案也应该属于本发明的范畴,由各权利要求限定。
Claims (9)
1.具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,包括下列步骤:
1)提供一临时基板;
2)在临时基板正面上形成外延层;
3)在外延层上形成分布布拉格反射层;
4)在分布布拉格反射层中形成开口结构,使分布布拉格反射层呈网格状分布并部分暴露出外延层顶面;
5)在分布布拉格反射层上及暴露于开口结构的外延层上形成一反射金属层;
6)选择一永久基板与反射金属层粘合;
7)去除临时基板;
8)在外延层底面、永久基板顶面分别形成第一电极、第二电极;
9)切割得铝镓铟磷系发光二极管。
2.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:临时基板选用GaAs基板。
3.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:永久基板选用Si、GaP、SiC、Cu、Ni、Mo、AlN基板或前述基板的组合之一。
4.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:分布布拉格反射层由交替的高折射率和低折射率材料层组成。
5.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:分布布拉格反射层的高折射率层材料选自TiO、TiO2、Ti3O5、Ti2O3、Ta2O5、ZrO2或前述的任意组合之一。
6.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:分布布拉格反射层的低折射率层材料选自SiNx、SiO2或前述的任意组合之一。
7.如权利要求4、5或6所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:呈网格状分布的分布布拉格反射层的图案形状为矩形、圆形或多边形。
8.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征是:反射金属层材料选自Au、Be/Au、Au/Zn、Pd或前述的任意组合之一。
9.如权利要求1所述的具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法,其特征在于:永久基板与反射金属层的粘合方式采用晶片键合或电镀粘合。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010101709360A CN101859860B (zh) | 2010-05-04 | 2010-05-04 | 具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法 |
US13/099,007 US8399906B2 (en) | 2010-05-04 | 2011-05-02 | AlGaInP-based light-emitting diode with double reflective layers and fabrication method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010101709360A CN101859860B (zh) | 2010-05-04 | 2010-05-04 | 具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101859860A CN101859860A (zh) | 2010-10-13 |
CN101859860B true CN101859860B (zh) | 2013-04-10 |
Family
ID=42945620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010101709360A Active CN101859860B (zh) | 2010-05-04 | 2010-05-04 | 具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8399906B2 (zh) |
CN (1) | CN101859860B (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102738332A (zh) * | 2011-04-13 | 2012-10-17 | 展晶科技(深圳)有限公司 | 发光二极管磊晶结构及制造方法 |
TWI529963B (zh) * | 2011-07-25 | 2016-04-11 | 廣鎵光電股份有限公司 | 發光元件結構 |
US9847372B2 (en) * | 2011-12-01 | 2017-12-19 | Micron Technology, Inc. | Solid state transducer devices with separately controlled regions, and associated systems and methods |
CN102709421B (zh) * | 2012-06-21 | 2014-11-05 | 安徽三安光电有限公司 | 一种具有双反射层的氮化镓基发光二极管 |
CN104103722B (zh) * | 2013-04-15 | 2017-03-01 | 展晶科技(深圳)有限公司 | 发光二极管晶粒及其制造方法 |
CN105264678B (zh) * | 2013-06-04 | 2019-06-21 | 克利公司 | 发光二极管介质镜 |
WO2015112943A1 (en) * | 2014-01-27 | 2015-07-30 | Glo Ab | Led device with bragg reflector and method of singulating led wafer substrates into dice with same |
US20150349221A1 (en) * | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Bridgelux, Inc. | Light-emitting device package |
KR20160024170A (ko) | 2014-08-25 | 2016-03-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체 발광 소자 |
DE102016104965A1 (de) | 2016-03-17 | 2017-09-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Lichtemittierender Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines lichtemittierenden Halbleiterchips |
CN111697114B (zh) * | 2020-07-29 | 2021-01-12 | 东南大学苏州研究院 | 一种垂直结构led芯片及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200802917A (en) * | 2006-06-02 | 2008-01-01 | Arima Optoelectronics Corp | High brightness light emitting diode |
KR20080061693A (ko) * | 2006-12-28 | 2008-07-03 | 서울옵토디바이스주식회사 | 다수의 절연층이 적층된 산란 중심을 구비하는 수직형 발광다이오드 및 그 제조방법 |
CN101276862A (zh) * | 2007-03-26 | 2008-10-01 | 晶元光电股份有限公司 | 发光二极管及其制造方法 |
CN101315959A (zh) * | 2007-06-01 | 2008-12-03 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 高亮度发光二极管 |
TWI311379B (zh) * | 2006-06-02 | 2009-06-21 | Arima Optoelectronics Corp |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5568499A (en) * | 1995-04-07 | 1996-10-22 | Sandia Corporation | Optical device with low electrical and thermal resistance bragg reflectors |
US5917201A (en) * | 1997-08-07 | 1999-06-29 | Epistar Co. | Light emitting diode with asymmetrical energy band structure |
GB9807692D0 (en) * | 1998-04-14 | 1998-06-10 | Univ Strathclyde | Optival devices |
KR100700993B1 (ko) * | 1999-12-03 | 2007-03-30 | 크리, 인코포레이티드 | 향상된 광 적출 구조체를 갖는 발광 다이오드 및 그 제조 방법 |
CN1185720C (zh) | 2001-03-05 | 2005-01-19 | 全新光电科技股份有限公司 | 一种镀有金属反射镜膜基板的发光二极管及其制造方法 |
TW577178B (en) * | 2002-03-04 | 2004-02-21 | United Epitaxy Co Ltd | High efficient reflective metal layer of light emitting diode |
US6716654B2 (en) * | 2002-03-12 | 2004-04-06 | Opto Tech Corporation | Light-emitting diode with enhanced brightness and method for fabricating the same |
US20050205886A1 (en) * | 2002-11-29 | 2005-09-22 | Sanken Electric Co., Ltd. | Gallium-containing light-emitting semiconductor device and method of fabrication |
KR100576870B1 (ko) * | 2004-08-11 | 2006-05-10 | 삼성전기주식회사 | 질화물 반도체 발광소자 및 제조방법 |
US7244630B2 (en) * | 2005-04-05 | 2007-07-17 | Philips Lumileds Lighting Company, Llc | A1InGaP LED having reduced temperature dependence |
US7335924B2 (en) | 2005-07-12 | 2008-02-26 | Visual Photonics Epitaxy Co., Ltd. | High-brightness light emitting diode having reflective layer |
TW200828624A (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-01 | Epistar Corp | Light-emitting diode and method for manufacturing the same |
TW200834969A (en) * | 2007-02-13 | 2008-08-16 | Epistar Corp | Light-emitting diode and method for manufacturing the same |
TWI349381B (en) * | 2007-08-03 | 2011-09-21 | Chi Mei Lighting Tech Corp | Light-emitting diode and manufacturing method thereof |
US7915629B2 (en) * | 2008-12-08 | 2011-03-29 | Cree, Inc. | Composite high reflectivity layer |
JP2009290161A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 光半導体装置 |
TWI420693B (zh) * | 2008-07-17 | 2013-12-21 | Advanced Optoelectronic Tech | 發光二極體及其製程 |
TW201015747A (en) * | 2008-10-03 | 2010-04-16 | Wei-Tai Cheng | LED die with expanded effective reflection angles |
CN101740677A (zh) * | 2008-11-20 | 2010-06-16 | 深圳世纪晶源华芯有限公司 | 图形化衬底的GaN基LED外延片及该外延片的制备方法 |
US8017963B2 (en) * | 2008-12-08 | 2011-09-13 | Cree, Inc. | Light emitting diode with a dielectric mirror having a lateral configuration |
TWI380481B (en) * | 2009-01-13 | 2012-12-21 | Huga Optotech Inc | Light-emitting diode with high light-emitting efficiency |
KR101650840B1 (ko) * | 2009-08-26 | 2016-08-24 | 삼성전자주식회사 | 발광소자 및 이의 제조방법 |
-
2010
- 2010-05-04 CN CN2010101709360A patent/CN101859860B/zh active Active
-
2011
- 2011-05-02 US US13/099,007 patent/US8399906B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200802917A (en) * | 2006-06-02 | 2008-01-01 | Arima Optoelectronics Corp | High brightness light emitting diode |
TWI311379B (zh) * | 2006-06-02 | 2009-06-21 | Arima Optoelectronics Corp | |
KR20080061693A (ko) * | 2006-12-28 | 2008-07-03 | 서울옵토디바이스주식회사 | 다수의 절연층이 적층된 산란 중심을 구비하는 수직형 발광다이오드 및 그 제조방법 |
CN101276862A (zh) * | 2007-03-26 | 2008-10-01 | 晶元光电股份有限公司 | 发光二极管及其制造方法 |
CN101315959A (zh) * | 2007-06-01 | 2008-12-03 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 高亮度发光二极管 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110272724A1 (en) | 2011-11-10 |
US8399906B2 (en) | 2013-03-19 |
CN101859860A (zh) | 2010-10-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101859860B (zh) | 具有双反射层的铝镓铟磷系发光二极管的制备方法 | |
JP6530442B2 (ja) | 反射構造を有する半導体発光ダイオードおよびその製造方法 | |
CN102386294B (zh) | 发光元件 | |
KR100503907B1 (ko) | 반도체 발광소자 | |
CN100386899C (zh) | 高效高亮全反射发光二极管及制作方法 | |
CN109075184A (zh) | 发光二极管 | |
CN103682004B (zh) | 一种改善出光率的发光二极管倒装芯片及其制备方法 | |
CN110088922A (zh) | 一种发光二极管芯片结构及其制作方法 | |
US20070290216A1 (en) | Semiconductor light emitting element, manufacturing method therefor, and compound semiconductor light emitting diode | |
CN101859861A (zh) | 具有双反射层的氮化镓基倒装发光二极管及其制备方法 | |
KR20100108597A (ko) | 화합물 반도체 발광 다이오드 | |
CN101378103A (zh) | 白光发光装置及其制作方法 | |
CN107068826A (zh) | 高光出射效率的led芯片及其制备方法 | |
CN101807647A (zh) | 具有倾斜侧面的铝镓铟磷系发光二极管的制作工艺 | |
CN101840985A (zh) | 具有双反射层的氮化镓基垂直发光二极管及其制备方法 | |
CN107845711A (zh) | 提升电流扩展均匀性的led倒装芯片及其制作方法 | |
CN104285307B (zh) | 高效发光二极管及其制造方法 | |
CN103700735A (zh) | 一种发光二极管及其制造方法 | |
CN101976715B (zh) | 倒梯形铝镓铟磷系发光二极管的制作工艺 | |
TW202025514A (zh) | 發光二極體及其製作方法 | |
CN103887384A (zh) | 一种具有反射和电流阻挡特性的发光元件及其制造方法 | |
CN103700749A (zh) | 一种发光二极管及其制作方法 | |
CN203607447U (zh) | Led芯片 | |
CN112864293A (zh) | 一种垂直结构深紫外led芯片及其制造方法 | |
KR20120034910A (ko) | 반도체 발광소자 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20231106 Address after: Yuanqian village, Shijing Town, Nan'an City, Quanzhou City, Fujian Province Patentee after: QUANZHOU SAN'AN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY Co.,Ltd. Address before: 361009 no.1721-1725, Luling Road, Siming District, Xiamen City, Fujian Province Patentee before: XIAMEN SANAN OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right |