CN101846757A - 微透镜及微透镜阵列 - Google Patents

微透镜及微透镜阵列 Download PDF

Info

Publication number
CN101846757A
CN101846757A CN200910301084A CN200910301084A CN101846757A CN 101846757 A CN101846757 A CN 101846757A CN 200910301084 A CN200910301084 A CN 200910301084A CN 200910301084 A CN200910301084 A CN 200910301084A CN 101846757 A CN101846757 A CN 101846757A
Authority
CN
China
Prior art keywords
optic
lenticule
reflecting layer
micro lens
matt film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN200910301084A
Other languages
English (en)
Inventor
余泰成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN200910301084A priority Critical patent/CN101846757A/zh
Priority to US12/556,781 priority patent/US20100246018A1/en
Publication of CN101846757A publication Critical patent/CN101846757A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0031—Replication or moulding, e.g. hot embossing, UV-casting, injection moulding
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0018—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for preventing ghost images
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种微透镜，其包括一个透光基板，具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面；第一抗反射层，该第一抗反射层设于该第一表面；一个第一光学部，该第一光学部设于该第一抗反射层；第一消光膜，该第一消光膜设于该第一抗反射层且围绕该第一光学部。本发明还提供一种微透镜阵列，其可切割成多个上述多个微透镜。本发明提供的微透镜具有消光膜和抗反射层，可防止微透镜成像时出现眩光鬼影的问题。

Description

微透镜及微透镜阵列
技术领域
本发明涉及光学元件领域，尤其涉及用于小型化电子设备的微透镜。
背景技术
鉴于轻便型、轻量级的便携式电子设备越来越受到消费者的青睐，对各种元件的小型化技术研究成为目前研究人员的研究热点，微透镜也是其中一种。微透镜为一种尺寸极为微小的透镜，其可应用于光电元件如数码相机、手机或太阳能电池。
由于目前的制造工艺还不成熟，已经使用的微透镜还有许多不足之处，尤其是有些微透镜所成图像出现照片发白、形成光晕的现象，这主要是因为透镜表面会反射一部分入射光线，各个透镜的反射光线在镜头和相机内部进行多次反射成为杂散光，使得影像感测器接收到不必要的光讯号，从而产生上述问题，一般被称作眩光或鬼影。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种微透镜及切割后可得到多个微透镜的微透镜阵列，此种微透镜及微透镜阵列成像时将不会产生眩光及鬼影问题。
一种微透镜，其包括一个透光基板，具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面；第一抗反射层，该第一抗反射层设于该第一表面；一个第一光学部，该第一光学部设于该第一抗反射层；第一消光膜，该第一消光膜设于该第一抗反射层且围绕该第一光学部。
一种微透镜阵列，其包括透光基板，具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面；第一抗反射层，该第一抗反射层设于该第一表面；第一光学部阵列，该第一光学部阵列包括若干第一光学部且设于该第一抗反射层；第一消光膜，该第一消光膜设于该第一抗反射层且设于每个第一光学部之外的区域。
与现有技术相比，本发明提供的微透镜和微透镜阵列具有消光膜和抗反射层，可有效吸收入射到微透镜光学部以外的光线及有效增强经该微透镜光学部入射的光线，从而解决成像中的眩光及鬼影问题。
附图说明
图1是本发明较佳实施例提供的微透镜截面示意图。
图2是本发明较佳实施例提供的微透镜阵列的俯视图。
图3是本发明较佳实施例提供的具有镀膜的透光基板的示意图。
图4是在图3中的透光基板上涂布正光阻的示意图。
图5是对图4的透光基板曝光的示意图。
图6是图5中的透光基板显影处理示意图。
图7是在图6中的透光基板上形成消光膜的示意图。
图8是去除图7中透光基板上的剩余光阻后的示意图。
图9是图8中的透光基板上压印微透镜光学部的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。
请参阅图1，本发明实施例提供的微透镜500包括透光基板11、第一光学部130、第二光学部150、围绕该第一光学部130的抗反射层106、消光膜112、滤光层108。
透光基板11具有相对的第一表面102和第二表面104，抗反射层106设于该第一表面102，第一光学部130和消光膜112设于该抗反射层106。该消光膜112设于该第一光学部130周围。
滤光层108设于该第二表面104，该第二光学部150设于该滤光层108。
该第一光学部130、第二光学部150均可采用紫外光压印的方式压印成型。该第二光学部150可根据实际需要不予以设置。该第一光学部130、第二光学部150可以是凹透镜、凸透镜等光学结构。
抗反射层106用于增强经第一光学部130入射的光线在第一表面102的透射率。
消光膜112可采用真空溅镀的方式镀制。消光膜112的材料可以是各种黑色的材料，优选地，可采用铬。当光线入射至第一光学部130之外的微透镜500的表面时，将会被消光膜112吸收，从而减少与微透镜500组合使用的光学元件之间的多次反射，提高成像效果。
滤光层108根据实际需要可以是红外截止滤光层或红外导通滤光层或者不设。还可设置在抗反射层106和第一表面102之间设置滤光层。
当然，还可以设置在第二表面104设置抗反射层，以增强入射光线在第二表面104的透射率。
当然，还可以在第二表面104设置消光膜以将经过该第一光学部130透射至第二光学部150以外区域的光线吸收，进一步消减杂散光。
请参阅图2，本发明较佳实施例提供的微透镜阵列50包括透光基板11、第一光学部阵列13、与第一光学部阵列13相对的第二光学部阵列(图未示)、围绕该第一光学部阵列13的消光膜112以及抗反射层106。将该微透镜阵列50沿切割线M切割即可得到微透镜500。
本发明较佳实施例提供的微透镜制造方法包括以下步骤：
第一步，请参阅图3，提供一个透光基板11，其具有第一表面102及与第一表面102相对的第二表面104。对该透光基板11进行清洗。
第二步，请参阅图4，在第一表面102镀抗反射层106，在第二表面104镀滤光层108。当然，也可以在第一表面102镀滤光层，或者在第二表面104镀抗反射层。
第三步，在抗反射层106上涂敷正光阻110。
第四步，请参阅图5，提供一个光罩20，光罩20上有预设的不透光区域21。
第五步，将光罩20置于正光阻110上方，对正光阻110进行曝光。
第六步，请参阅图6，显影。显影后被曝光的部分被显影剂溶解，留下部分正光阻110以及抗反射层106。
第七步，请参阅图7，对透光基板11的第一表面102，即，即有正光阻110又有抗反射层106的一面镀消光膜112。镀消光膜112可采用真空溅镀法。所镀消光膜112的材料可以是各种黑色的膜，优选地，材料为铬。
第八步，请参阅图8，除去光阻。将剩下的正光阻110去掉，留下未镀膜的区域31和被消光膜112覆盖的区域。
第九步，请参阅图9，压印。在未镀膜的区域31涂敷紫外光可固化聚合物40(UVcurable polymer)，将一压模41，例如将压印面形成有预设图案的PDMS(Polydimethylsiloxane)压模，将其压在该紫外光可固化聚合物40上，并利用紫外光照射该紫外光可固化聚合物40，从而可在透光基板11形成第一光学部阵列13。该第一光学部阵列13包括多个第一光学部130。接着，在透光基板11的第二表面104上以紫外光压印方式形成一个第二光学部阵列，从而可得到一个微透镜阵列50，并注意使得第二光学部阵列中的每个第二光学部的光轴可以与位置相对的第一光学部的光轴重合。
第二光学部阵列的材料与第一光学部阵列13的材料可以相同，也可以不同。
当然，也可以根据需要不压印第二光学部阵列。
第一光学部13和第二光学部以及透光基板11、消光膜112、抗反射层106等共同构成微透镜阵列50。
第十步，切割。对微透镜阵列50进行切割可得到多个微透镜500。
由于本实施例在制造微透镜500的过程中，在微透镜500的非光学部镀有消光膜112和抗反射层106，使得照射或反射到微透镜500的非光学部的杂散光被吸收或透过，不会有光线影响与其组合的光学元件，尤其是影像感测器，从而不致引起眩光或鬼影。
另外，也可以选用负光阻代替正光阻进行曝光显影的操作，但需要另外设置光罩，即，将本较佳实施例提供的光罩20的透光区域改成不透光区域，同时将不透光区域改成透光区域。
微透镜500的第一光学部130和第二光学部150的形状根据需要设定，既可以是凹透镜也可以是凸透镜。

Claims (10)

1.一种微透镜，其包括：
一个透光基板，具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面；
第一抗反射层，该第一抗反射层设于该第一表面；
一个第一光学部，该第一光学部设于该第一抗反射层；
第一消光膜，该第一消光膜设于该第一抗反射层且围绕该第一光学部。
2.如权利要求1所述的微透镜，其特征在于：进一步包括滤光层，该滤光层设于该第二表面。
3.如权利要求2所述的微透镜，其特征在于：进一步包括第二光学部，该第二光学部设于该滤光层。
4.如权利要求1所述的微透镜，其特征在于：进一步包括第二抗反射层，该第二抗反射层设于该第二表面。
5.如权利要求1所述的微透镜，其特征在于：进一步包括滤光层，该滤光层设于该第一表面和该第一抗反射层之间。
6.如权利要求1所述的微透镜，其特征在于：进一步包括第二光学部，该第二光学部位于该第二表面。
7.如权利要求1所述的微透镜，其特征在于：进一步包括第二消光膜，该第二消光膜位于该第二表面。
8.一种微透镜阵列，其包括：
透光基板，具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面；
第一抗反射层，该第一抗反射层设于该第一表面；
第一光学部阵列，该第一光学部阵列包括若干第一光学部且设于该第一抗反射层；
第一消光膜，该第一消光膜设于该第一抗反射层且设于每个第一光学部之外的区域。
9.如权利要求8所述的微透镜阵列，其特征在于：进一步包括滤光层，该滤光层设于该第二表面。
10.如权利要求9所述的微透镜阵列，其特征在于：进一步包括第二光学部，该第二光学部设于该滤光层。
CN200910301084A 2009-03-24 2009-03-24 微透镜及微透镜阵列 Pending CN101846757A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200910301084A CN101846757A (zh) 2009-03-24 2009-03-24 微透镜及微透镜阵列
US12/556,781 US20100246018A1 (en) 2009-03-24 2009-09-10 Lens having antireflection and light absorbing films and lens array including such lens

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200910301084A CN101846757A (zh) 2009-03-24 2009-03-24 微透镜及微透镜阵列

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101846757A true CN101846757A (zh) 2010-09-29

Family

ID=42771435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200910301084A Pending CN101846757A (zh) 2009-03-24 2009-03-24 微透镜及微透镜阵列

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20100246018A1 (zh)
CN (1) CN101846757A (zh)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102799066A (zh) * 2012-08-24 2012-11-28 西安交通大学 一种在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备凹透镜阵列结构的方法
CN103358808A (zh) * 2012-03-28 2013-10-23 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品
CN104349022A (zh) * 2013-07-24 2015-02-11 光宝科技股份有限公司 图像获取模块及其致动器结构
CN107430216A (zh) * 2015-07-31 2017-12-01 索尼半导体解决方案公司 带透镜的基板、层叠透镜结构、相机模块、制造装置和制造方法
CN109884737A (zh) * 2018-12-29 2019-06-14 瑞声科技(新加坡)有限公司 一种镜片及其制作方法和镜头
CN110321040A (zh) * 2013-03-15 2019-10-11 博世汽车服务解决方案公司 具有车辆扫描功能的图形用户界面
CN111353480A (zh) * 2020-04-26 2020-06-30 欧菲微电子技术有限公司 微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101872033B (zh) * 2009-04-24 2014-04-30 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 遮光片阵列、遮光片阵列制造方法及镜头模组阵列
CN107305290B (zh) * 2016-04-22 2019-11-26 玉晶光电(厦门)有限公司 光学镜片及其治具
US9980516B2 (en) 2015-03-09 2018-05-29 Rai Strategic Holdings, Inc. Aerosol delivery device including a wave guide and related method
CN107305259B (zh) * 2016-04-22 2019-07-26 玉晶光电(厦门)有限公司 光学镜片
US10427045B2 (en) 2017-07-12 2019-10-01 Misapplied Sciences, Inc. Multi-view (MV) display systems and methods for quest experiences, challenges, scavenger hunts, treasure hunts and alternate reality games
US10565616B2 (en) 2017-07-13 2020-02-18 Misapplied Sciences, Inc. Multi-view advertising system and method
US10404974B2 (en) 2017-07-21 2019-09-03 Misapplied Sciences, Inc. Personalized audio-visual systems
US10778962B2 (en) * 2017-11-10 2020-09-15 Misapplied Sciences, Inc. Precision multi-view display

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4952026A (en) * 1988-10-14 1990-08-28 Corning Incorporated Integral optical element and method
US6939014B1 (en) * 2001-12-31 2005-09-06 Jenmar Visual Systems, Inc. Liquid transmissive filter having anisotropic properties and method of fabrication
US7154674B2 (en) * 2002-04-15 2006-12-26 Koninklijke Philips Electronics, N.V. Imaging method
US6947224B2 (en) * 2003-09-19 2005-09-20 Agilent Technologies, Inc. Methods to make diffractive optical elements
US7813043B2 (en) * 2008-08-15 2010-10-12 Ether Precision, Inc. Lens assembly and method of manufacture

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103358808A (zh) * 2012-03-28 2013-10-23 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品
CN103358808B (zh) * 2012-03-28 2015-12-16 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品
CN102799066A (zh) * 2012-08-24 2012-11-28 西安交通大学 一种在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备凹透镜阵列结构的方法
CN110321040A (zh) * 2013-03-15 2019-10-11 博世汽车服务解决方案公司 具有车辆扫描功能的图形用户界面
CN104349022A (zh) * 2013-07-24 2015-02-11 光宝科技股份有限公司 图像获取模块及其致动器结构
CN107430216A (zh) * 2015-07-31 2017-12-01 索尼半导体解决方案公司 带透镜的基板、层叠透镜结构、相机模块、制造装置和制造方法
CN109884737A (zh) * 2018-12-29 2019-06-14 瑞声科技(新加坡)有限公司 一种镜片及其制作方法和镜头
CN111353480A (zh) * 2020-04-26 2020-06-30 欧菲微电子技术有限公司 微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20100246018A1 (en) 2010-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101846757A (zh) 微透镜及微透镜阵列
CN106454049B (zh) 一种基于分区双通滤光片的虹膜识别及拍照二合一摄像模组
JP6317954B2 (ja) レンズユニット、撮像モジュール、及び電子機器
JP5579067B2 (ja) レンズ組立体の製造方法およびこのような組立体を備えたカメラ
JP2008508545A (ja) カメラモジュール、それに基づくアレイおよびその製造方法
JP5707636B2 (ja) 光学ユニット
US20090323204A1 (en) Lens, method for fabricating same and lens module having same
JP6266683B2 (ja) 固定径アポダイズド絞りの製造方法
JP2015018178A (ja) 光学レンズ、レンズユニット、撮像モジュール、電子機器
JP2006344754A5 (zh)
WO2016060198A1 (ja) カメラモジュール及び電子機器
TW201339622A (zh) 光學鏡片及其製作方法
JP2016015479A (ja) 光学素子
CN110213473A (zh) 摄像头模组、电子装置及摄像头模组的制作方法
KR20140025368A (ko) 광학 유닛
US8736945B2 (en) Lens module with infrared absorbing filter
TWI402162B (zh) 複合微透鏡及複合微透鏡陣列
CN215297723U (zh) 光学元件、摄像模组及电子设备
KR20160123671A (ko) 다층 구조의 렌즈 및 그 렌즈 제조 방법
CN211263968U (zh) 一种基于微透镜的准直器、光电传感系统及指纹识别装置
TWI443383B (zh) 微透鏡及微透鏡陣列
TWI670515B (zh) 利用不同折射率的材料所組成的鏡片結構（一）
TWI695991B (zh) 利用不同折射率的材料所組成的鏡片結構
TWM606178U (zh) 透鏡壓印模具及鏡頭模組
CN216646947U (zh) 一种大靶面的高清定焦镜头

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20100929

RJ01 Rejection of invention patent application after publication