CN101809386A - 用于热气处理的设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及对承载在环形输送装置上的物体特别是食品进行热气处理的设备,包括:分成两个或多个部段(1,2)的壳体,第一部段包括相对第二部段移动第一部段的装置(3);设置在壳体内且在第一端和第二端伸到壳体外侧的环形传输带(5),该输送装置具有适合承载物体的上部运行部和下部返回运行部;设置在壳体内的两个或多个气体调节单元(7,12,13),该单元沿输送装置一个在另一个下游地设置,以将已处理气体向输送装置引导;基本气密的分隔部(8),该分隔部使气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域,该处理区域仅与相邻的输送装置连接;除了第一端和第二端的部段,壳体基本完全包绕气体调节单元、分隔部处理区域和环形输送装置。
Description
技术领域
本发明公开了一种用于对承载在环形输送装置上的物体进行热气处理(thermal gas treatment)的设备,其中所述物体特别是食品。
背景技术
在本领域中,已知大量用于对物体特别是食品进行热气处理的设备,其中,无论是用于加热也就是烘培、融化或变暖物体或用于冷却/冷冻物体的这些设备的发展在过去都遵循这样的趋势,即,以更快更经济的方法有效进行物体的处理,或使该设备具有更小的尺寸,由此可将该设备安放的环境用于其它目的或通过在相同的空间增加更多设备而提高生产率。逐渐地,该发展中的趋势已经变为保持效率,但同时提高与处理食品原料有关的卫生。出于这些原因,已经研制大量设备,其中已经提供越来越多通向所述设备内部的入口,以便能清洁并由此保持相对高的卫生标准。
从现有技术中已知US3455120中公开的一种装置,其中公开了一种较长的冷却器,该冷却器内部被分成区域,使得承载在输送装置上的物体可受到处理程序即不同分隔区域中的不同条件,以获得改进的处理。该设备包绕在壳体中,其中仅通过移除设置在冷却器顶部的罩盖获得进入所述壳体的通道。此外,所述罩盖与气体分配腔和风扇装置是一体安装的。移除罩盖是相对繁重的工作,此外,风扇和气体分配腔不易靠近。该气体分配腔和风扇包绕在腔室结构中且没有设计成用于靠近以进行清洁。
用于处理所述物体的气体源和蒸发器沿着延伸通过多个处理区域的传输带设置并设置在该传输带下方,使得温度的调节取决于影响多个处理区域的蒸发器如何工作。此外,可以在气体返回通道中增加蒸发的液化气体,使得该气体会通过风扇吸入气体分配腔中。这些设置全都形成相当复杂的设备,其中特别是无法解决清洁问题,即使从维护的角度来看,移除所述罩盖部需要进行不属于日常清洁和维护程序的工作。
从EP0859199已知用于物体热气处理的现有设备的又一示例,其中公开了一种加热炉,特别是气体冲击(impingement)加热炉。该加热炉的壳体包括上部和下部,该上部和下部可通过伸缩筒分开,使得上部可相对下部抬起,由此可进入加热炉内部。为了在上部和下部之间提供气密连接,在两个壳体部分之间提供液体密封件。此外,在传输带的各侧也就是上侧和下侧设置单独的风扇和压力腔,以为手头的任务提供所需的气体处理。产品支承在传输带上,所述传输带设置在上、下挡板之间,这产生冲击,也就是产生冲击所述传输带上产品的气体射流。产生冲击射流所需压力的上部、下部风扇分别设置在传输带上方和下方的压力腔中,这样,出于清洁目的,执行该任务的人员不仅需要相对下壳体部段提起上壳体部段,而且必须以非特定方式取下上、下压力腔部分,以靠近压力腔内部并由此靠近风扇和冲击挡板。风扇系统位于传输带下方的设置需要下壳体具有直立壁,以提供气体循环并容纳下部装置,也就是风扇和压力腔。这些竖直壁使得难以清洁和检查安装在下压力腔中的下部风扇。
发明内容
因此本发明的目的在于改进现有装置的效率,同时为了清洁和维护目的增加所述设备的所有部件的可靠近性,使得所述设备的多功能性和效率以及所述设备的卫生标准都得到改进。
本发明通过提供一种用于对支承在环形输送装置上的物体特别是食品进行热气处理的设备来实现所述目的,其中所述设备包括:
-分成两个或多个部段的壳体,其中第一部段包括用于相对第二部段移动所述第一部段的装置;
-设置在所述壳体内并在第一端和第二端伸出所述壳体的环形传输带,其中所述环形输送装置具有适于承载物体的上部运行部和下部返回运行部;
-设置在所述壳体内的两个或多个气体调节单元,其中所述单元沿所述输送装置一个在另一个下游地设置,以将已处理气体向环形输送装置引导;
-基本气密的分隔部,该分隔部使所述气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域,其中所述处理区域仅与相邻的环形输送装置连接;
其中,除了第一端和第二端的部段,所述壳体基本完全包绕所述气体调节单元、分隔部处理区域和环形输送装置。
上述设备具有多个优点,这些优点涉及效率、尤其是涉及容易靠近以进行彻底清洁,这又可提高卫生标准。基本气密的分隔部形成具有自己的气体调节单元的单独的处理区域,这使得能够沿输送装置执行不同的处理。作为示例,可有利地在第一区域中具有非常高的气体循环速度和非常低的气体温度,以例如在冷冻过程中在要处理的物体上形成外皮,而所述物体的彻底冷冻可能更希望以较慢的方式来实现,这样,相邻的下游处理区域可具有处于不太低的温度的较低的气体循环(速度)。也可以有其它变型,例如对于其它类型的产品,可能希望提供非常小心的冷冻过程,使得在冷却器中的全部单独的处理区域中,温度沿朝下游的方向缓慢降低,使得所述物体将冻得越来越硬,根据冷冻的物体,这可提供更好质量的产品,也就是可保持所述产品的完整性和质地。
壳体的第一和第二部段可相对彼此运动,其中例如所述第二部段可以是适当隔热的基板且在大多数情形中从所述设备的安放表面抬起,而所述第一部段可以是钟罩形,使得它可包绕所述设备的工作部件,并通过以气密方式与下方第二部段接合而形成壳体,所述壳体具有基本上气密的特性并且具有用于所述设备适当运行所需的适当隔热性。所述壳体典型地由夹层板制成,其中所述夹层板外皮由不锈钢板材制成,内部绝缘材料可自由地选择,但在优选实施例中使用例如聚安酯泡沫的泡沫材料。
基本上气密的分隔部优选地固定在第二部段也就是底部部段上,这样当钟罩部被抬起时,所述分隔部将保持在所述第二部段上,且可以自由地靠近以进行清洁和维护。为了在分隔部和壳体内部之间提供基本上气密的连接,所述壳体的第一部段或至少所述壳体第一部段的内壁具有与所述分隔部的向上的锥形相应的向上逐渐缩小的宽度,这样当壳体部段相互接合时,所述分隔部将接合所述壳体第一部段的内壁,当所述壳体向上运动时,所述锥形使得易于释放,这样所述分隔部不受壳体部段相对彼此运动的影响。
显然,穿过所有单独的处理区域的连续输送装置会在相邻处理区域之间形成气体泄漏。但是,实验显示,相邻区域之间通过分隔部中必须的孔发生的处理气体的交换非常少,且由于在所述分隔部的两侧进行相似的处理也就是冷却或加热,所以仅当在分隔部的两侧形成较大的压力差时才在两个区域之间发生处理气体的交换。
当所述壳体的第一部段相对第二部段抬高时,可容易地靠近可能被污染或与在所述设备中处理的物体的残留物接触的所述设备的所有构件,以容易地进行清洁,且不需要进行拆卸运动或开门等来靠近本发明的任何特征,这可以从下文的描述中清楚地看到。
在本发明另一有利的实施例中,对输送装置上的物体的气体处理包括冲击工艺过程,其中所述设备在至少一个处理区域中包括:
-加热或冷却元件,设有气体通道,由此允许与所述加热或冷却元件进行热交换;
-风扇,所述风扇具有进入侧和排出侧;
-气体压力分配系统,所述气体压力分配系统与所述风扇的排出侧或气体调节单元连接,且还包括设置在所述环形输送装置上方的上部气体分配腔,所述腔具有上、下板元件,其中下板元件的至少一部分具有冲击喷嘴或孔,在使用过程中,上板元件基本上与所述壳体的一个部段接合。
为了形成冲击效应,需要形成处理气体的射流,这典型地通过相对冲击板一侧提高另一侧的压力实现,且在所述冲击板中设置例如孔形的冲击喷嘴,由此形成处理气体的射流。通过向要处理的物体引导射流,可形成所谓冲击工艺过程。因此本发明提供与所述风扇排出侧连接的气体压力分配系统以产生所需压力,以形成所述气体射流并由此形成冲击工艺过程。由于用于建立所需压力的蒸发器和所述风扇设置在各个处理区域中,所以需要提供气体分配腔,以沿着输送装置在处理区域中均匀地分配气体。为此,在所述环形输送装置的上方和下方设有气体分配腔,使得冲击工艺过程既可在上方也可在下方进行。已经冲击在所述物体上且由此被加热的气体通过风扇的进入侧和排出侧之间的压差被吸回处理单元也就是蒸发器中。
为了使气体分配腔基本气密、由此能保持所述传输带上的气体压力,在使用过程中所述上、下板元件与所述壳体基本上气密接合。由于如上所述的壳体的锥形结构,所述板的尺寸制成与所述锥形配合,使得当所述壳体的第一部段降低到所述壳体内的处理装置上时,水平的板将与所述壳体的基本上竖直的锥形内壁接合,由此形成基本上气密的连接,从而可以保持处理区域上方的气体压力。
在本发明又一有利的实施例中,一个或多个通道连接上部气体分配腔和一个或多个下部气体分配腔,其中各个通道部分地与壳体的一部段一体,下部气体分配通道设置在所述传输带的上部运行部的下方,且横向于传输带的传输方向,所述下部气体分配腔的上板元件设有冲击喷嘴或孔。
为了提供围绕处理区域的气体循环,需要提供通道,使得可在下部气体分配腔中提供加压气体,以从下方朝所述传输带提供冲击。同时,由于当前构造,不能使上部和下部气体分配腔互连,因为需要提供用于返回气体也就是需要循环回所述风扇和气体调节单元的气体的空间。为此,提供通道,其中所述通道包括与传输带的侧边缘直接相邻的从上部气体分配腔到下部气体分配腔的连接板,和与所述壳体第一部段也就是相对所述第二部段抬高的部分的内部一体的所述通道的封闭部。由于所述壳体的锥形构造,所述通道部易于从与所述上、下板元件连接的相应通道板上取下,由此在所述设备的使用过程中能够完全靠近上部和下部气体分配腔以及与其连接的通道。在所述通道之间提供用于将所述返回气体循环回气体调节单元的空间。
虽然如上文所述用于热气处理的设备可用于加热或冷却物体,在又一优选实施例中,所述设备是冷却器且气体调节单元包括蒸发器。
在本发明再一优选实施例中,对输送装置上的物体的气体处理包括气体鼓吹(blasting)工艺过程,其中所述设备在至少一个处理区域中还包括:
-加热或冷却元件,设有气体通道,由此允许与所述加热或冷却元件进行热交换;
-风扇,所述风扇具有进入侧和排出侧;
-气体压力分配系统,所述气体压力分配系统与所述风扇的排出侧或所述气体调节单元连接,且还包括设置在所述环形输送装置上方的上部气体分配腔,所述腔具有上、下板元件,其中所述板元件具有横向于所述传输带的传输方向设置的纵向较窄的孔,在使用中所述上板元件基本上与所述壳体的一个部段接合。
气体鼓吹是不同于冲击的处理,因为直接来自调节单元的气体与输送装置上的物体接触,且由于气体循环,在所述物体上或围绕所述物体形成连续气流,使得在物体和处理气体之间发生热交换。设有气体压力分配系统,以在特定处理区域中在传输带的整个范围基本均匀地分配气体,使得可在所述区域中对产品进行均一和基本一致的处理。为了便于均匀地且在所述输送装置两侧分配气体,在所述传输带上方和下方设置板元件,其中在所述板元件中设置较窄的孔,使得气流从这些孔排出但同时产生一定的流动阻力,以将气体分配到相邻的孔,由此在所述处理区域中实现基本均一的气体分布。
在又一有利实施例中,所述孔设有导向板形式的气体导向装置,其中所述气体导向装置用于提供逆着或沿着环形传输带的传输方向或横向于该传输方向的气流。所述气体导向装置可在确定方向上引导所排出的气体,例如在一处理区域中逆着所述传输带的传输方向,而在相邻的处理区域中沿着与传输带传输方向相同的方向,由此确保所述传输带上的物体被处理气体有效地处理。
在本发明再一有利的实施例中,上部和下部水平板元件构造成可通过向内和/或向外滑动该板元件而取下,且可由相同或不同类型的板元件替换。所述实施例提供了一较简单的方式,其中可简单地通过用适合鼓吹冷冻工艺过程的板替换冲击板,而将所述设备从例如执行冲击冷冻工艺过程转换成执行鼓吹冷冻工艺过程。所述有利的实施例是方便的,因为所述壳体可向上移动,由此使水平的板与所述冷却器中其它装置一起露出。该结构要求水平的板由横跨传输方向的元件支承。由此所述板可通过轴承形式的简单装置在相同的方向滑动,从而便于清洁和替换。该能力还增加了所述设备的多功能性,因为不同的部段可执行不同类型的热处理,根据所处理产品,这可提供更有效和更高质量的处理。而且从卫生的观点看,可实现更好的清洁。
所述结构还相对简单,因为在使用中所述第一部段将所述板保持在它们的适当位置。
在又一有利的实施例中,所述壳体可水平分离,其中环形传输带、两个或多个气体调节单元、和将所述气体调节单元彼此分开从而形成单独的处理区域的基本气密的分隔部设置在所述壳体的下部段上;上部段利用伸缩提升装置可从所述下部段抬高或降低到下部段上,其中在降低的位置,所述下部段和上部段包绕所述设备,除了传输带的第一端和第二端;在所述上部段的抬高位置,可容易地靠近所述环形传输带、两个或多个气体调节单元、气体分配腔和通道、以及将所述气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域的基本上气密的分隔部,以进行检查、维修、保养和清洁。
上文已经提及并讨论了这种结构的优点,其中应该清楚,当钟罩形第一壳体单元处于抬高位置时,可自由靠近所述设备内部的所有部件,以进行清洁和维护,这与现有技术相比提供了显著的优点。
在又一有利的实施例中,壳体部段包括用于在所述部段相互接触时形成基本气密的组件的装置。所述组件例如可以包括设置在所述下方第一部段上的伸出元件或脊部,并包括位于上部段中的相互接合装置或相应的凹部装置,从而除了提供气密连接还提供机械稳定连接,所述机械稳定连接能承受增加的压力,该增加的压力存在于所述壳体中且施加在所述壳体内壁上,以形成上述处理。
有利地,在所述设备设计成用于冷冻的情形中,上部段和下部段之间的连接部包括加热装置,使得能够解冻气密组件以将所述两部段彼此释放。这对于冷冻是特别有用的,其中虽然壳体可以隔热,但所述气密组件可形成热桥,由此湿气可特别地在所述壳体的上部段和下部段之间的连接部周围凝结并冷冻。
在所述设备用于冷冻的本发明又一优选实施例中,蒸发器设置用于通过所述蒸发器的水平气流,压力分配系统包括与上部和下部气体分配腔连接的蒸发器下游的压力分配部段,气体在已经过输送装置上的物体之后被部分地沿着输送装置、主要在下部气体分配腔下方导向所述风扇的进入侧。
所述实施例提供了关于所述设备整体尺寸的优点,其中风扇与蒸发器直接连接,气体分配腔紧靠蒸发器连接,该非常紧凑的构造是节省空间的构造。同时,为返回气体提供了充分的空间,使得返回气体能循环回风扇且由此通过蒸发器加压,这可提供高效的冷却器。
在又一有利的实施例中,蒸发器设置成用于通过所述蒸发器的竖直气流,压力分配系统包括位于蒸发器上方和上游的压力分配部段,上部气体分配腔设置在蒸发器和输送装置之间,下部气体分配腔通过设置在壳体部段中的通道与所述上部气体分配腔连接,气体在已经通过输送装置上的物体之后部分地沿着输送装置、主要在下部气体分配腔下方且沿着蒸发器的一个封闭侧导向所述风扇的进入侧。
在该实施例中,所述风扇的马达设置在所述壳体外部,该马达具有穿过所述壳体上部段的轴,并与所述风扇的轮叶/叶片连接。当所述壳体上部段被抬起时,所述风扇马达和所述风扇的轮叶/叶片结构与所述上部段一起抬起,而用于将返回空气导入所述风扇的进入通道保持在所述壳体的下部段上。这样,所述风扇内部也可彻底清洁,同时用于驱动所述风扇的马达保持在环境温度中,这能减少能量消耗,且提供比所述马达位于所述壳体中时干扰少的环境,其中当马达位于壳体中时,加压的冷却气体不断地撞击所述马达。在该实施例中,在蒸发器上方设有压力腔,在蒸发器下方设有气体分配腔形式的又一压力腔。
由于各个处理区域之间的分隔部,能够将蒸发器风扇和气体分配腔建成多个单元,使得如果一个单元例如由于蒸发器泄漏或风扇故障而发生故障,则整个单元可由新的备用单元替换,这样生产中断时间可保持最小。蒸发器和风扇是独立的单元,其不必须依靠所述构造的其它部分,因此可容易地由另一单独的单元替换。同样,可具有其中气体以冲击射流的形式导向传输带上的物体的单元,和其中实施气体鼓吹或其它气体处理的单元,可以容易地用一元件替换另一元件,使得冲击单元可容易地由鼓吹单元替换,反之亦然。
附图说明
将参考附图描述本发明,其中:
图1示出处于生产模式的第一实施例;
图2示出处于清洁模式的所述设备;
图3以透视图示出本发明,以允许观察所述设备的不同部分;
图4示出所述第一实施例的剖视图;
图5示出处于清洁模式的第二实施例;
图6以透视图示出本发明,以允许观察所述设备的不同部分;
图6a示出所述第二实施例的剖视图;
图7示出所述设备内部的气流的细节;
图8a、8b、9a、9b、10a、10b示出所述壳体和所述气体压力分配通道之间的连接的细节。
具体实施方式
在图1中示出处于运行模式的冷却器的第一实施例的总体示图。第二实施例将参考图5进行描述。
在如图1-4所示的第一实施例中,所述设备包括分为两个部段的壳体:第一上部段1和第二下部段2。设有伸缩筒3形式的装置以相对第二下部段2提高第一上部段1,如图2所示。
第一上部段1具有钟罩形,使得第二下部段2可描述为平台,其中第一上部段1可安放在所需的装置上方以处理输送装置上的产品,所述输送装置从所述设备的第一端4运行至第二端6。在所述图中,传输带的结构5是可见的,而传输带自身已经被取下。所述壳体的两个部段1、2以该方式基本完全包绕所述设备,且仅允许所述传输带在第一和第二端4、6伸出所述壳体,如图1的输送装置的结构5所示。
参考图2,伸缩装置3已经被致动,以相对第二部段提升壳体1的第一部段。为了清晰起见,仅示出两个伸缩装置3。当相对第二下部段2提升第一上部段1时,也就是所述冷却器开启时,可容易地靠近设置在所述壳体中的全部的装置。在所示实施例中可见,沿传输带5设有四个蒸发器7,使得在所述壳体中建立四个处理区域。每个处理区域通过分隔壁8与相邻处理区域隔开。
在所示实施例中,所述设备装配成用于实施冲击冷冻工艺过程,使得压力分配腔10示出为位于各个蒸发器7下方,这将在下文中详细说明。为了从下方对输送装置5上承载的产品产生冲击工艺过程,压力分配通道11设置在传输带5的下方,但与压力分配腔10连接,这将在下文说明。在所述示例中,三个冲击通道11设置在各个蒸发器7下方,但可设置任何数量的冲击通道。
参考图3,所述壳体的第一上部段1已经以透视图示出,以示出所述设备内部的机构。与各个蒸发器7相邻地设有两个风扇12、13。为了清晰起见,除了与所述设备的第一和第二端4、6相邻的分隔壁之外,没有示出参考图2所述的分隔壁8,但应该很明显,设有所述分隔壁以在所述设备内部形成四个不同的处理区域。
在图4中示出根据第一实施例的所述设备的剖视图,其中相同的附图标记表示相同的特征。
从该图中可以清楚地看到,利用括弧20示出的气体处理区域、也就是在壳体内两个分隔部8之间的空间或多或少是独立式单元,事实上该单元可以作为独立单元制造,使得为了修理或彻底清洁,该单元可由类似的单元替换,而对替换下的单元进行修理工作或清洁。
在图5、6和6a中示出本发明的第二实施例,其中蒸发器的取向相对于第一实施例转动90度。在上述参考图1-4所述的本发明第一实施例中,所述风扇将产生水平气流,也就是用于平行于通过蒸发器7的传输带的气流。该实施例需要所述气体分配装置的特定设置,这将在下文详细描述。在参考图5、6和6a所示实施例中,蒸发器设置成用于沿竖直方向的气流,也就是用于沿垂直于所述传输带的传输方向的气流。除此之外,下面的结构与上述结构相应,这样,所述壳体由两个部段即第一上部段1和第二下部段2组成,伸缩筒3形式的装置用于相对于第二下部段2抬高和降低第一上部段1,由此可靠近所述冷却器内部。
与第一实施例不同的是,为风扇供能的马达21设置在壳体1外部,但经轴与轮叶/叶片22连接(见图6),使得在使用中所述壳体中的气体可被加压并被迫通过蒸发器到达传输带5上的产品/物体上。
图6示出与图3相似的实施例,其中壳体1的第一部段画成透明的以示出位于所述冷却器内的内部设置。
如图所示,风扇马达21通过壳体1与风扇轮叶/叶片连接。还可清晰地看见的是,分隔部将各个蒸发器与相邻蒸发器隔开,由此形成处理区域,该区域可具有与所述设备中其它处理区域不同的关于温度、空气速度等的特性。
所示的又一特性是在下文中参考图8-10讨论的一体的气体腔通道的端部件30。但是从所述图中可明显看出的是,如图5和6所示,一旦所述壳体的第一上部段1已经抬起,可容易地靠近通道10、11和加压腔的端部以及使要加压的气体通过所述蒸发器返回的空间,以进行检查和清洁。在图6a中示出与图4中所示剖视图相似的剖视图,其中可以清楚地看见马达21设置在壳体的部段1的外部但通过轴与所述壳体内的轮叶/叶片22连接。
板元件23设置在蒸发器和相邻的分隔部8之间,其中在所述板23中提供用于所述风扇的入口,使得所述风扇能够回收已经用于通过所述风扇处理所述输送装置上的物体并进入由所述板元件23、分隔部8和壳体1的内壁限定的上压力腔24的气体。板元件23还具有孔,所述孔允许在腔24中加压的气体基本竖直地通过蒸发器7进入设置在蒸发器下方的压力分配腔10。从这里开始,所述气体按上文所述方式分配。
参考图7,与上文结合图6a定义的加压空间相似的加压空间24设置在风扇12、13和蒸发器之间且在所述蒸发器另一侧,也就是在所述蒸发器下游,位于蒸发器7的端部和分隔部8之间,该分隔部示出为透明的以便于观察。此外,加压气体将存在于设置在所述蒸发器7下方的气体分配腔10中。
如图7所示,所述压力分配腔由下板元件30限定,该下板元件的一部分延伸过蒸发器7,在该实施例中,所述延伸过蒸发器的一部分具有格栅结构和冲击喷嘴。压力分配腔10的上部水平限定由另一水平板元件31产生。此外,设有竖直连接通道32,以将加压气体引导到设置在传输带5下方的气体分配通道11。返回气体,也就是已经喷在传输带5上的物体上的气体可在所述传输带和下压力分配通道11下方返回,并返回至空间33中的风扇12、13的入口侧。
将参考图8-10说明基本竖直的压力分配通道32的构造。在图中示出这些通道的构造的三个不同实施例,其中图8a、9a和图10a示出当所述两个壳体部段接合时,也就是当所述装置已经准备生产时的位置,而图8b、9b和10b示出当第一壳体部段1已经相对第二壳体部段2被抬起由此允许靠近压力分配通道10、11、32以进行清洁的情况。
参考图8a,可看到物体50在传输带5上传输。所述传输带被处理区域20围绕。
图8、9、10中示出的所选剖视图示出其中具有基本竖直的压力分配通道32的情形。在这些通道32之间,也可见图7,上板31如图所示延伸,而下板30与上板31一样一直延伸至35所示的壳体部段1的内壁。可从图8a、9a和10a清楚地看出,竖直通道32连接传输带5上方的压力分配腔10和下压力分配腔11。板30和下压力分配腔11中的上板36具有冲击喷嘴(未示出)以将气体冲击到传输带5上传输的物体50上。在图8、9和10所示实施例中不同的是第一壳体部段1与处理区域20连接的方法。
在参考图8a和8b示出的第一实施例中,第一壳体部段1的内壁35由基本平直的剖面线示出。为了示出目的,在之前的图中示出和在上文所述的壳体部段1的锥形被大大放大,事实上第一壁部或至少第一壳体部段1的内壁35与竖直方向之间的夹角在0-5度的范围内。
在开启位置,也就是在图8、9和10的b图中,可充分地靠近压力分配腔,因为第一壳体部段1已经完全取下。板31和下压力腔11的下板36延伸超过基本竖直的压力连接通道32的内部限制部37。
对于全部所示实施例相同的是,壳体部段1的内壁35在纵向也就是在垂直于所述图的平面的方向具有凸缘,该凸缘起到在所述纵向也就是在与所述输送装置的传输方向平行的方向限制通道32的范围的限定部(skods)的作用,所述凸缘连接到板31和36以及内部限制部37以建立通道32。
参考图9a和9b,第一壳体部段的内壁35已经设有两个基本水平的凸缘40、41,该凸缘沿纵向具有对应于通道32的宽度的范围,由此上、下板31、36具有对应于所述处理区域的包绕部的范围。
在图10中,该实施例还设有用于所述处理区域的封闭元件,所述封闭元件42与限制通道32的上述凸缘连接且沿纵向延伸,使得当如图10所示提升第一壳体部段1时,竖直压力分配通道32的区域中的处理区域也可自由地用于清洁或检查。
在图8和9所示的实施例中,竖直压力分配通道32的纵向范围使得能够清洁所述传输带和围绕所述传输带的、甚至在封闭元件37后方的处理区域。但是,显然的是,如结合图10所述,可使整个横截面可用,从而更方便且由此还能进行更彻底的清洁。
虽然已经描述了本发明的一特定实施例,但显然的是,本领域技术人员可以进行更多可能的设计且本发明仅由所附权利要求的范围限定。
Claims (11)
1.一种用于对承载在环形输送装置上的物体特别是食品进行热气处理的设备,其中所述设备包括:
分成两个或多个部段的壳体,其中第一部段包括用于相对第二部段移动所述第一部段的装置;
环形传输带,该环形传输带设置在所述壳体内且在第一端和第二端伸到所述壳体外侧,其中所述环形输送装置具有适合承载物体的上部运行部和下部返回运行部;
设置在所述壳体内的两个或多个气体调节单元,其中所述单元沿所述输送装置一个在另一个下游地设置,以将已处理气体向环形输送装置引导;
基本上气密的分隔部,该分隔部使气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域,其中所述处理区域仅与相邻的环形输送装置连接;
其中,除了第一端和第二端的部段,所述壳体基本完全包绕所述气体调节单元、分隔部处理区域和环形输送装置。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,对输送装置上的物体的气体处理包括冲击工艺过程,其中所述设备在至少一个处理区域中还包括:
加热或冷却元件,设有气体通道,由此允许与所述加热或冷却元件进行热交换;
风扇,所述风扇具有进入侧和排出侧;
气体压力分配系统,该气体压力分配系统与风扇的排出侧或气体调节单元连接,且还包括设置在环形输送装置上方的上部气体分配腔,所述腔具有上板元件和下板元件,其中下板元件的至少一部分具有冲击喷嘴或孔,在使用过程中,上板元件基本与所述壳体的一个部段接合。
3.如权利要求2所述的设备,其特征在于,一个或多个通道连接上部气体分配腔和一个或多个下部气体分配腔,其中各个通道部分地与壳体的一部段一体,下部气体分配通道设置在传输带的上部运行部下方,且横向于传输带的传输方向,所述下部气体分配腔的上板元件具有冲击喷嘴或孔。
4.如权利要求1、2或3所述的设备,其特征在于,所述设备是冷却器,所述气体调节单元包括蒸发器。
5.如权利要求1所述的设备,其特征在于,对输送装置上的物体的气体处理包括气体鼓吹工艺过程,其中所述设备在至少一个处理区域中还包括:
加热或冷却元件,设有气体通道,由此允许与所述加热或冷却元件进行热交换;
风扇,所述风扇具有进入侧和排出侧;
气体压力分配系统,该气体压力分配系统与风扇的排出侧或气体调节单元连接,且还包括设置在环形输送装置上方的上部气体分配腔,所述腔具有上板元件和下板元件,其中所述板元件具有横向于传输带传输方向设置的纵向较窄的孔,在使用中上板元件基本上与所述壳体的一个部段接合。
6.如权利要求5所述的设备,其特征在于,所述孔具有导向板形式的气体导向装置,其中所述气体导向装置提供逆着或沿着环形传输带的传输方向的气流。
7.如权利要求2至5中任一项所述的设备,其特征在于,上部水平板元件和下部水平板元件构造成通过向内和/或向外滑动该板元件而取下,且可由相同或不同类型的板替换。
8.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述壳体可水平分开,其中环形传输带、两个或多个气体调节单元、和将气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域的基本气密的分隔部设置在所述壳体的下部段上;上部段可通过伸缩提升装置从所述下部段抬高或降低到下部段上,其中在降低的位置,下部段和上部段包绕所述设备,除了传输带的第一端和第二端;在上部段的抬高位置,可容易地靠近环形传输带、两个或多个气体调节单元、以及将气体调节单元彼此分隔以形成单独的处理区域的基本上气密的分隔部,以进行检查、维修、保养和清洁。
9.如权利要求1或7所述的设备,其特征在于,壳体的部段包括用于在所述部段相互接触时形成基本气密的组件的装置。
10.如权利要求4所述的设备,其特征在于,蒸发器设置用于通过所述蒸发器的水平气流,压力分配系统包括与上部和下部气体分配腔连接的蒸发器下游的压力分配部段,气体在已经过输送装置上的物体之后被部分地沿着输送装置、主要在下部气体分配腔下方导向所述风扇的进入侧。
11.如权利要求4所述的设备,其特征在于,蒸发器设置成用于通过所述蒸发器的竖直气流,压力分配系统包括位于蒸发器上方和上游的压力分配部段,上部气体分配腔设置在蒸发器和输送装置之间,下部气体分配腔通过设置在壳体部段中的通道与所述上部气体分配腔连接,气体在已经通过输送装置上的物体之后部分地沿着输送装置、主要在下部气体分配腔下方且沿着蒸发器的一个封闭侧导向所述风扇的进入侧。
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