CN101642605A - 放射治疗设备和放射线照射方法 - Google Patents

Abstract

放射治疗设备和放射线照射方法。放射治疗设备包括构造成产生带电粒子束的加速单元。靶构造成当将带电粒子束照射到该靶时产生放射线。传感器构造成测量流过靶的电流。剂量计构造成测量放射的剂量。控制单元构造成根据测量出的电流和测量出的剂量来控制加速单元。放射线照射方法包括：测量流过靶的电流，所述靶当被由加速单元产生的带电粒子束照射时照射出放射线；测量所述放射线的剂量；以及根据测量出的电流和测量出的剂量来控制所述加速单元。本发明的放射治疗设备和放射线照射方法能减少照射到样本的放射线剂量的波动。

Description

放射治疗设备和放射线照射方法

技术领域

本发明涉及放射治疗设备和放射线照射方法，以及尤其涉及这样的放射治疗设备和放射线照射方法，其中，能够在针对例如前列腺和肺作为体内肿瘤的被侵袭区域的放射治疗中，实现剂量的高度稳定性。

背景技术

通过对被侵袭区域(肿瘤)照射治疗放射线来治疗患者的放射治疗设备是广泛知晓的。需要放射治疗具有较高的治疗效果。另外，要求更准确地对被侵袭区域照射仅仅预定剂量的治疗放射线，以及要求剂量的波动较小。

美国专利No.4,427,890公开了一种用于通过监视靶中电流来控制电子束的能量的方法，该靶将电子束转换为X射线。公开号为No.2007/0248214的美国专利申请公开了一种方法，用于通过使用透射型剂量计测试X射线的剂量分布，以及通过控制功率以便校正X射线的剂量分布的改变，来控制电子束的能量，所述透射型剂量计具有分散型终端电极。

发明内容

本发明提供放射治疗设备和放射线照射方法，其中，能够减少照射到样本的放射线剂量的波动。

在本发明的一个方面，一种放射治疗设备包括：加速单元，构造成产生带电粒子束。靶被构造成：当将带电粒子束照射到靶时产生放射线。传感器被构造成测量流过靶的电流。剂量计被构造成测量放射线剂量。控制单元被构造成：根据测量出的电流和测量出的剂量，来控制加速单元。

在本发明的另一个方面，通过如下步骤来实现放射线照射方法：测量流过靶的电流，当照射由加速单元生成的带电粒子束时，该靶照射出放射线；测量放射线的剂量；以及根据测量出的电流和测量出的剂量来控制加速单元。

在根据本发明的放射治疗设备和放射线照射方法中，能够减少照射到样本的放射线剂量的波动。

附图说明

图1是示出根据本发明实施例的放射治疗设备的透视图；

图2是示出实施例的放射治疗设备中的照射头和其他部件的图示；

图3是示出实施例的放射治疗设备中的de-Qing电路和充电元件的电路图；

图4是示出实施例的放射治疗设备中的控制单元的框图；

图5是图示，示出了比较例中的10cm深度吸收剂量的波动，以及示出了由根据本发明的放射治疗设备生成的治疗放射线的10cm深度吸收剂量的波动。

具体实施方式

在下文中，将参考附图来描述根据本发明的放射治疗设备。图1是示出根据本发明实施例的放射治疗设备3的图示。如图1所示，放射治疗设备3包括旋转驱动单元11、O型环12、移动机架14、摆动机构15以及照射头16。旋转驱动单元11围绕旋转轴17能够旋转地在基座上支持O型环12，在放射治疗设备的控制器(未示出)的控制下围绕旋转轴17旋转所述O型环12，以及将O型环12的旋转角输出到基座。旋转轴17平行于垂直方向。O型环围绕旋转轴18以环形形成，并围绕旋转轴18能够旋转地支持移动机架14。旋转轴18垂直于垂直方向，以及延伸通过在旋转轴17中包括的等中心(isocenter)19。旋转轴18还被固定到O型环12上，以及因此而与O型环12一起围绕旋转轴17旋转。移动机架14围绕旋转轴18以环形形成，以及被布置为与O型环12的环同心。放射治疗设备3还包括移动驱动单元(未示出)。该移动驱动单元在放射治疗设备控制器的控制下围绕旋转轴18旋转移动机架14，并将移动机架14的移动角输出到O型环12。

摆动机构15被固定在移动机架14的环内，并支持在移动机架14上的照射头16，使得照射头16能够布置在移动机架14内。该摆动机构15具有摇动轴(pan axis)21和倾斜轴22。摇动轴21被固定到移动机架14，以及平行于旋转轴18而不与旋转轴18相交。倾斜轴22与摇动轴21垂直。摆动机构15在放射治疗设备控制器的控制下围绕摇动轴21转动照射头16，以及围绕倾斜轴22转动照射头16。

照射头16在放射治疗设备控制器的控制下照射治疗放射线23。几乎沿着延伸通过一个交点的直线放射出治疗放射线23，摇动轴21与倾斜轴22在该交点处彼此相交。治疗放射线23具有均匀的强度分布。此外，当对患者照射治疗放射线23时，通过遮蔽治疗放射线23的一部分来控制照射野的形状。

如上所述，通过利用移动机架14来支持照射头16，以及利用摆动机构15来调节照射头16一次以面对等中心19，即使当利用旋转驱动单元11来旋转O型环12时或者当利用移动驱动单元来移动所述移动机架14时，治疗放射线23总是通过等中心19。也就是说，治疗放射线23能够利用移动和旋转而从任一方向照射到等中心19。

放射治疗设备3还包括多个成像器系统。也就是说，放射治疗设备3包括诊断X射线源24和25以及传感器阵列32和33。利用移动支架14来支持诊断X射线源24。诊断X射线源24设置在移动机架14的环内。诊断X射线源24布置在一个位置处，在该位置处，在连接等中心19和诊断X射线源24的线与连接等中心19和照射头16的线之间的角度是锐角。诊断X射线源24在放射治疗设备控制器的控制下，照射诊断X射线35到等中心19。诊断X射线35是锥形束，该锥形束从诊断X射线源24中包括的一个点照射。利用移动机架14来支持诊断X射线源25。诊断X射线源25设置在移动机架14的环内，并布置在一个位置处，在该位置处，在连接等中心19和诊断X射线源25的线与连接等中心19和照射头16的线之间的角度是锐角。诊断X射线源25在放射治疗设备控制器的控制下，照射诊断X射线36到等中心19。诊断X射线36是锥形束，该锥形束从诊断X射线源25中包括的一个点照射。

利用移动机架14来支持传感器阵列32。该传感器阵列32接收由诊断X射线源24照射并围绕等中心19透射通过靶的诊断X射线35，并产生该靶的透射图像。利用移动支架14来支持传感器阵列33。该传感器阵列33接收由诊断X射线源25照射并围绕等中心19透射通过靶的诊断X射线36，并产生该靶的透射图像。示出FPD(平板检测器)和X射线II(图像增强器)作为传感器阵列32和33的示例。

根据这些成像器系统，能够基于利用传感器阵列32和33获得的图像信号，来产生围绕等中心19的透射图像。

放射治疗设备3还包括传感器阵列31。该传感器阵列31布置为以便连接传感器阵列31和治疗放射线照射头16的线通过等中心19，并且被固定在移动机架14的环内。传感器阵列31接收由放射头16放射并且围绕等中心19透射通过靶的治疗放射线23，并产生靶的透射图像。示出FPD(平板检测器)和X射线II(图像增强器)作为传感器阵列31的示例。

放射治疗设备3还包括治疗床41和治疗床驱动单元42。将要利用放射治疗设备3治疗的患者43躺在治疗床41上。治疗床41包括固定装置(未示出)。该固定装置将患者固定到治疗床，使得患者不能移动。治疗床驱动单元42在基座上支持治疗床41，以及在放射治疗设备控制器的控制下移动治疗床41。

图2是示出照射头16的图示。照射头16包括电子枪51、加速管52、X射线靶53、均整过滤器54以及多片式准直器55。电子枪51包括阴极61和栅62。通过使用提供的电力对阴极61进行加热，使得能够容易地发射电子。对栅62提供正电压，使得将从阴极61出射的电子引导到加速管52。该加速管52通过使用提供的高频功率来对从电子枪51出射的电子进行加速，以产生电子束并将该电子束照射到X射线靶53。X射线靶53由具有较大原子序数的材料形成。钨、钨合金、金和钽被例示作为具有较大原子序数的材料。由于当照射由加速管52生成的电子束时导致的轫致放射线效应，X射线靶53产生放射线(X射线)。该放射线几乎沿着通过虚拟点放射源的直线来照射，该虚拟点放射源是在X射线靶53内包括的点。均整过滤器54由铝等形成，以及是具有近似锥形凸起的板。凸起被布置在X射线靶53侧上。均整过滤器54被形成，以便在从X射线靶53照射的放射线通过均整过滤器54之后，在垂直于放射线的照射方向的平面的预定区域中，放射线剂量几乎是均匀分布的。多片式准直器55在放射治疗设备控制器的控制下，控制照射野的形状，以便遮挡一部分透射通过均整过滤器54然后照射到患者的治疗放射线23。

放射治疗设备3还包括透射型剂量计56、传感器57、电子枪电源58、速调管59和控制单元60。该透射型剂量计56、传感器57、电子枪电源58和速调管59被连接到控制单元60，以与控制单元60进行通信。以这样的方式布置透射型剂量计56，以便放射线透射通过均整过滤器54，以及然后透射通过剂量计54。透射型剂量计56包括能够被X射线电离的气体介质、之间施加高电压的多个电极、以及里面包括该气体介质和该多个电极的容器。透射型剂量计56根据在多个电极之间流动的电流，来测量透射放射线的剂量，以及将测量出的剂量输出到控制单元60。当由加速管52产生的电子束被照射到X射线靶53时，传感器57测量流过X射线靶53的电流，并将测量出的电流输出到控制单元60。电子枪电源58连接到电子枪51。电子枪电源58在控制单元60的控制下提供预定电功率给电子枪51的阴极61，以及对电子枪51的栅62施加预定电压。速调管59经由波导管连接到加速管52。速调管59在控制单元60的控制下，经由波导管将高频功率提供给加速管52。该高频功率包括周期性脉冲。形成微波的脉冲。然而，速调管59能够用另一高频电源来代替。磁控管和多电极管被例示为高频源。

控制单元60是计算机，以及包括CPU、存储单元、输入单元、输出单元和接口(未示出)。CPU执行安装在控制单元60内的计算机程序，并控制存储单元、输入单元、输出单元和接口。存储单元存储计算机程序，以及暂时地存储由CPU产生的数据。输入单元产生由用户操作所导致的数据，并将产生的数据输出到CPU。键盘被例示为输入单元。输出单元输出由CPU产生的数据，以便用户能够识别该数据。显示器被例示为输出单元。接口将由与控制单元60连接的外部设备产生的数据输出到CPU，以及将由CPU产生的数据输出到外部设备。外部设备包括透射型剂量计56、传感器57、电子枪电源58和速调管59。

如图3所示，放射治疗设备3还包括de-Qing电路71和充电元件72。充电元件72设置在将速调管59连接到加速管52的波导管的途中。充电元件72由电容器形成。de-Qing电路71包括充电扼流线圈73、电压监视器74、次级线圈75、电阻器76和晶闸管77。充电扼流线圈73设置在速调管59与充电元件72之间的波导管的路程中。由电感元件形成充电扼流线圈73。电压监视器74测量在充电扼流线圈73与de-Qing电路71之间的节点的电压，并当测量出的电压超出预定电压时输出电信号。次级线圈75、电阻器76和晶闸管77形成闭合电路。次级线圈75是充电扼流线圈73的次级线圈。当电压监视器74输出电信号时，晶闸管77形成闭合电路；而当电压监视器74不输出电信号时，晶闸管77打开电路。在这种情况下，在de-Qing电路71中，当从速调管59提供到加速管52的高频功率的电压超出预定电压时，充电扼流线圈73的电感改变，并由此防止将高频功率提供给加速管52。

根据上述的de-Qing电路71和充电元件72，使得从速调管59提供到加速管52的高频功率的电压恒定。为此，以类似模拟(analog-like)的方式控制用于对电子枪51发射的电子进行加速的加速管52中的电压使之恒定，并且由加速管52施加到由电子枪出射的电子的能量变得稳定。

如图4所示，安装在控制单元60中的计算机程序包括靶电流收集部分81、剂量收集部分82、控制量计算部分83和控制部分84。靶电流收集部分81控制传感器57来测量流过靶53的电流，以及输出测量出的电流值。剂量收集部分82控制透射型剂量计56来测量透射通过透射型剂量计56的放射线的剂量，并输出测量出的剂量。控制量计算部分83根据从靶电流收集部分81输出的测量电流值和从剂量收集部分82输出的测量剂量，来计算控制量。控制量示出商，该商通过用测量电流除以测量剂量来计算得到。控制部分84以反馈方式控制电子枪电源58，以便利用控制量计算部分83计算的控制量能够变成预定常数值。也就是说，控制部分84通过控制电子枪电源58来更新提供给电子枪51的阴极61的电功率，以便利用控制量计算部分83计算的控制量变成预定常数值。

根据本发明实施例的放射线照射方法通过使用放射治疗设备3来执行。用户首先创建治疗计划。该治疗计划示出：照射角，治疗放射线23以该照射角照射到患者43的被侵袭区域；以及示出从各个照射角照射的治疗放射线23的剂量和属性。用户将患者43固定到放射治疗设备3的治疗床41上。放射治疗设备3的控制器通过使用旋转驱动单元11、移动驱动单元和治疗床驱动单元42，来调节照射头16和患者43的位置，以便治疗放射线23能够以治疗计划所示的照射角照射到患者43。

随后，放射治疗设备控制器重复地执行跟踪操作和照射操作。在跟踪操作中，放射治疗设备控制器根据利用放射治疗设备3的成像器系统取得的图像，来计算被侵袭区域的位置。放射治疗设备控制单元通过使用摆动机构15来驱动照射头16，以便治疗放射线23能够透射通过被侵袭区域。在照射操作中，在紧接着利用跟踪操作移动了照射头16之后，放射治疗设备控制单元60通过使用照射头16将治疗放射线23照射到被侵袭区域。

控制单元60在照射操作期间从传感器57收集流过靶53的电流，以及从透射型剂量计56收集透射通过透射型剂量计56的放射线的剂量。控制单元60根据收集的电流和剂量，来计算控制量。控制量示出一个商，该商通过用收集的电流除以收集的剂量计算得到。控制单元60通过以反馈方式控制电子枪电源58，来更新提供给电子枪51的阴极61的电功率，以便计算的控制量能够变成预定常数值。

已知，从靶53出射的X射线的剂量R_X-ray与准直到靶53的电子束中每单位时间的电荷量(电流)S_t成比例，并且X射线的能量分布和产生空间(generation-space)分布根据准直电子束的能量分布E_eb而改变。也就是说，满足以下的表达式(1)：

R_x-ray＝k₁×S_t×f_t(E_eb)    (1)

其中，k₁是常数，而f_t(E_eb)是专用于靶53的函数，其示出当将具有能量分布E_eb的电子束准直到靶53时产生的X射线的比例。还知道，利用透射型剂量计56测量出的剂量S_d能够利用以下表达式来表示：

S_d＝k₂×R_x-ray×f_d(E_x-ray)    (2)，

其中，k₂是常数，E_X-ray是从靶53出射的X射线的X射线能量分布，以及f_d(E_X-ray)是专用于透射型剂量计56的函数，其示出当将具有X射线能量分布E_X-ray的X射线照射到透射型剂量计56时在透射型剂量计56中气体介质的电离的比例。表达式(1)和(2)能够变形为以下的表达式：

f_t(E_eb)×f_d(E_x-ray)＝1/(k₁×k₂)×S_d/S_t    (3)

已知，被患者43的被侵袭区域所吸收的X射线吸收剂量“Dose”依据利用透射型剂量计56测量出的剂量S_d以及X射线能量分布E_X-ray，这被变形为以下的表达式：

Dose＝k₃×S_d×f(E_x-ray)    (4)

其中，k₃是常数，f(E_X-ray)是专用于患者43的函数，其示出当将具有X射线能量分布E_X-ray的X射线照射到患者43时被患者43吸收的X射线的比例。

表达式(3)和(4)示出：当通过用电流S_t除剂量S_d来计算得到的商S_d/S_t被控制为恒定时，被患者43的被侵袭区域吸收的X射线吸收剂量“Dose”恒定，以及治疗放射线23的X射线吸收剂量恒定，其利用放射治疗设备3产生并吸收在患者43的被侵袭区域中。也就是说，当电流S_t和剂量S_d都恒定时，X射线吸收剂量“Dose”也恒定，以及当商S_d/S_t恒定时，即使当电流S_t和剂量S_d的每一个改变时，X射线吸收剂量“Dose”也恒定。由此，因为被患者43吸收的治疗放射线23中的X射线吸收剂量的波动较小，所以放射治疗设备3能够仅仅将预定剂量的治疗放射线照射到患者43的被侵袭区域。

图5示出由根据本发明的放射治疗设备的比较例产生的治疗放射线的10cm深度吸收剂量的波动。在比较例的放射治疗设备中，在根据上述实施例的放射治疗设备3中的控制单元60被另一控制器代替。在该控制器中，控制利用速调管59产生的高频功率的脉冲的脉宽，以便利用透射型剂量计56测量出的剂量恒定。10cm深度吸收剂量大体等于人体中吸收的X射线的剂量，并且其测量方法是公知的。波动86示出：治疗放射线的剂量根据环境的改变而改变，在该环境中，提供放射治疗设备，并且治疗放射线的10cm深度吸收剂量的离差(标准离差)相对较高。

图5还示出由根据本发明的放射治疗设备3产生的治疗放射线的10cm深度吸收剂量的波动。波动87示出：相较于波动86，10cm深度吸收剂量的离差较低。也就是说，波动87示出：相较于比较例，根据本发明的放射治疗设备3能够仅将预定剂量的治疗放射线更准确地照射到患者43的被侵袭区域。

在根据本发明的放射治疗设备的另一实施例中，根据上述实施例的控制单元60的控制部分84被另一控制部分所代替。控制部分以反馈方式控制电子枪电源58，以便利用控制量计算部分83计算的控制量能够是预定的常数值，并更新施加到电子枪51的栅62的电压。上述的放射治疗设备能够减少在患者43的被侵袭区域中吸收的治疗放射线23的X射线吸收剂量的波动，并且能够以与根据上述实施例的放射治疗设备3相同的方式，仅将预定剂量的治疗放射线更准确地照射到被侵袭区域。此外，控制部分以反馈方式控制电子枪电源58，以便利用控制量计算部分计算的控制量能够是预定的常数值，以及也能够更新提供给电子枪51的阴极61的电功率以及施加到栅62的电压。该放射治疗设备能够减少在患者43的体内的被侵袭区域中吸收的治疗放射线23的X射线吸收剂量的波动，以及能够以与根据上述实施例的放射治疗设备3相同的方式，仅将预定剂量的治疗放射线更准确地照射到被侵袭区域。

在根据本发明的另一实施例的放射治疗设备中，根据上述实施例的控制单元60的控制部分84被另一控制部分代替。控制部分以反馈方式控制速调管59，以便利用控制量计算部分83计算的控制量能够是预定的常数值，以及更新提供给加速管52的高频功率的脉冲的脉宽。控制部分还控制电子枪电源58，以提供恒定电功率到电子枪51的阴极61，以及施加恒定电压到电子枪51的栅62。该放射治疗设备能够减少在患者43的体内的被侵袭区域内吸收的治疗放射线23的X射线吸收剂量的波动，并且能够以与根据上述实施例的放射治疗设备3相同的方式，仅将预定剂量的治疗放射线更准确地照射到被侵袭区域。

此外，控制部分还能够以反馈方式控制电子枪电源58，以便利用传感器57测量出的电流能够恒定，以及更新提供给电子枪51的阴极61的电功率或更新施加到电子枪51的栅62的电压。此外，该放射治疗设备还包括传感器，该传感器用于测量在电子枪51的阴极61与栅62之间流动的电流。在这种情况下，控制部分能够以反馈方式控制电子枪电源58，以便利用传感器测量出的电流能够恒定，以及更新提供给电子枪51的阴极61的电功率或更新施加到电子枪51的栅62的电压。并且，在这种情况下，放射治疗设备能够减少在患者43体内的被侵袭区域中吸收的治疗放射线23的X射线吸收剂量的波动，以及能够以与根据上述实施例的放射治疗设备3相同的方式，仅将预定剂量的治疗放射线更准确地照射到被侵袭区域。

Claims (19)

1.一种放射治疗设备，包括：

加速单元，构造成产生带电粒子束；

靶，构造成当将所述带电粒子束照射到所述靶时产生放射线；

传感器，构造成测量流过所述靶的电流；

剂量计，构造成测量所述放射线的剂量；以及

控制单元，构造成根据测量出的电流和测量出的剂量来控制所述加速单元。

2.根据权利要求1所述的放射治疗设备，其中所述控制单元根据通过将所述测量出的剂量或每预定时间的剂量除以所述测量出的电流时得到的商来控制所述加速单元。

3.根据权利要求2所述的放射治疗设备，其中所述控制单元对所述加速单元执行反馈控制，使得所述商恒定。

4.根据权利要求3所述的放射治疗设备，其中所述加速单元包括：

电子枪，构造成发射带电粒子；

加速管电源，构造成产生高频功率；

加速管，构造成通过使用所述高频功率来对所述带电粒子进行加速，以产生带电粒子束；

所述控制单元控制所述加速管电源，使得所述商恒定。

5.根据权利要求4所述的放射治疗设备，其中所述加速单元还包括：

电子枪电源，构造成产生带电粒子发射功率；

所述电子枪通过使用所述带电粒子发射功率来发射所述带电粒子；并且

所述控制单元控制所述电子枪电源，使得所述带电粒子的发射量恒定。

6.根据权利要求3所述的放射治疗设备，其中所述加速单元包括：

电子枪电源，构造成产生带电粒子发射功率；

电子枪，构造成通过使用所述带电粒子发射功率来发射带电粒子；以及

加速管，构造成对带电粒子进行加速，以产生带电粒子束，

其中所述控制单元控制所述电子枪电源，使得所述商恒定。

7.根据权利要求3所述的放射治疗设备，其中所述加速单元还包括加速管电源，所述加速管电源构造成产生高频功率；

所述加速管通过使用所述高频功率对带电粒子进行加速，以产生带电粒子束；并且

所述控制单元控制所述加速管电源，使得所述高频功率恒定。

8.根据权利要求7所述的放射治疗设备，其中所述加速管电源包括de-Qing电路，所述de-Qing电路构造成使得所述高频功率的电压恒定。

9.根据权利要求6所述的放射治疗设备，其中所述电子枪电源具有产生阴极加热功率的功能；并且

所述电子枪包括阴极，所述阴极构造成利用所述阴极加热功率来发射带电粒子。

10.根据权利要求6所述的放射治疗设备，其中所述电子枪电源具有产生栅电压的功能，并且

所述电子枪包括：

阴极，构造成发射带电粒子；以及

栅，构造成通过使用所述栅电压来加速所述带电粒子。

11.一种放射线照射方法，包括：

测量流过靶的电流，所述靶当被由加速单元产生的带电粒子束照射时照射出放射线；

测量所述放射线的剂量；以及

根据测量出的电流和测量出的剂量来控制所述加速单元。

12.根据权利要求11所述的放射线照射方法，其中所述控制包括：

根据通过将所述测量出的剂量或每预定时间的剂量除以所述测量出的电流时得到的商来控制所述加速单元。

13.根据权利要求12所述的放射线照射方法，其中所述控制包括：

对所述加速单元执行反馈控制，使得所述商恒定。

14.根据权利要求13所述的放射线照射方法，还包括：

从电子枪发射带电粒子；

通过加速管电源来产生高频功率；以及

通过使用所述高频功率加速所述带电粒子，以产生带电粒子束，

其中所述控制包括：

控制所述加速管电源，使得所述商恒定。

15.根据权利要求14所述的放射线照射方法，还包括：

通过电子枪电源来产生带电粒子发射功率，

其中所述发射包括：

通过使用所述带电粒子发射功率来发射带电粒子，并且

所述控制包括：

控制所述电子枪电源，使得所述带电粒子的发射量恒定。

16.根据权利要求13所述的放射线照射方法，还包括：

从电子枪电源产生带电粒子发射功率；

通过使用所述带电粒子发射功率发射带电粒子；以及

对带电粒子进行加速，以产生带电粒子束，

其中所述控制包括：

控制所述电子枪电源，使得所述商恒定。

17.根据权利要求16所述的放射线照射方法，还包括：

从加速管电源产生高频功率，

其中所述对带电粒子进行加速包括：

通过使用所述高频功率对带电粒子进行加速，以产生带电粒子束，并且

所述控制包括：

控制所述加速管电源，使得所述高频功率恒定。

18.根据权利要求16所述的放射线照射方法，其中所述发射包括：

从所述电子枪电源产生阴极加热功率；以及

利用所述阴极加热功率从所述电子枪的阴极发射带电粒子。

19.根据权利要求16所述的放射线照射方法，其中所述对带电粒子进行加速包括：

产生栅电压；以及

通过使用所述栅电压来对带电粒子进行加速。

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