CN101793550A - 硅胶紫外线感光片及其制作方法 - Google Patents

硅胶紫外线感光片及其制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种硅胶紫外线感光片及其制作方法,该紫外线感光片是以以下步骤制作而成:a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;b、添加重量为硅胶1-3%的硫化剂然后混炼均匀;c、添加重量为硅胶1-5%的感光粉并混炼均匀;d、加热成型。本发明制得的硅胶紫外线感光片能够在不同的紫外线强度的照射下快速呈现相应颜色深度,根据硅胶紫外线感光片颜色深度给予人们紫外线强度的指示。

Description

硅胶紫外线感光片及其制作方法
【技术领域】
本发明涉及紫外线感光技术,尤其涉及一种硅胶紫外线感光片及其制作方法。
【背景技术】
随着地球生态环境的变化,臭氧层遭到破坏,照射到地球表面的紫外线越来越多。由于紫外线能够对人们的身体造成伤害,因此人们越来越关注紫外线的强度。但是,一般人仅能从天气预报中得知大概的紫外线指数,而对于正处于户外的人们而言,并未能有一方便指示紫外线强度的检测工具,而如何解决此一问题,即是本发明的主要目的。
【发明内容】
本发明针对现有技术的上述缺陷,提供一种能够快速指示紫外线强度的硅胶紫外线感光片以及该硅胶紫外线感光片的制作方法。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
硅胶紫外线感光片,该紫外线感光片是以以下步骤制作而成:a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;b、添加重量为硅胶1-3%的硫化剂然后混炼均匀;c、添加重量为硅胶1-5%的感光粉并混炼均匀;d、加热成型。
优选地,步骤c之前前或步骤c之后还包括步骤c1,步骤c1为添加硅胶色母。
优选地,步骤b中,添加的硫化剂为硅胶重量的1.5%。
优选地,所述硫化剂为高抗黄硫化剂。
本发明根据以上方法制作得到的硅胶紫外线感光片能够在不同的紫外线强度的照射下在两秒内呈现相应颜色深度,根据感光片的颜色深度由此可得出紫外线的强度。该硅胶紫外线感光片具有耐水、耐高温、使用寿命长、便携、价格低廉的诸多优点。
【具体实施方式】
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一,硅胶紫外线感光片的制备方法为:
a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;
b、添加重量为硅胶1.5%的高抗黄硫化剂然后混炼均匀;
c、添加重量为硅胶2%的感光粉并混炼均匀;
d、加热成型。
实施例二,硅胶紫外线感光片的制备方法为:
a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;
b、添加重量为硅胶1%的高抗黄硫化剂然后混炼均匀;
c、添加重量为硅胶1%的感光粉并混炼均匀;
d、加热成型。
实施例三,硅胶紫外线感光片的制备方法为:
a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;
b、添加重量为硅胶3%的高抗黄硫化剂然后混炼均匀;
c、添加重量为硅胶5%的感光粉并混炼均匀;
d、加热成型。
实施例四,硅胶紫外线感光片的制备方法为:
a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;
b、添加重量为硅胶3%的高抗黄硫化剂然后混炼均匀;
c1、添加重量为硅胶1%硅胶色母并混炼均匀;
c、添加重量为硅胶5%的感光粉并混炼均匀;
d、加热成型。
实施例五,硅胶紫外线感光片的制备方法为:
a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;
b、添加重量为硅胶3%的高抗黄硫化剂然后混炼均匀;
c、添加重量为硅胶5%的感光粉并混炼均匀;
c1、添加重量为硅胶5%的硅胶色母并混炼均匀;
d、加热成型。
该硅胶紫外线感光片在200℃温度下不影响其使用,可以作为鞋、帽、服装、手袋、汽车等图案标志的载体,随时给予人们紫外线强度的信息。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (4)

1.硅胶紫外线感光片,其特征在于,该紫外线感光片是以以下步骤制作而成:
a、取硅胶,将该硅胶置入混炼机中混炼至表面平滑光泽;
b、添加重量为硅胶1-3%的硫化剂然后混炼均匀;
c、添加重量为硅胶1-5%的感光粉并混炼均匀;
d、加热成型。
2.根据权利要求1所述的硅胶紫外线感光片,其特征在于,在步骤c前或在步骤c后还包括步骤c1,步骤c1为添加重量为硅胶1-5%的硅胶色母。
3.根据权利要求1或2所述的硅胶紫外线感光片,其特征在于,步骤b中,添加的硫化剂为硅胶重量的1.5%。
4.根据权利要求3所述的硅胶紫外线感光片,其特征在于,所述硫化剂为高抗黄硫化剂。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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