CN101794086A - 一种分离显影液废液与di水的分离装置及分离方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种分离显影液废液与DI水的分离装置及分离方法，该装置包含一个自动阻尼器、一个液体隔离装置和两个排放管道。在正常工作状态下，上述阻尼器的下端指向液体隔离装置的一个隔间，并通过该隔间下方的排放管道排出显影液废液；而当利用DI水进行清洗时，上述阻尼器将进行旋转，使其下端指向液体隔离装置的另一个隔间，并通过该另一隔间下方的排放管道排出DI水。采用本发明所述的分离装置和分离方法可以最大限度的使显影液废液和DI水分开排放，有利于厂务处理废液，节约成本，促进环保。

Description

一种分离显影液废液与DI水的分离装置及分离方法
技术领域
本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种分离显影液废液与DI水的分离装置及分离方法。
背景技术
光阻覆盖显影机需要显影液来实现显影，但是实现显影之后将会产生显影液废液，同时，为了清理多余的显影液还需要DI水来进行清洗。现有的光阻显影系统中的显影液废液与冲洗用的DI水是经由一根排放管道排放到厂务系统中去的，如图1所示，在图1中，管道1与管道2中是DI水，管道3中是显影液废液，这三个管道中的液体都先经过同一个管道4，再经过排放管道5排出。这使得两种液体混在一起，无疑增加了厂务处理废液的成本，也增加了DI水回收的成本。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的上述问题，提供一种可将显影液废液与DI水分离的分离装置及分离方法。
本发明提供了一种分离显影液废液与DI水的分离装置，该装置包含一个自动阻尼器，该自动阻尼器与系统中的显影液废液管道和DI水管道相连；一个液体隔离装置，该液体隔离装置位于上述阻尼器下方，用于接收从上述自动阻尼器流下的液体；且该液体隔离装置具有第一隔间和第二隔间；第一排放管道，该第一排放管道位于上述第一隔间下方，且与上述第一隔间连通；第二排放管道，该第二排放管道位于上述第二隔间下方，且与上述第二隔间连通。
上述自动阻尼器可以根据系统的工作状态进行旋转，将其下端分别指向上述第一隔间或第二隔间。
上述自动阻尼器的旋转角度是45～135度，优选为90度。
本发明还提供了一种利用上述分离装置的分离方法，当光阻显影系统处于第一工作状态时，上述分离装置中的自动阻尼器的下端指向上述第一隔间，并通过第一隔间下端的第一排放管道将废液排出；当光阻显影系统处于第二工作状态时，上述分离装置中的自动阻尼器的下端指向上述第二隔间，并通过第二隔间下端的第二排放管道将废液排出。
光阻显影系统由控制信号控制进入第二工作状态，该控制信号同步控制上述自动阻尼器，使其下端指向上述第二隔间。
上述第一废液是显影液废液；上述第二废液是DI水。
采用本发明所述的分离装置和分离方法可以最大限度的使显影液废液和DI水分开排放，有利于厂务处理废液，节约成本，促进环保。
附图说明
图1表示现有的现有显影装置系统中显影液废液与DI水的流向及排放方式图；
图2表示本发明所述的分离装置在一个工作状态下的示意图；
图3表示本发明所述的分离装置在另一个工作状态下的示意图；
图4表示本发明所述的分离装置处于整个光阻显影系统中的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，对本发明所述的一种分离显影液废液与DI水的分离装置及分离方法作进一步的详细说明。
如图2所示，本发明所述的分离装置包含一个自动阻尼器6和一个液体隔离装置7，自动阻尼器6位于上方，与系统中的显影液废液管道和DI水管道相连，液体隔离装置7位于上述自动阻尼器6下方，用于接收自动阻尼器6流下的液体，且液体隔离装置7分为两个隔间71和72，两个隔间下端分别接有两个排放管道8、9，分别用于排放显影液废液和DI水。图2所示是正常工作状态下本分离装置中自动阻尼器6所处的位置。所谓正常工作状态是指此时尚未用DI水进行清洗，只是用显影液进行喷涂。这时，自动阻尼器6的下端指向液体隔离装置7的隔间71，使得显影液废液可以通过隔间71下端的排放管道8排出。
而当显影装置系统中利用DI水进行冲洗时，控制DI水喷涂的电信号可以同步控制本发明所述的分离装置中的自动阻尼器6旋转，使得该阻尼器6由图2中的位置顺时针旋转45～135度、例如是90度，到达图3所示的位置。这时自动阻尼器6的下端指向液体隔离装置7的隔间72，使得DI水可以通过隔间72下端的排放管道9排出。一旦电信号结束，DI水喷涂结束，则分离装置将回归图2中的位置。
图4所示是本发明所述的分离装置处于整个光阻显影系统中的示意图。在正常工作状态下，显影液废液经管道3、管道4、管道10后流向本发明所述的分离装置，然后通过自动阻尼器6的调节，使得显影液废液通过管道8排出；而在利用DI水进行冲洗时，DI水经过管道1或2、管道4、管道10流向本发明所述的分离装置，然后通过自动阻尼器6的调节，使得DI水通过管道9排出。
本发明的分离装置和分离方法还可用于其他的在不同工作状态下使用不同液体的其他装置中来分离不同的液体。
采用本发明所述的分离装置和分离方法可以最大限度的使显影液废液和DI水分开排放，有利于厂务处理废液，节约成本，促进环保。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明的实施范围；如果不脱离本发明的精神和范围，对本发明进行修改或者等同替换的，均应涵盖在本发明的权利要求的保护范围当中。

Claims (7)

1.一种分离显影液废液与DI水的分离装置，其特征在于该装置包含：
一个自动阻尼器，该自动阻尼器与系统中的显影液废液管道和DI水管道相连；
一个液体隔离装置，该液体隔离装置位于上述阻尼器下方，用于接收从上述自动阻尼器流下的液体；且该液体隔离装置具有第一隔间和第二隔间；
第一排放管道，该第一排放管道位于上述第一隔间下方，且与上述第一隔间连通；
第二排放管道，该第二排放管道位于上述第二隔间下方，且与上述第二隔间连通。
2.根据权利要求1所述的分离装置，其特征在于在上述自动阻尼器可以根据系统的工作状态进行旋转，将其下端分别指向上述第一隔间或第二隔间。
3.根据权利要求2所述的分离装置，其特征在于上述自动阻尼器的旋转角度是45～135度。
4.根据权利要求3所述的分离装置，其特征在于上述自动阻尼器的旋转角度是90度。
5.一种利用权利要求1所述分离装置的分离方法，其特征在于
当光阻显影系统处于第一工作状态时，上述分离装置中的自动阻尼器的下端指向上述第一隔间，并通过第一隔间下端的第一排放管道将第一废液排出；
当光阻显影系统处于第二工作状态时，上述分离装置中的自动阻尼器的下端指向上述第二隔间，并通过第二隔间下端的第二排放管道将第二废液排出。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于光阻显影系统由控制信号控制进入第二工作状态，该控制信号同步控制上述自动阻尼器，使其下端指向上述第二隔间。
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于上述第一废液是显影液废液；上述第二废液是DI水。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002146248A (ja) * 2000-11-09 2002-05-22 Nippon Kayaku Co Ltd 無機粉体を印刷ペーストへ再利用する方法
EP1376241A1 (en) * 2002-06-24 2004-01-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing lithographic printing plate
KR100954250B1 (ko) * 2004-11-30 2010-04-23 가부시끼가이샤 도꾸야마 현상 폐액의 처리 방법
CN1911866A (zh) * 2005-08-11 2007-02-14 沈建中 废显影液、废定影液的生物处理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106104762A (zh) * 2014-03-10 2016-11-09 株式会社斯库林集团 基板处理系统以及管道清洗方法
CN106104762B (zh) * 2014-03-10 2018-12-11 株式会社斯库林集团 基板处理系统以及管道清洗方法

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