CN101813410A - 300mm立式氧化炉石英舟旋转装置 - Google Patents

300mm立式氧化炉石英舟旋转装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101813410A
CN101813410A CN200810240137A CN200810240137A CN101813410A CN 101813410 A CN101813410 A CN 101813410A CN 200810240137 A CN200810240137 A CN 200810240137A CN 200810240137 A CN200810240137 A CN 200810240137A CN 101813410 A CN101813410 A CN 101813410A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sic
fixed axis
quartz boat
fire door
fixed shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN200810240137A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101813410B (zh
Inventor
钟华
赵星梅
董金卫
王喆
赛义德·赛迪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
North China Science And Technology Group Ltd By Share Ltd
Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd filed Critical Beijing Sevenstar Electronics Co Ltd
Priority to CN 200810240137 priority Critical patent/CN101813410B/zh
Publication of CN101813410A publication Critical patent/CN101813410A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101813410B publication Critical patent/CN101813410B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

本发明公开了一种300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,设有步进电机,石英舟的下方设有SiC转盘,在该SiC盘的底部中央设有固定轴,固定轴的下端设有带轮,该带轮通过传动带与步进电机传动连接;在固定轴的下部设有舟旋转定位装置,上部设有密封腔,密封腔设有进出气管,SiC转盘的下面设有带水冷却腔炉门,炉门底部固定设有轴罩,在轴罩的底端与SiC转盘的固定轴之间设有密封环;在炉门下面设有数个缓冲器,在炉门四周下面还设有密封挡板。本发明适用于300mm立式氧化炉石英舟的旋转装置,结构完善,控制灵活,水平、垂直位置控制精确。从而使硅片受热均匀,提高了硅片膜厚均匀性。

Description

300mm立式氧化炉石英舟旋转装置
技术领域
本发明属于一种用于300mm硅片热处理的氧化炉设备,具体的是一种用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉中石英舟旋转装置。
背景技术
氧化炉是给硅片进行氧化、退火等热处理工艺的半导体设备,现用的氧化炉,大都是卧式结构,其温度均匀性及控温精度不够理想,操作和控制不够精确灵活,自动化程度低、生产效率和产品质量不够高,不能适应300mm硅片的生产需求。因此,需要提出一种结构改进的立式氧化炉。在此前的立式氧化炉的石英舟升降机构上,石英舟在工艺过程中是不带旋转的,石英舟在升降机构上只做上升、下降运动,造成硅片表面的温度、气体浓度均不够均匀,影响产品质量。在300mm硅片生产线上影响尤为严重。因此,需要对其进行改进。
发明内容
本实用新型的目的是为了解决上述技术问题,提出一种300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,该装置结构科学、设计新颖、完善适用,位置控制灵活精确,有力地改善了硅片表面的温度及气体的均匀性状态,大大提高了硅片氧化膜的质量。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,其特征在于:设有步进电机,在石英舟的下方设有SiC转盘,在该SiC盘的底部中央设有固定轴,固定轴的下端设有带轮,该带轮通过传动带与步进电机传动连接,做工艺时,SiC转盘与保温筒连接,带动保温桶及舟旋转,传递扭矩;在所述固定轴的下部设有舟旋转定位装置,控制舟的精确位置;在固定轴的上部设有包裹在固定轴外围的密封腔,密封腔设有氮气进、出气管与外面氮气气源连通,一定流量的高纯氮气通过密封腔,使其压力大于工艺腔的工艺气体,实现旋转密封;在所述SiC转盘的下面设有炉门,在该炉门中设有水冷却腔;炉门底部固定设有轴罩,该轴罩包覆在密封腔的外面,并在轴罩的底端与所述SiC转盘的固定轴之间设有密封环;在炉门下面垂直设有数个缓冲器,该缓冲器为圆柱体,圆柱体里面垂直设有顶柱,在该顶柱下面设有压簧,缓冲器沿圆周均匀分部,调节舟的平衡,使之保持水平,同时避免工艺门关闭时石英门板与石英管法兰之间的压紧力过大;在炉门四周下面设有密封挡板,防止微量工艺气体流入微环境。
本发明的旋转装置具有结构完善,密封性能好,位置控制精确,能保证硅片温度及气流的均匀,从而提高硅片加工质量的优点。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明:实施例:参见附图,300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,其特征在于:设有步进电机2,石英舟的下方设有SiC材料制成的转盘1,在该SiC转盘的底部中央设有固定轴1.1,固定轴的下端设有带轮1.2,该带轮通过传动带2.1与步进电机传动连接;在所述固定轴的下部设有舟旋转定位装置3,在固定轴的上部设有包裹在固定轴外围,采用聚四氟乙烯制成的密封腔4,密封腔设有氮气进出气管4.1与外面氮气气源连通,在所述SiC转盘的下面设有炉门5,在该炉门中设有水冷却腔5.1,炉门底部固定设有轴罩5.2,该轴罩包覆在密封腔的外面,并在轴罩的底端与所述SiC转盘的固定轴之间设有密封环5.3;在炉门下面设有三个缓冲器6,该缓冲器为圆柱体,圆柱体里面垂直设有顶柱6.1,在该顶柱下面设有压簧6.2;在炉门四周下面还设有密封挡板7。

Claims (1)

1.一种300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,其特征在于:设有步进电机(2),在石英舟的下方设有SiC转盘(1),在该SiC盘的底部中央设有固定轴(1.1),固定轴的下端设有带轮(1.2),该带轮通过传动带(2.1)与步进电机传动连接;在所述固定轴的下部设有舟旋转定位装置(3),在固定轴的上部设有包裹在固定轴外围的密封腔(4),密封腔设有氮气进、出气管(4.1)与外面氮气气源连通;在所述SiC转盘的下面设有炉门(5),在该炉门中设有水冷却腔(5.1),炉门底部固定设有轴罩(5.2),该轴罩包覆在密封腔的外面,并在轴罩的底端与所述SiC转盘的固定轴之间设有密封环(5.3);在炉门下面设有数个缓冲器(6),该缓冲器为圆柱体,圆柱体里面垂直设有顶柱(6.1),在该顶柱下面设有压簧(6.2);在炉门四周下面还设有密封挡板(7)。
CN 200810240137 2008-12-17 2008-12-17 用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置 Active CN101813410B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200810240137 CN101813410B (zh) 2008-12-17 2008-12-17 用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200810240137 CN101813410B (zh) 2008-12-17 2008-12-17 用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101813410A true CN101813410A (zh) 2010-08-25
CN101813410B CN101813410B (zh) 2012-11-14

Family

ID=42620725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 200810240137 Active CN101813410B (zh) 2008-12-17 2008-12-17 用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101813410B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103779262A (zh) * 2014-02-20 2014-05-07 北京七星华创电子股份有限公司 一种控制晶舟升降运动的原点定位方法
CN105908260A (zh) * 2016-05-18 2016-08-31 广东爱康太阳能科技有限公司 一种晶体硅太阳能电池扩散炉
CN106571313A (zh) * 2016-10-31 2017-04-19 北京七星华创电子股份有限公司 半导体热处理设备工艺门状态检测装置及检测方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4586333B2 (ja) * 2003-05-02 2010-11-24 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置、熱処理システム及び熱処理装置の温度制御方法
CN2667435Y (zh) * 2003-06-17 2004-12-29 北京七星华创电子股份有限公司 立式炉的净化装置
CN2632847Y (zh) * 2003-06-30 2004-08-11 北京广播学院 热氧化匀流隔热散热装置
KR100653720B1 (ko) * 2005-10-04 2006-12-05 삼성전자주식회사 열처리 설비 및 이의 구동방법
CN201352059Y (zh) * 2008-12-17 2009-11-25 北京七星华创电子股份有限公司 300mm立式氧化炉石英舟旋转装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103779262A (zh) * 2014-02-20 2014-05-07 北京七星华创电子股份有限公司 一种控制晶舟升降运动的原点定位方法
CN103779262B (zh) * 2014-02-20 2017-02-01 北京七星华创电子股份有限公司 一种控制晶舟升降运动的原点定位方法
CN105908260A (zh) * 2016-05-18 2016-08-31 广东爱康太阳能科技有限公司 一种晶体硅太阳能电池扩散炉
CN106571313A (zh) * 2016-10-31 2017-04-19 北京七星华创电子股份有限公司 半导体热处理设备工艺门状态检测装置及检测方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101813410B (zh) 2012-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105580126B (zh) 基板处理装置
US10490427B2 (en) Apparatus for treating substrate
JP5960028B2 (ja) 熱処理装置
JP4633269B2 (ja) 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
CN2573509Y (zh) 热处理装置
CN104862667B (zh) 对称的气相沉积设备的反应腔体
CN101813410B (zh) 用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置
CN105386121B (zh) 用于碳化硅外延生长的行星旋转装置
CN103374753A (zh) 一种大尺寸蓝宝石晶体生长炉
CN110854047A (zh) 工艺腔室以及半导体加工设备
CN110875167B (zh) 冷却腔室及半导体加工设备
CN102517562B (zh) 一种垂直梯度冷凝制造薄膜电池的装置
CN103985632A (zh) 一种工艺管排气装置
CN201352059Y (zh) 300mm立式氧化炉石英舟旋转装置
CN206259379U (zh) 在图形化蓝宝石衬底上生长氮化镓外延层的加工装置
CN203270022U (zh) 可调短距离快速升降温蒸镀炉
CN109423697B (zh) 一种用于低压扩散炉的炉门装置及低压扩散炉
CN102864437B (zh) 一种用于反应室的旋转装置
CN105350073A (zh) 一种硅外延设备的石墨盘旋转密封装置及自动上下料系统
CN203859104U (zh) 一种半导体立式热处理设备的工艺管排气装置
CN204417641U (zh) 可调控SiC晶体生长梯度的水冷装置及晶体生长炉
CN108690904B (zh) 不锈钢热处理保护气循环利用方法
JP2007035775A (ja) 基板処理装置
JP4094785B2 (ja) 金属の精製装置
CN102320603B (zh) 多晶硅硅烷分解炉之导热油硅芯夹套式小钟罩

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: 100015 Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Chaoyang District, Beijing

Patentee after: North China Science and technology group Limited by Share Ltd.

Address before: 100016 Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Chaoyang District, Beijing

Patentee before: BEIJING SEVENSTAR ELECTRONIC Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20180511

Address after: 100176 8 Wenchang Avenue, Beijing economic and Technological Development Zone, Beijing

Patentee after: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT Co.,Ltd.

Address before: 100015 Jiuxianqiao East Road, Chaoyang District, Chaoyang District, Beijing

Patentee before: North China Science and technology group Limited by Share Ltd.