CN101717936B - 机台 - Google Patents

Abstract

本发明提出一种机台，包含用以承载待处理物件的载台、用以输送液体的液体管、用以输送气体的气体管、混合装置以及流体输出装置。混合装置用以混合液体及气体而形成气液混合流体，其中该混合装置包含耦接该液体管的第一入口部分、耦接该气体管的第二入口部分及出口部分。该第一入口部分与该第二入口部分的夹角约为90度。该第二入口部分包含具有多个呈蜂窝状排列的孔洞的气体分流器。流体输出装置耦接该出口部分且用以输出该气液混合流体至该载台上的待处理物件。本发明提出的机台，能有效的去除基板上的强碱性溶液，以防止金属膜被腐蚀。

Description

机台

技术领域

本发明涉及一种机台，特别是关于一种具有可混合液体与气体的混合装置的机台。

背景技术

一般而言，利用半导体工艺在基板表面形成电路图案的方法，其步骤首先在基板表面上形成金属膜。然后，在金属膜上形成一层光阻膜。接着，对基板上的光阻膜进行曝光、显像及蚀刻等程序，以将该金属膜图案化。之后，将图案化的金属膜上存留的光阻膜剥离去除。然后，以纯水清洗基板。最后，将基板干燥。通常，将存留的光阻膜剥离，可使用含胺的有机剥离液。

当使用含胺的有机剥离液剥离光阻膜时，用于清洗基板的纯水与含胺的剥离液混合后会产生强碱性溶液，倘若强碱性溶液无法即时或完全从基板上被去除，基板上的金属膜将被腐蚀。

使用含胺的有机剥离液在基板清洗步骤中，会产生强碱性溶液，而现有技术仍无法有效地将强碱性溶液去除，因此有必要对基板清洗技术进行改进。

发明内容

本发明的目的是在于提出一种机台，特别是一种具有可混合液体与气体的混合装置的机台，以有效的去除基板上的强碱性溶液，防止金属膜被腐蚀。

本发明一实施例的机台包含载台、液体管、气体管、混合装置以及流体输出装置。载台用以承载待处理物件。液体管用以输送液体。气体管用以输送气体。混合装置用以混合该液体及该气体而形成气液混合流体，其中该混合装置包含第一入口部分、第二入口部分及出口部分，该第一入口部分耦接该液体管，该第二入口部分耦接该气体管，该第一入口部分与该第二入口部分的夹角约为90度，该第二入口部分包含具有多个呈蜂窝状排列的孔洞的气体分流器。流体输出装置耦接该出口部分且用以输出该气液混合流体至该载台上的该待处理物件。

本发明提出的机台的特点及优点在于，本发明的机台设置有混合装置，液体与气体以约90度角于该混合装置内充分混合，混合装置连接气体源的一端设置有气体分流器，气体分流器可将气体分隔成多道细小的分流，如此气体可更容易溶入液体中。此外，借由气体流量的调整，可加速液体的速度，而增强基板上的药液去除的效果，以有效的去除基板上的强碱性溶液，防止金属膜被腐蚀。

上文已相当广泛地概述本发明的技术特征及优点，使下文的本发明详细描述得以获得较佳了解。构成本发明的申请专利范围的的其它技术特征及优点将描述于下文。本发明所属技术领域中具有通常知识者应了解，可相当容易地利用下文揭示的概念与特定实施例可作为修改或设计其它结构或工艺而实现与本发明相同的目的。

附图说明

以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：

图1示意性的表示本发明一实施例的机台；

图2示意性的表示本发明一实施例的混合装置；

图3示意性的表示本发明一实施例的气体分流器；

图4示意性的表示本发明一实施例的待处理物件。

主要元件标号说明：

10    机台            12    载台

14    待处理物件      16    处理区域

18    流体输出装置    20    液体管

22    气体输出装置    24    预定方向

26    入口侧          28    出口侧

30    气体管          40    混合装置

52    第一入口部分    54    第二入口部分

56    出口部分        58    气体分流器

59    孔洞            72    基板

74    铝层            82    光阻剥离液

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式。

图1示意性的表示本发明一实施例的机台10。参照图1所示，本实施例的机台10包含载台12、液体管20、气体管30、混合装置40以及流体输出装置18。载台12用以承载待处理物件14。液体管20用以输送液体。气体管30用以输送气体。混合装置40用以混合该液体及该气体而形成气液混合流体。流体输出装置18用以输出该气液混合流体至该载台12上的该待处理物件14。

图2示意性的表示本发明一实施例的混合装置40，而图3示意性的表示本发明一实施例的气体分流器58。参照图1至图3所示，混合装置40包含第一入口部分52、第二入口部分54及出口部分56，其中该第一入口部分52耦接该液体管20，该第二入口部分54耦接该气体管30，而流体输出装置18耦接该出口部分56。第一入口部分52与第二入口部分54的夹角可约为90度，且该第二入口部分54包含具有多个呈蜂窝状排列的孔洞59的气体分流器58。在本实施例中，孔洞59的外形为圆形，但本发明不以此为限。孔洞59的外形亦可为多角形例如六角形等形状。

详言之，机台10可为一光刻工艺的清洗机台，而混合装置40可包含三通管件，其中具有多个呈蜂窝状排列的孔洞59的气体分流器58插置于三通管件的一端口，但本发明不以此为限。一液体源对液体管20持续地提供液体，液体经过混合装置40流至流体输出装置18，然后喷洒于处理区域16中，以清洗处理区域16内的待处理物件14，其中该液体可包含去离子水，惟不限于此，亦可依实际需求选择适当的液体。一气体源供应气体，气体透过气体管30流过混合装置40的气体分流器58，气体分流器58将气体分隔成多道分流，而多道气体分流于混合装置40内被导入流往流体输出装置18的液体内，并形成微细的气体气泡，使得气体可更容易溶入液体中。此外，由于混合装置40的第一入口部分52与第二入口部分54的夹角约为90度，使多道气体分流以约为90度的角度导入混合装置40内流动的液体中，因此气体与液体间的混合可更为均匀。在本实施例中，气体可包含二氧化碳，二氧化碳经气体分流器58分流后，以约为90度的角度混入液体后，可获得呈酸性且酸碱值均匀的液体，惟不限于此，亦可依实际需求选择适当的气体。特而言之，流经混合装置40的液体与气体的流量比可介于1∶1至10∶1之间，而气体的流量可介于2至18升/分钟。以前述气体与液体的流量混合，可产生pH值介于4.0至4.5的间的气液混合流体。

图4示意性的表示本发明一实施例的待处理物件14。参照图1与图4所示，机台10的载台12上包含处理区域16，待处理物件14于该处理区域16内以气液混合液进行清洗。载台12沿一预定方向24行进，借此移动清洗中的待处理物件14。载台12可为输送滚轮或其他适宜的输送装置。待处理物件14可包含基板72、光阻剥离液82及金属层74，其中金属层74可为铝层，而光阻剥离液82呈碱性。金属层74设置于基板72上，而光阻剥离液82至少局部覆盖基板72及金属层74。需说明的是，图中所示的待处理物件的尺寸与比例仅是举例，惟不限于此，例如待处理物件面积可超越处理区域的面积。

机台10可另包含气体输出装置22，其中该气体输出装置22与流体输出装置18用以限定该处理区域16，也就是说，气体输出装置22与流体输出装置18分别设置于该处理区域16的相对两侧。载台12用以沿预定方向24行进，该预定方向24由该气体输出装置22朝向该流体输出装置18的方向。该气体输出装置22邻近于该处理区域16的入口侧26，而该流体输出装置18邻近于该处理区域16的出口侧28。气体输出装置22朝向该流体输出装置18的方向，并以气刀方式输出惰性气体至该载台12，以便将该气液混合流体限制于该处理区域16。气体输出装置22另可相对于该载台12以第一角度将该惰性气体输出至该处理区域16的入口侧26，其中该第一角度小于90度。相对地，流体输出装置18亦可相对于该载台12以第二角度输出该气液混合流体至该处理区域16的出口侧28，其中该第二小角度小于90度。特而言之，流体输出装置18可为一水雾喷头或一水刀。

综合上述，本发明一实施例揭示一种混合装置，其中液体与气体以约90度角于该混合装置内混合，借此达到充分混合。混合装置连接气体源的一端设置有气体分流器，气体分流器可将气体分隔成多道细小的分流，如此气体可更容易溶入液体中。此外，借由气体流量的调整，可加速液体的速度，而增进基板上的药液去除的效果。

此外，本案并不局限于上文揭示的特定实施例的工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤。本发明所属技术领域中具有通常知识者应了解，基于本发明教示及揭示工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤，无论现在已存在或日后开发者，其与本案实施例所揭示的是以实质相同的方式执行实质相同的功能，而达到实质相同的结果，亦可使用于本发明。

以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作的等同变化与修改，均应属于本发明保护的范围。

Claims (18)

1.一种机台，其特征在于，该机台包含：

载台，用以承载待处理物件；

液体管，用以输送液体；

气体管，用以输送气体；

混合装置，用以混合该液体及该气体而形成气液混合流体，其中该混合装置包含第一入口部分、第二入口部分及出口部分，该第一入口部分耦接该液体管，该第二入口部分耦接该气体管，该第一入口部分与该第二入口部分的夹角约为90度，该第二入口部分包含具有多个呈蜂窝状排列的孔洞的气体分流器；以及

流体输出装置，耦接该出口部分且用以输出该气液混合流体至该载台上的该待处理物件。

2.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该液体与该气体的流量比介于1∶1至10∶1之间。

3.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该气体的流量介于2至18升/分钟。

4.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该机台是一光刻工艺的清洗机台。

5.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该气液混合流体的pH值介于4.0至4.5之间。

6.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该液体包含去离子水。

7.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该气体包含二氧化碳。

8.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该流体输出装置为一水雾喷头。

9.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该流体输出装置为一水刀。

10.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该机台另包含气体输出装置，以气刀方式输出惰性气体至该载台，以便将该气液混合流体限制在处理区域。

11.如权利要求10所述的机台，其特征在于，该气体输出装置及该流体输出装置位于该处理区域的相对两侧。

12.如权利要求10所述的机台，其特征在于，该气体输出装置邻近于该处理区域的入口侧，该流体输出装置邻近于该处理区域的出口侧。

13.如权利要求10所述的机台，其特征在于，该载台沿预定方向行进，该预定方向是由该气体输出装置朝向该流体输出装置的方向。

14.如权利要求10所述的机台，其特征在于，该气体输出装置相对于该载台以第一角度将该惰性气体输出至该处理区域的入口侧，该第一角度小于90度。

15.如权利要求10所述的机台，其特征在于，该流体输出装置相对于该载台以第二角度输出该气液混合流体至该处理区域的出口侧，该第二小角度小于90度。

16.如权利要求1所述的机台，其特征在于，该待处理物件包含：

基板；以及光阻剥离液，至少局部覆盖该基板。

17.如权利要求16所述的机台，其特征在于，该光阻剥离液呈碱性，该气液混合流体呈酸性。

18.如权利要求16所述的机台，其特征在于，该待处理物件包含一铝层，设置于该基板上。

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