CN101728174A - 等离子显示面板 - Google Patents

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CN200910266018A
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Inventor
陈立国
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Sichuan COC Display Devices Co Ltd
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Sichuan COC Display Devices Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种等离子显示面板及其制造方法,该等离子显示面板包括:前基板、与前基板封接的后基板、形成在前基板上的放电电极以及形成在所述放电电极的下表面的保护膜,放电电极包括平行延伸的维持电极和扫描电极,其特征在于,在前基板上形成有用于形成维持电极和扫描电极的沟槽。

Description

等离子显示面板
技术领域
本发明涉及等离子显示面板、等离子显示屏以及等离子显示面板的制造方法。
背景技术
等离子显示面板(plasma display panel,PDP)是真空腔体内利用He+Xe、Ne+Xe、He+Ne+Xe或He+Ne+Kr+Xe等惰性混合气体放电时产生147nm的真空紫外线,以使荧光体发光,从而产生能够被视觉感应的文字、图像等。
图1是现有的采用ITO电极等离子显示面板的透视图,图2是图1中示出结构的剖视图。如图1,图2所示,等离子显示面板的放电单元包括:平行地形成在前基板10上的扫描电极11以及维持电极12,通常由形成于前基板10上的透明电极11a、12a和形成于透明电极11a、12a上的用于减少透明电极的电压降的金属电极11b、12b两部分组成。
作为透明电极的电极材料,通常使用氧化铟锡(Indiμm-Tin-Oxide:ITO)。作为金属电极的电极材料,通常以铬(Cr)、银(Ag)等为主要材料。
在制作PDP面板的过程中,在每组放电电极之间设置有黑条30,以提高显示面板的对比度。在黑条30的下表面(后基板20侧)覆盖前介质层13,该前介质层13用于确保扫描电极11与维持电极12之间的电阻率,并能够在等离子放电时蓄积一定的壁电荷,该前介质层13的下表面(后基板20侧)形成有保护膜14,该保护膜14用于防止等离子放电对前介质层13的破坏,并且能够提高二次放电系数。作为保护膜14的材料,一般使用氧化镁(MgO)。
寻址电极21形成于后基板20上。在寻址电极21的上表面(前基板10侧)覆盖有后介质层23,以与寻址电极21绝缘,并对寻址电极21形成保护。在后介质层23上设置有障壁24。障壁24一般为条形或栅格形状。基于此,每条或每个栅格构成一个显示单元。在障壁单元格内注入相应的荧光体浆料25。寻址电极21垂直于前基板10上扫描电极11以及维持电极12对应的空间,并与放电单元格对应。向由前基板10、后基板20以及障壁24构成密闭的放电空间中冲入定量的用于气体放电的惰性混合气体。
对于采用该ITO电极的PDP面板来说,由于ITO自身的电导率比较低,需要金属电极配合,以增加放电电极的电导率,从而满足PDP工作需要。但是,由于ITO电极自身电阻较大,若要实现理想的显示效果,需要很大的PDP功耗,这增加了使用者的成本负担。
市场上还存在一种采用无ITO(ITO less)电极的PDP。ITO less结构的PDP面板不利用ITO进行放电,而是利用金属电极作为公共电极(包括扫描电极和维持电极),从而解决了放电电极阻抗大的问题。但由于金属电极本身不透明,因此对显示面板的亮度产生了较大影响,并且,金属电之间放电以点对点方式实现,因此,一般采用在金属电极的中间开孔的方式来提高显示面板的亮度。如图3所示,在电极金属11和12中开有孔11k和12k。此外,还需要保证金属电极边缘的整齐。尽管如此,显示亮度仍受到了较大影响。为了增加显示亮度,要求在制作中开孔面积尽可能大,但大面积的开孔又会降低整个显示面板的对比度。
发明内容
本发明的目的是提出一种PDP显示屏的放电电极设计,用以避免前述两种显示屏的缺陷。
根据本发明的一个方面,等离子显示电极包括:前基板、与上述前基板封接的后基板、形成在上述前基板上的放电电极和形成在上述放电电极的下表面的保护膜,上述放电电极包括平行延伸的维持电极和扫描电极,其特征在于,在上述前基板上形成有用于形成上述维持电极和上述扫描电极的沟槽。
优选地,上述维持电极和上述扫描电极为金属电极。
优选地,所述显示面板还包括形成在每对放电电极对之间的黑条,以更好地调节显示屏的对比度。
如上上述,本发明的维持电极和扫描电极都为金属电极,因此省去了制作ITO的工序,降低了成本,因此,本发明具有ITO less显示面板结构的优点。
根据本发明的另一方面,等离子显示面板的制造方法的其特征在于,包括:在前基板上形成预定厚度的前介质层;利用显影技术在上述前介质层中形成沟槽,并进行烧结;向烧结后的上述沟槽中注入电极浆料,然后进行烧结,以形成放电电极;在电极的下表面形成保护模;在后基板上形成条形且平行排列的寻址电极;在上述寻址电极的上方形成后介质层;在上述后介质层上形成障壁,以形成单元格,并在上述单元格内注入发光材料;以及将形成有图案的上述前基板和上述后基板进行精确对合。
如上上述,在等离子显示面板的制造过程中,利用沟槽将放电电极形成在由前介质材料制作的沟槽中,可以实现放电电极宽度为100μm以下,但不会影响整张显示面板的电导率(可通过改变放电电极的厚度来实现)。
附图说明
图1是现有等离子显示面板结构的组装透视图(采用ITO电极及黑条,条状障壁结构);
图2是现有等离子显示面板结构的侧剖面图(采用ITO电极,条状障壁结构);
图3是前基板采用ITO less结构示意图。
图4是用于本发明的前基板的局部剖面图;
图5是示出一种优选方式的前基板上电极结构的示意图;
图6是后基板的结构侧截面图;
图7是前后基板对合后的局部的表面装配图;以及
图8是前后基板对合后的局部剖面图。
符号说明
10、前基板   11、扫描电极   12、维持电极
13、前介质层     14、保护膜        15、沟槽
20、后基板       21、寻址电极      23、后介质层
24、障壁         25、注入荧光粉的放电单元格
30、黑条或黑点
具体实施方式
应该指出,本说明书中的示例及说明都是例示性的,旨在对所要求的本发明提供进一步的说明。下面将参照图,进一步详细说明本发明的其他目的、特征和效果。
参照图4至图8,详细说明本发明的等离子显示面板的结构及制造方法,着重说明本发明与现有技术的区别。
如图4所示,在前基板10上设有介质层13,在介质层中嵌入需要数量的扫描电极11和维持电极12。电极11和12均有金属形成,例如Ag、Cr等。在本实施例中,介质层13与金属电极具有相同的厚度,但是这不是必须的,金属电极的厚度可以小于介质层的厚度,即电极可以占有介质层的部分深度。
图4示出一种优选方式的沟槽设置。在该设置中,用于沉入放电电极11和12的沟槽15在长度方向上并非等宽,而是以预定的间隔设有扩大部16、17,用于对应地沉入扫描电极11和维持电极12
在一种优选方式中,上述维持电极12和所述扫描11电极之间的放电间隙(两个扩大部之间的间隙)为60~85μm。在另一种实施方式中,金属电极的线条宽度为50μm到80μm。在另一种实施方式中,金属电极的厚度更优选为15μm到20μm,该厚度可以确保足够的电导率,远远优于现有技术中通常在6μm以下的厚度。
在电极的顶端制作1000nm到2500nm的保护膜。该保护膜通常用MgO。
本发明还涉及用于形成PDP显示屏前基板放电电极的方法。
首先,在干净的前基板10上制作需要厚度的前介质层13。根据所需的电极的厚度,来确定前介质层13的厚度。
在前介质层13制作完成后,通过曝光等显影技术来制作沟槽15。烧结带有沟槽图案的基板,冷却后向沟槽15中注入电极浆料。浆料干燥后进行再烧结,以除去电极浆料中的有机成分。
电极制作完成后,在电极的下表面(前基板10的相反侧)制作大于1000nm的保护膜14,如图4所示。保护膜14的主要材料为MgO。保护模14通常通过蒸镀法或印刷方法实现。
参见图6,对后基板上的图形的制作过程进行详细说明。首先,在后基板20上制作寻址电极21。寻址电极21为条形且电极之间平行排布。寻址电极21的间隙和宽度与前基板10相对应。在寻址电极21的上方制作后介质层23,后介质层23需要保持较高反射率。在后介质层23上制作障壁24,障壁24根据放电间隙和寻址电极21的排布进行设置。在障壁24制作完成后,在由障壁形成的单元格内注入银光粉。
将前基板10和后基板20进行精确对合,然后,进行封接,排气,并冲入定量的工作气体。这样,如图8及图9所示,整张基板的制作就完成了。
根据本发明,利用在前介质层13上制造沟槽15来制作电极,可以将电极的宽度和高度控制在工艺设计要求的范围内,从而实现了既能够保证前基板10工作时的具有良好的透过率,又能够保证电极的电导率。具备了采用ITO制作的PDP面板的优点。
根据本发明的结构还较采用ITO less结构的PDP提高了整个面板的放电稳定性。ITO less结构的PDP在工作中采用尖端放电的方式,这就存在了在面板面积较大的情况下不能确保良好的放电稳定性的问题。但是,通过本发明中的方法,可以增加放电部位50%以上的放电几率,从而提高了整个面板的放电稳定性。
很显然,与常规具有ITO结构的PDP面板相比,本发明的PDP面板具有扫描速度,功率低的特点。而与常规的ITO less机构的PDP面板相比,本发明则具有透过率高、亮度高、稳定性高的特点。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种等离子显示面板,包括前基板和形成在所述前基板上的放电电极,其特征在于,在所述前基板的介质层设置需要数量的平行沟槽,用于嵌入采用全金属形成的所述放电电极。
2.根据权利要求1所述的等离子显示面板,其特征在于,每一个所述平行沟槽具有多个间隔开的扩大部位,使得嵌入的维持电极和扫描电极相应地具有扩大部位。
3.根据权利要求2所述的等离子显示面板,其中,用于维持电极的扩大部位和用于扫描电极的扩大部位之间的间隙(放电间隙)为60~85μm。
4.根据权利要求2所述的等离子显示面板,其中,所述金属电极的线条宽度为50μm到80μm。
5.根据权利要求2所述的等离子显示面板,其中,所述在金属电极的厚度为15μm到20μm。
6.根据权利要求1至6所述的等离子显示面板,其中,还包括形成在每对所述放电电极对之间的黑条。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109767966A (zh) * 2018-12-27 2019-05-17 西安交通大学 一种微腔放电紫外辐射器件及其制备方法和基于其的微腔阵列

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