CN101620286B - 一种截止滤光膜膜系及其镀制方法 - Google Patents
一种截止滤光膜膜系及其镀制方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101620286B CN101620286B CN2009103038461A CN200910303846A CN101620286B CN 101620286 B CN101620286 B CN 101620286B CN 2009103038461 A CN2009103038461 A CN 2009103038461A CN 200910303846 A CN200910303846 A CN 200910303846A CN 101620286 B CN101620286 B CN 101620286B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film
- evaporation
- coated
- thickness
- coating materials
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种用于镀制K9玻璃基底45°胶合棱镜截止滤光膜的膜系及其镀制方法，属于光学薄膜制造技术。本发明的特点是膜系对1.064μm波段反射率可达到99％，对600nm～800nm波段范围透射率可达到98％，镀制此类膜系的光学器件可用于激光、微光双光路光学系统的仪器，具有将两波段光分开的作用，对提高光学仪器性能、减小仪器的重量及体积具有重要意义。未查阅到与本发明膜系、镀制方法相同的截止滤光膜的报道或资料。
Description
技术领域
本发明属于光学薄膜制造技术，涉及对棱镜截止滤光膜膜系和镀制方法的改进。
背景技术
1.064μm高反射率、600nm～800nm高透射率棱镜截止滤光膜应用于激光、微光“二光合一”的光学系统，可减小仪器体积与重量。据了解，现用于镀制此类截止滤光膜使用的材料多为二氧化钛、二氧化硅组合的多层膜，膜层吸收大，透射特性差，透射区域的透射率在93％以下。本发明选用五氧化二钽、二氧化硅给合的对称膜系结构，具有透射特性好、工艺简单，重复性好的优点，透射区域膜层透射率可达到98％。未查阅到与本发明膜系、镀制方法相同的截止滤光膜的报道或资料。
发明内容
本发明的目的是：为激光、微光“二光合一”的光学系统提供分光元件，减小仪器体积与重量，提高仪器性能及可靠性。
本发明的技术方案是：一种K9玻璃基底45°胶合棱镜的1.064μm高反射率、600nm～800nm高透射率截止滤光膜膜系，其特征在于，该膜系从内到外由37层膜组成，属部分层优化的对称膜系结构，使用三种膜料，第一层和最后一层为氟化镁，其余所有偶数层均为二氧化硅，所有奇数层均为五氧化二钽。该膜系每层膜使用的膜料及光学厚度如下：
| 膜层序号 | 1、37 | 2、36 | 3、35 | 4、6、8、10、12、14、16、18、20、22、24、26、28、30、32、34 | 5、7、9、11、13、15、17、19、21、23、25、27、29、31、33 |
| 膜料名称 | MgF2 | SiO2 | Ta2O5 | SiO2 | Ta2O5 |
| 光学厚度、(nm) | 279 | 218 | 339 | 396 | 302 |
一种K9玻璃基底45°胶合棱镜的1.064μm高反射率、600nm～800nm高透射率截止滤光膜膜系的镀制方法，所用仪器设备需配置E型电子束蒸发源、光学膜厚控制仪、石英晶体控制器、离子辅助装置、加热烘烤装置。
镀制该膜系的工艺步骤如下：
(1)清洁被镀零件，使用超声波和/或清洁剂对K9玻璃基底零件镀膜表面进行清洁处理；
(2)烘烤基底，将被镀零件夹持在夹具上放入高真空镀膜设备中，抽真空到真空度高于1×10-2Pa时，加热基底到120℃～160℃，保温时间1～2小时，启动离子源，镀膜过程中保持离子源始终工作；
(3)镀制第1层MgF2膜，MgF2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-3Pa～3×10-3Pa，蒸发速率为0.7nm/s～1nm/s，控制膜厚279nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长980nm，极值过正法控制，工具因子为1时，极值停蒸点1.1；
(4)镀制第2层SiO2膜，SiO2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-2Pa～2×10-2Pa，蒸发速率为0.6nm/s～0.8nm/s，控制膜厚218nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长780nm，极值过正法控制，工具因子为1时，极值停蒸点1.1；
(5)镀制第3层Ta2O5膜，Ta2O5膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-2Pa～2×10-2Pa，蒸发速率为0.3nm/s～0.4nm/s，控制膜厚339nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长1120nm，极值过正法控制，工具因子为1时，极值停蒸点1.2；
(6)重复步骤(4)和(5)交替镀制第4～34层膜，所有偶数层膜所用膜料为SiO2，控制膜厚396nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚控制方法与步骤(4)相同，控制波长1100nm，工具因子为1时，极值停蒸点1.34；所有奇数层膜所用膜料为Ta2O5，控制膜厚302nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速度、膜厚控制方法与步骤(5)相同，控制波长1100nm，工具因子为1时，极值停蒸点1.1；
(7)镀制第35、36、37层膜，所用膜料分别为Ta2O5、SiO2、MgF2，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚、膜厚控制方法、控制波长、工具因子、极值停蒸点分别与第3、第2、第1层膜相同；
(8)冷却后取出镀制好膜系的光学零件。
本发明的优点
本发明具有下述优点：采用本发明的膜系及镀制方法，其
1)截止带膜层反射率高，R≥99％；
2)透射带膜层透射特性好，T≥98％；
3)膜层中心波长漂移很小，δ≤5nm；
4)膜层牢固度好，优于光学薄膜国家标准规定的要求。
具体实施方式
下面对本发明做进一步说明，本膜系从内到外由37层膜组成，属部分层优化的对称膜系结构，使用三种膜料，第一层和最后一层为氟化镁，其余所有偶数层均为二氧化硅，所有奇数层均为五氧化二钽。膜系每层膜使用的膜料及光学厚度见下表。
膜系每层膜使用的膜料及其光学厚度值表
| 膜层序号 | 1、37 | 2、36 | 3、35 | 4、6、8、10、12、14、16、18、20、22、24、26、28、30、32、34 | 5、7、9、11、13、15、17、19、21、23、25、27、29、31、33 |
| 膜料名称 | MgF2 | SiO2 | Ta2O5 | SiO2 | Ta2O5 |
| 光学厚度(nm) | 279 | 218 | 339 | 396 | 302 |
镀制膜层对设备的要求：
设备需配置E型电子束蒸发源、光学膜厚控制仪、石英晶体控制部件、离子辅助装置、加热烘烤装置。例如可以使用日本Optorun公司生产的OTFC-1100高真空镀膜设备。
镀制膜层的工艺步骤如下：
(1)清洁被镀零件，使用超声波和/或清洁剂对K9玻璃基底零件镀膜表面进行清洁处理；
(2)烘烤基底，将被镀零件夹持在夹具上放入高真空镀膜设备中，抽真空到真空度高于1×10-2Pa时，加热基底到120℃～160℃，保温时间1～2小时，启动离子源，镀膜过程中保持离子源始终工作；
(3)镀制第1层MgF2膜，MgF2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-3Pa～3×10-3Pa，蒸发速率为0.7nm/s～1nm/s，控制膜厚279nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长980nm，极值过正法控制，工具因子为1时，极值停蒸点1.1；
(4)镀制第2层SiO2膜，SiO2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-2Pa～2×10-2Pa，蒸发速率为0.6nm/s～0.8nm/s，控制膜厚218nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长780nm，极值过正法控制，工具因子为1时，极值停蒸点1.1；
(5)镀制第3层Ta2O5膜，Ta2O5膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-2Pa～2×10-2Pa，蒸发速率为0.3nm/s～0.4nm/s，控制膜厚339nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长1120nm，极值过正法控制，工具因子为1时，极值停蒸点1.2；
(6)重复步骤(4)和(5)交替镀制第4～34层膜，所有偶数层膜所用膜料为SiO2，控制膜厚396nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚控制方法与步骤(4)相同，控制波长1100nm，工具因子为1，极值停蒸点1.34；所有奇数层膜所用膜料为Ta2O5，控制膜厚302nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速度、膜厚控制方法与步骤(5)相同，控制波长1100nm，工具因子为1，极值停蒸点1.1；
(7)镀制第35、36、37层膜，所用膜料分别为Ta2O5、SiO2、MgF2，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚、膜厚控制方法、控制波长、工具因子、极值停蒸点分别与第3、第2、第1层膜相同；
(8)冷却后取出镀制好膜系的光学零件。
实施例1
采用本发明的膜系结构和光学厚度，镀膜的工艺过程如下：
1、准备
(1)清洁真空室、镀膜夹具、蒸发源挡板及离子源网栅；
(2)固定蒸发舟、将三种膜料分别装填至要求的蒸发舟和坩埚内；
(3)更换石英晶体片和光控仪比较片；
(4)编程镀膜程序。
2、清洁零件
(1)用三氧化二铬抛光液复新K9玻璃基底零件表面；
(2)用脱脂棉蘸醇醚混合液将零件表面清洁干净；
(3)装入专用工装夹具并尽可能快地装入真空室内。
3、镀制膜层
关闭真空室门、起动镀膜程序开始镀膜，工作步骤如下：
(1)起动抽气系统，真空室内的气体在不断排出，当真空室真空度到2×10-2Pa时，开启加热烘烤，加热基底到150℃，保温时间1小时，起动离子源并使之工作正常；
(2)镀制第1层MgF2膜，MgF2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为2×10-3Pa，蒸发速率为0.8nm/s，控制膜厚279nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长980nm，工具因子为1.15，极值停蒸点1.25；
(3)镀制第2层SiO2膜，SiO2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1.5×10-2Pa，蒸发速率为0.7nm/s，控制膜厚218nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长780nm，工具因子为1.1，极值停蒸点1.2；
(4)镀制第3层Ta2O5膜，Ta2O5膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1.5×10-2Pa，蒸发速率为0.3nm/s，控制膜厚339nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长1120nm，工具因子为1.05，极值停蒸点1.25；
(5)重复步骤(3)和(4)交替镀制第4～34层膜，所有偶数层膜所用膜料为SiO2，控制膜厚396nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚控制方法与步骤(3)相同，控制波长1100nm，工具因子为1.1，极值停蒸点1.5；所有奇数层膜所用膜料为Ta2O5，控制膜厚302nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速度、膜厚控制方法与步骤(4)相同，控制波长1100nm，工具因子为1.05，极值停蒸点1.15；
(6)镀制第35、36、37层膜，所用膜料分别为Ta2O5、SiO2、MgF2，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚、膜厚控制方法、控制波长、工具因子、极值停蒸点分别与第3、第2、第1层膜相同；
(7)冷却后取出镀制好膜系的光学零件。
实施例2
采用本发明的膜系结构和光学厚度，镀膜的工艺过程如下：
1、准备
(1)清洁真空室、镀膜夹具、蒸发源挡板及离子源网栅；
(2)固定蒸发舟、将三种膜料分别装填至要求的蒸发舟和坩埚内；
(3)更换石英晶体片和光控仪比较片；
(4)编程镀膜程序。
2、清洁零件
(1)用三氧化二铬抛光液复新K9玻璃基底零件表面；
(2)用脱脂棉蘸醇醚混合液将零件表面清洁干净；
(3)装入专用工装夹具并尽可能快地装入真空室内。
3、镀制膜层
关闭真空室门、起动镀膜程序开始镀膜，工作步骤如下：
(1)起动抽气系统，真空室内的气体在不断排出，当真空室真空度1×10-2Pa时，开启加热烘烤，加热基底到120℃，保温时间2小时，起动离子源并使之工作正常；
(2)镀制第1层MgF2膜，MgF2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为3×10-3Pa，蒸发速率为0.7nm/s，控制膜厚279nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长980nm，工具因子为1.05，极值停蒸点1.15；
(3)镀制第2层SiO2膜，SiO2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-2Pa，蒸发速率为0.6nm/s，控制膜厚218nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长780nm，工具因子为1.15，极值停蒸点1.25；
(4)镀制第3层Ta2O5膜，Ta2O5膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-2Pa，蒸发速率为0.4nm/s，控制膜厚339nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长1120nm，工具因子为1.1，极值停蒸点1.3；
(5)重复步骤(3)和(4)交替镀制第4～34层膜，所有偶数层膜所用膜料为SiO2，控制膜厚396nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚控制方法与步骤(3)相同，控制波长1100nm，工具因子为1，极值停蒸点1.34；所有奇数层膜所用膜料为Ta2O5，控制膜厚302nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速度、膜厚控制方法与步骤(4)相同，控制波长1100nm，工具因子为1.1，极值停蒸点1.2；
(6)镀制第35、36、37层膜，所用膜料分别为Ta2O5、SiO2、MgF2，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚、膜厚控制方法、控制波长、工具因子、极值停蒸点分别与第3、第2、第1层膜相同；
(7)冷却后取出镀制好膜系的光学零件。
实施例3
采用本发明的膜系结构和光学厚度，镀膜的工艺过程如下：
1、准备
(1)清洁真空室、镀膜夹具、蒸发源挡板及离子源网栅；
(2)固定蒸发舟、将三种膜料分别装填至要求的蒸发舟和坩埚内；
(3)更换石英晶体片和光控仪比较片；
(4)编程镀膜程序。
2、清洁零件
(1)用三氧化二铬抛光液复新K9玻璃基底零件表面；
(2)用脱脂棉蘸醇醚混合液将零件表面清洁干净；
(3)装入专用工装夹具并尽可能快地装入真空室内。
3、镀制膜层
关闭真空室门、起动镀膜程序开始镀膜，工作步骤如下：
(1)起动抽气系统，真空室内的气体在不断排出，当真空室真空度到1×10-2Pa时，开启加热烘烤，加热基底到160℃，保温时间1小时，起动离子源并使之工作正常；
(2)镀制第1层MgF2膜，MgF2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为1×10-3Pa，蒸发速率为0.9nm/s，控制膜厚279nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长980nm，工具因子为1.1，极值停蒸点1.2；
(3)镀制第2层SiO2膜，SiO2膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为2×10-2Pa，蒸发速率为0.8nm/s，控制膜厚218nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长780nm，工具因子为1.05，极值停蒸点1.15；
(4)镀制第3层Ta2O5膜，Ta2O5膜料由电子束蒸发源进行蒸镀，蒸镀时真空度为2×10-2Pa，蒸发速率为0.3nm/s，控制膜厚339nm，由光学厚度控制仪控制，控制波长1120nm，工具因子为1.15，极值停蒸点1.4；
(5)重复步骤(3)和(4)交替镀制第4～34层膜，所有偶数层膜所用膜料为SiO2，控制膜厚396nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚控制方法与步骤(3)相同，控制波长1100nm，工具因子为1.05，极值停蒸点1.4；所有奇数层膜所用膜料为Ta2O5，控制膜厚302nm，蒸镀方法、真空度、蒸发速度、膜厚控制方法与步骤(4)相同，控制波长1100nm，工具因子为1，极值停蒸点1.1；
(6)镀制第35、36、37层膜，所用膜料分别为Ta2O5、SiO2、MgF2，蒸镀方法、真空度、蒸发速率、膜厚、膜厚控制方法、控制波长、工具因子、极值停蒸点分别与第3、第2、第1层膜相同；
(7)冷却后取出镀制好膜系的光学零件。
三种镀制膜层的有关特性
三种镀制的膜层的各项特性指标均满足要求，具体指标如下：
1)1.064μm，R＝99％；
2)600nm～800nm，T＝98％；
3)中心波长漂移≤5nm；
4)牢固度：满足光学薄膜国家标准规定的要求。
Claims (4)
1.一种截止滤光膜膜系，其特征在于，该膜系从内到外由37层膜组成，属部分层优化的对称膜系结构，使用三种膜料，第一层和最后一层为氟化镁，其余所有偶数层均为二氧化硅，所有奇数层均为五氧化二钽；第一层和最后一层的光学厚度是279nm，第二层和第三十六层的光学厚度是218nm，第三层和第三十五层的光学厚度是339nm，其余所有偶数层的光学厚度均为396nm，所有奇数层的光学厚度均为302nm。
2.根据权利要求1所述的截止滤光膜膜系，其特征在于，该膜系镀制基底为K9玻璃基底。
3.根据权利要求1或2所述的截止滤光膜膜系，其特征在于，该膜系镀制在45°胶合棱镜表面。
4.一种镀制截止滤光膜膜系的方法，其特征在于，镀制膜系工艺步骤如下：
（1）清洁被镀零件，对K9玻璃基底零件镀膜表面进行清洁处理；
（2）烘烤基底，抽真空到真空度高于1×10-2Pa且时，加热K9玻璃基底零件到120℃～160℃，保温时间1～2小时，启动离子源，镀膜过程中保持离子源始终工作；
（3）镀制第1层MgF2膜，MgF2膜膜料蒸镀时真空度为1×10-3Pa～3×10-3Pa，蒸发速率为0.7nm/s~lnm/s，控制膜厚279nm；
（4）镀制第2层SiO2膜，SiO2膜料蒸镀时真空度为1×10-2Pa～2×10-2Pa，蒸发速率为0.6nm/s~0.8nm/s，控制膜厚218nm；
（5）镀制第3层Ta2O5膜，Ta2O5膜料蒸镀时真空度为1×10-2Pa～2×10-2Pa，蒸发速率为0.3nm/s~0.4nm/s，控制膜厚339nm；
（6）重复步骤（4）和（5）交替镀制第4～34层膜，所有偶数层膜所用膜料为SiO2，蒸镀时真空度、蒸发速率与步骤（4）相同，控制膜厚396nm；所有奇数层膜所用膜料为Ta2O5，蒸镀时真空度、蒸发速率与步骤（5）相同，控制膜厚302nm；
（7）镀制第35、36、37层膜，所用膜料分别为Ta2O5、SiO2、MgF2，蒸镀时真空度、蒸发速率、膜厚分别与第3、第2、第1层膜相同；
（8）冷却后取出镀制好膜系的光学零件。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009103038461A CN101620286B (zh) | 2009-06-30 | 2009-06-30 | 一种截止滤光膜膜系及其镀制方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009103038461A CN101620286B (zh) | 2009-06-30 | 2009-06-30 | 一种截止滤光膜膜系及其镀制方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101620286A CN101620286A (zh) | 2010-01-06 |
| CN101620286B true CN101620286B (zh) | 2011-01-19 |
Family
ID=41513616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2009103038461A Expired - Fee Related CN101620286B (zh) | 2009-06-30 | 2009-06-30 | 一种截止滤光膜膜系及其镀制方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101620286B (zh) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106054299B (zh) * | 2016-07-29 | 2019-05-28 | 利达光电股份有限公司 | 一种易清洗的红外截止滤光片及其镀膜方法 |
| CN106199801B (zh) * | 2016-08-31 | 2018-04-03 | 奥普镀膜技术（广州）有限公司 | 一种40g100g滤光片薄膜镀制方法 |
| CN107479191B (zh) * | 2017-08-15 | 2020-04-28 | 天津津航技术物理研究所 | 一种可见光深截止的激光矩形滤光片及设计方法 |
| CN108828704A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-11-16 | 北京中盾安华数码技术有限公司 | 一种红外激光隔断光子晶体薄膜 |
| CN109576647A (zh) * | 2018-12-24 | 2019-04-05 | 深圳正和捷思科技有限公司 | 一种超薄滤光片薄膜制备方法 |
| CN110465745B (zh) * | 2019-06-27 | 2021-12-17 | 宁波普瑞均胜汽车电子有限公司 | 一位多显示开关按键的制作方法 |
-
2009
- 2009-06-30 CN CN2009103038461A patent/CN101620286B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101620286A (zh) | 2010-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101620286B (zh) | 一种截止滤光膜膜系及其镀制方法 | |
| JP5509691B2 (ja) | レンズ及びその製造方法 | |
| JP3808917B2 (ja) | 薄膜の製造方法及び薄膜 | |
| CN101620280B (zh) | 一种红外双波段减反射膜膜系及其镀制方法 | |
| CN108169832B (zh) | 一种2.75~2.95μm透过中波红外滤光片及其制备方法 | |
| US20160282532A1 (en) | Ophthalmic optical filters for prevention and reduction of photophobic effects and responses | |
| CN101893729B (zh) | 一种中红外带通滤光片及其制备方法 | |
| CN111679347A (zh) | 一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法 | |
| WO2002075376A1 (fr) | Film dielectrique a indice de refraction eleve et procede de preparation correspondant | |
| CN103018797B (zh) | 一种用于激光、红外双波段高反射膜的膜系结构及其制备方法 | |
| CN100460895C (zh) | 一种锗基底零件表面的红外截止滤光膜膜系及其镀制方法 | |
| CN109143440A (zh) | 3.50～3.90μm中波红外微型滤光片及其制备方法 | |
| CN111061001A (zh) | 一种480～580nm透过可见光滤光片及制备方法 | |
| CN109136840A (zh) | 一种真空紫外铝反射镜的制备方法 | |
| CN110058343B (zh) | 一种基于多角度光谱测量的短波通滤光膜制备方法 | |
| CN101692132A (zh) | 0.4-1.1微米线性渐变滤光片及其制备方法 | |
| CN101900848A (zh) | 一种树脂基底窄带负滤光膜膜系、滤光片及其制备方法 | |
| CN108549120A (zh) | 一种增透减反黄绿膜树脂镜片及其生产工艺 | |
| CN112813391B (zh) | 一种超宽波段红外长波通截止滤光膜制备方法 | |
| JP5883505B2 (ja) | 光学素子 | |
| CN101359061A (zh) | 一种光学镀膜方法以及使用该方法的光学镀膜机 | |
| KR101918768B1 (ko) | 하프늄 산화물 또는 지르코늄 산화물 코팅 | |
| CN113109898B (zh) | 一种氢化复合物薄膜的制备方法和滤光器 | |
| CN110221368A (zh) | 单元素多层红外高反膜及其制备方法 | |
| CN102368097B (zh) | 一种微光、激光透射且中红外光反射膜及棱镜、制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110119 Termination date: 20200630 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |