CN101845617A - 直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置 - Google Patents
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Abstract
本发明揭示了一种直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，装设于平行排列的直线型蒸发源及盛料斗之间，其特征在于：该连续输送镀膜料装置为绕中心轴旋转的圆柱形送料辊，表面圆周分布设有复数条直线型凹槽；其中所述送料辊的凹槽倾倒高度位于直线型热蒸发源之上。本发明的装置可实现对直线型蒸发源的不间断供料，缩小了热蒸发镀膜空间，有利于改善蒸发区的真空度和清洁度；此外，由单个直线型蒸发源取代阵列式多个蒸发源，在保证大面积基材连续均匀沉积的同时，大大简化了蒸发源的系统机构。
Description
技术领域
本发明涉及一种为直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料的装置，可将盛料斗中的镀膜料连续输送到直线型蒸发源的坩埚中。该蒸发源与基材卷绕机构配合，可以实现在大面积基材表面上连续蒸发金属镀膜。
背景技术
在塑料薄膜基材表面镀金属膜尤其是镀铝膜已经在包装、装潢、防伪商标与制作电容器等领域得到大量应用。卷绕式热蒸发金属镀膜系统是实现大面积塑料薄膜基材连续镀膜的基本设备。目前卷绕式热蒸发金属镀膜系统的原理结构如图1所示。其中金属镀膜蒸发源通常采用分布式蒸发坩埚101，即数十个热蒸发坩埚以阵列形式置于基材下方，蒸发料以金属丝形式，通过输送电机连续输送到坩埚，塑料薄膜基材102通过卷辊103连续通过蒸发源上方，实现不间断金属蒸发镀膜。阵列式坩埚蒸发需要多个加热电源和送丝系统。为了保证所有坩埚保持均匀一致的蒸发速率，每个坩埚的加热功率和金属丝镀膜料的送丝速度需要单独控制。此外，该阵列式蒸发源也导致镀膜空间增加，使得保持镀膜区的真空度和清洁度的难度增加。
发明内容
为克服上述现有阵列式蒸发源应用于卷绕式热蒸发金属镀膜系统的诸多不足，本发明的目的在于提出一种直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，以占用空间相对较小的直线型金属镀膜蒸发源取代阵列式蒸发源，进一步提高金属镀膜的工艺品质。
本发明的目的，将通过以下技术方案得以实现：
直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，装设于平行排列的直线型蒸发源及盛料斗之间，其特征在于：该连续输送镀膜料装置为绕中心轴旋转的圆柱形送料辊，所述送料辊表面圆周分布设有复数条直线型凹槽；其中所述送料辊的凹槽倾倒高度位于直线型热蒸发源之上，且凹槽的装盛高度位于盛料斗的斗沿之下。
进一步地，上述直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其中该直线型凹槽的横截面几何结构为锐角形状。
进一步地，上述直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其中该圆柱形送料辊的长度与直线型蒸发源相匹配；该直线型蒸发源为耐高温的条形敞口坩埚，敞口侧向与圆柱形送料辊相对；该盛料斗为开口式倒梯形条状结构。
更进一步地，上述直线型金属镀膜蒸发源，其中该坩埚敞口边缘设有一导板部，与所述送料辊的圆柱表面凹槽相接。
进一步地，上述直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其中该圆柱形送料辊的中心轴连接有一个转速线性可调的电机。
本发明技术方案的应用，较之于现有技术的突出效果为：
本发明的装置可实现对直线型蒸发源的不间断供料，提高金属薄膜蒸镀的均匀程度，同时能缩小热蒸发镀膜空间，有利于改善蒸发区的真空度和清洁度；此外，由单个直线型蒸发源取代阵列式多个蒸发源，大大简化了蒸发源的系统机构。
附图说明
图1是现有技术卷绕式热蒸发连续金属镀膜系统中阵列式蒸发源的立体结构示意图；
图2是本发明连续送料装置于直线型蒸发源的横截面结构示意图。
图中各附图标记的含义如下：
101～分布式蒸发坩埚、102～塑料薄膜基材、103～卷辊；201～条形坩埚202～凹槽、203～镀膜料粒、204～送料辊、205～条形盛料斗。
具体实施方式
以下便结合实施例附图，对本发明的具体实施方式作进一步的详述，以使本发明技术方案更易于理解、掌握。
如图2所示该金属薄膜热蒸镀系统的横截面结构，本发明采用直线型热蒸发源和辊式送料装置，与基材卷绕机构配合，实现大面积连续技术镀膜。
该直线型金属蒸发源为一条形敞口坩埚201，通过电阻加热或感应加热达到金属镀膜料的融化蒸发温度。且该条形的敞口坩埚201的长度与基底材料的幅宽相匹配、大于或等于辊式送料装置204的长度。
该辊式送料装置为一绕中心轴旋转的圆柱形送料辊204，表面开有圆周分布的多条凹槽202。所述送料辊204置于一个条形盛料斗205上方，且送料辊204的凹槽202的装盛高度位于盛料斗205的斗沿之下，圆柱形送料辊204在转动过程中，将镀膜粒料203从料斗中盛起，再绕中心轴旋转将镀膜粒料203输送，当送料辊204的凹槽202转至一定角度后向蒸发坩埚201送入镀膜料粒203。其中，该送料辊204的中心轴连接到一个转速线性可调的电机(未图示)，根据不同基材蒸镀金属薄膜厚度的要求，该电机转速即带动送料辊的转速可无级调节或定速。
该基材卷绕机构103置于直线型蒸发源——条形坩埚201的上方，卷绕速率与金属薄膜沉积速率和所需要的沉积膜厚度相匹配。
上述实施方案的优化方案还可包括：
该直线型凹槽202的横截面几何结构为锐角形状，以保证所装盛的镀膜料粒203不易被抛洒而出，其凹槽深度根据镀膜料的材质和镀膜厚度要求不同而选择性设置。
该蒸发坩埚201为条形敞口结构，其敞口侧向与圆柱形的送料辊204相对；特别在该敞口边缘还设有一导板部，与送料辊的表面凹槽202相接，以使镀膜料粒203能平缓、均匀地添加到直线型蒸发源内。
本发明的装置在进行塑料薄膜金属镀膜作业时，送料转辊作连续旋转运动，在旋转过程中由转辊表面的凹槽将镀膜粒料从开口式倒梯形条状盛料斗中取出，再将粒料倾倒在直线型坩埚中。同时作为蒸发源的直线型坩埚201维持在金属料粒203融化蒸发温度，由于蒸发损失的镀膜材料通过送料辊204连续补充，实现了在大面积基材上连续热蒸发金属镀膜的镀膜料供应。
除此之外，本发明针对性应用于直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置还可有其它多种实施方式，例如，送料辊204外表面所设的凹槽数量不限于图示实施例的八条，可根据实际需要适量增减，凡此基于本发明设计的辊式连续送料装置的设计，无论进行何等的结构替换或等效变换，只要能为直线型热蒸发源连续供热，从而应用于大面积基材连续镀膜的设计方案，均应包含于本发明专利申请的保护范围之内。
Claims (7)
1.直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，装设于平行排列的直线型蒸发源及盛料斗之间，其特征在于：该连续输送镀膜料装置为绕中心轴旋转的圆柱形送料辊，所述送料辊表面圆周分布设有复数条直线型凹槽；其中所述送料辊的凹槽倾倒高度位于直线型热蒸发源之上，且凹槽的装盛高度位于盛料斗的斗沿之下。
2.根据权利要求1所述的直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其特征在于：所述直线型凹槽的横截面几何结构为锐角形状。
3.根据权利要求1或2所述的直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其特征在于：所述直线型蒸发源为耐高温的条形敞口坩埚，敞口侧向与圆柱形送料辊相对。
4.根据权利要求4所述的直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其特征在于：所述坩埚敞口边缘设有一导板部，与所述送料辊的圆柱表面倾倒位处的凹槽相接。
5.根据权利要求1所述的直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其特征在于：所述盛料斗为开口式倒梯形条状结构。
6.根据权利要求1所述的直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其特征在于：所述圆柱形送料辊的长度与直线型蒸发源相匹配。
7.根据权利要求1所述的直线型金属镀膜蒸发源的连续输送镀膜料装置，其特征在于：所述送料辊的中心轴连接有一个转速线性可调的电机。
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