CN101600301A - 电路板及其制作方法 - Google Patents
电路板及其制作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101600301A CN101600301A CNA200810301963XA CN200810301963A CN101600301A CN 101600301 A CN101600301 A CN 101600301A CN A200810301963X A CNA200810301963X A CN A200810301963XA CN 200810301963 A CN200810301963 A CN 200810301963A CN 101600301 A CN101600301 A CN 101600301A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- circuit board
- insulating substrate
- palladium
- circuit
- manufacture method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 57
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000010148 water-pollination Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 claims description 3
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 claims description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- 239000003109 Disodium ethylene diamine tetraacetate Substances 0.000 description 2
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019301 disodium ethylene diamine tetraacetate Nutrition 0.000 description 2
- CEYULKASIQJZGP-UHFFFAOYSA-L disodium;2-(carboxymethyl)-2-hydroxybutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(C(=O)O)CC([O-])=O CEYULKASIQJZGP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N glyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C=O HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- VZOPRCCTKLAGPN-ZFJVMAEJSA-L potassium;sodium;(2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VZOPRCCTKLAGPN-ZFJVMAEJSA-L 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940074446 sodium potassium tartrate tetrahydrate Drugs 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001872 inorganic gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009938 salting Methods 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/105—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by conversion of non-conductive material on or in the support into conductive material, e.g. by using an energy beam
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
- H05K2203/013—Inkjet printing, e.g. for printing insulating material or resist
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0786—Using an aqueous solution, e.g. for cleaning or during drilling of holes
- H05K2203/0793—Aqueous alkaline solution, e.g. for cleaning or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0786—Using an aqueous solution, e.g. for cleaning or during drilling of holes
- H05K2203/0796—Oxidant in aqueous solution, e.g. permanganate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1157—Using means for chemical reduction
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/12—Using specific substances
- H05K2203/125—Inorganic compounds, e.g. silver salt
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
本发明涉及一种电路板的制作方法,其包括以下步骤:对绝缘基材表面进行亲水性处理;将含有可溶性钯盐的油墨印刷于亲水处理过的绝缘基材的表面,形成线路图形;采用非离子还原剂还原线路图形中的钯盐以形成钯质预制线路;在预制线路的表面镀覆金属形成导电线路。本发明还涉及一种电路板。
Description
技术领域
本发明涉及印刷电路板制作领域,特别涉及一种电路板及其制作方法。
背景技术
利用喷墨打印技术制作导电线路在近年来受到了广泛关注,此方法只需将所需线路图形直接由计算机给出,再通过控制器控制喷墨印刷系统的喷嘴,将油墨颗粒由喷嘴喷出并逐点地形成线路图形,制作线路图形能够精确控制线路的位置及宽度,该方法属非接触式数码图案制程,可减少不同印刷材料间相互污染。相比于传统的线路制作方法,具有制作流程更加简化、便宜及低污染的优点。请参见文献:Murata,K.;Matsumoto,J.;Tezuka,A.;Oyama,K.;Matsuba,Y.;Yokoyama,H.;Super fine wiring by inkjet printingMicroprocesses and Nanotechnology Conference,2004.Digest of Papers.2004InternationalOct.27-29,2004Page(s):24-25。
现有技术中报道了一种采用喷墨打印含有可溶性钯盐和弱还原剂的墨水制造导电线路的方法。该方法是将可溶性钯离子和弱还原剂制成可喷墨打印的墨水在基材表面打印出含有钯离子线路图形,然后在该线路图形经过高能光照射还原,得到钯质线路,但由于线路图形在基材表面的附着力不佳,线路图形中没有被还原的钯离子和还原后的钯粒子脱落到后续制程的化学溶液中,损坏化学溶液,而且线路中含有未反应的还原剂,残留在导电线路内,对导电线路的质量具有很大的影响。
因此,有必要提供一种电路板的制作方法,以提升导电线路在基材表面的附着力,提高导电线路的质量。
发明内容
以下将以实施例说明一种电路板及其制作方法。
一种电路板的制作方法包括,其包括以下步骤:对绝缘基材表面进行亲水性处理;将含有可溶性钯盐的油墨印刷于亲水处理过的绝缘基材的表面,形成线路图形;采用非离子还原剂还原线路图形中的钯盐以形成钯质预制线路;在预制线路的表面镀覆金属形成导电线路。
一种电路板,其包括:绝缘基材,其具有一亲水性表面;钯制预制线路形成在所述亲水性表面上;及导电镀层包覆所述预制线路。
与现有技术相比,该电路板的制作方法增强了线路与绝缘基材表面的结合能力。后续的钯离子还原处理中,采用非离子性还原剂,即有机还原剂和具有还原性的气体,改善了采用离子型还原剂(如硼氢化钠、柠檬酸钠等)还原时,线路中的钯离子的脱吸附和再吸附而引起的线路分辨率下降的问题。
附图说明
图1是本技术方案实施例提供电路板制作方法的流程图。
图2是本技术方案实施例提供的绝缘基材的结构示意图。
图3是图2中绝缘基材形成线路图形的结构示意图。
图4是图2中绝缘基材形成预制线路的结构示意图。
图5是图2中绝缘基材形成导电线路的电路板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图及实施例对本技术方案实施例提供的电路板及其制作方法作进一步详细说明。
请参阅图1,本实施例提供的电路板的制作方法包括以下步骤:
第一步,对绝缘基材100表面100进行亲水性处理。
如图2所示,本实施例中,绝缘基材100可以为制作单层板时的绝缘层,也可以为多层电路板制作过程中的多层电路板表面压合的绝缘层。绝缘基材100的材料通常以聚酰亚胺类材料为主。本实施例中,绝缘基材100为需要制作单面线路的绝缘层。该绝缘基材100具有用于形成导电线路的表面110。所述绝缘基材100的材质为聚酰亚胺。
通过对绝缘基材100的表面110进行亲水性处理,以便在后续线路制作时增加表面110结合油墨的能力。增加表面110的亲水性有多种方法,如对绝缘基材100聚合物进行改性处理,使得表面110形成极性官能团。
本实施例中,采用碱性溶液对绝缘基材100的表面110进行亲水性处理。对绝缘基材100表面的处理包括以下步骤:首先,清洗绝缘基材100的表面110。清洗时可采用丙酮、乙醇或水等溶剂,以除去附着于表面110的污物、氧化物、油脂等。然后,应用强碱性溶液对绝缘基材100的表面110进行处理。所述的强碱性溶液可为KOH溶液或KOH与KMnO4的混合溶液。本实施例中,将绝缘基材100置于浓度为5摩尔/升(mol/L)的KOH溶液中处理5分钟后取出。最后,对处理后的绝缘基材100进行清洗。具体地,采用去离子水清洗绝缘基材100,去除表面110残留的KOH,洗至表面110为接近中性。
通过上述的处理,使得绝缘基材100表面110的聚酰亚胺中的酰亚胺键在强碱性条件下断开形成羧基和酰胺键,羧基和酰胺基的亲水性强于酰亚胺基,从而改善了绝缘基材100表面110的亲水性。同时,生成的羧基能够吸附阳离子,在KOH溶液中,其可以吸附K+。
第二步:将含有可溶性钯盐的油墨印刷于亲水处理过的绝缘基材100的表面110,形成线路图形200。
如图2所示,分别在所述绝缘基材100的表面110形成线路图形200。线路图形200可以通过喷墨打印或平版印刷等方式形成于绝缘基材100的表面110。以喷墨打印为例,喷墨打印系统在控制器的控制下根据所需制作的导电线路的图形,将油墨自喷嘴逐点喷洒到表面110,使沉积在表面110的油墨形成线路图形200。该油墨形成的线路图形200与所需制作的导电线路的图形相同。
本实施例中,采用的油墨为水溶性的钯盐溶液。该钯盐可以为硫酸钯、氯化钯、硝酸钯、钯络合物或其他可溶性钯盐,其摩尔浓度为10-4mol/L至10-2mol/L。本实施例中,采用氯化钯,为了提高氯化钯的溶解性,在氯化钯溶液中加入氯化铵,氯化铵与氯化钯质量比可为1∶1,氯化钯与氯化铵可形成络合物从而可提高其溶解度。在制备过程中还可向该油墨中加入表面活性剂、粘度调节剂、连接料或其它助剂,用以调节油墨的表面张力、粘度等性能,从而提高油墨与待打印或印刷物体表面的结合力。表面活性剂可为阴离子型、阳离子型、非离子型等,连接料可为聚氨酯、聚乙烯醇等高分子材料。可根据所需油墨的性能选择性地加入质量百分比为0.1%至20%的连接料、0.1%至50%的粘度调节剂、0.1%至50%的保湿剂、0.1%至5%的表面活性剂及0.1%至10%的其它助剂。
经亲水处理过的绝缘基材100的表面110吸附有钾离子,打印在表面110所述油墨中含有钯离子,钾离子与钯离子发生离子交换,使得钯离子吸附到绝缘基材100的表面110。
第三步:采用还原剂还原线路图形200中的钯盐以形成钯质预制线路300。
如图3及图4所示,将形成于绝缘基材100表面110的线路图形200转变成预制线路300。即,表面110上形成线路图形200的钯离子经化学反应,使钯离子还原成钯单质,从而在表面110上形成钯质预制线路300。
为了防止线路图形200中钯离子在离子性还原剂中产生脱吸附和再吸附,导致线路的分辨率下降的问题,本实施例中,将钯离子还原为单质钯采用非离子还原剂进行还原。具体的,采用液态有机还原剂或气体还原剂。
对于还原性较强的液态有机还原剂,如甲醛和水合肼等,可以将绝缘基材100浸入其溶液中,在常温或低温状态下还原。以甲醛为例,在50摄氏度下,将表面110具有线路图形200的绝缘基材100浸入甲醛溶液中15分钟,取出绝缘基材100后用去离子水清洗。
对于还原性较弱的液态有机还原剂,如丙酮、乙二醇等,可以在紫外光照的条件下,使得线路图形200中的钯离子还原为单质钯。以丙酮为例,将表面110具有线路图形200的绝缘基材100浸入丙酮溶液中紫外光照射6分钟,取出绝缘基材100后用去离子水清洗。以乙二醇与丙酮的混合溶液为例,将表面110具有线路图形200的绝缘基材100浸入上述溶液中紫外光照射6分钟,取出绝缘基材100后用去离子水清洗。还可以应用还原性气体将钯离子还原,所述还原性气体为乙烯、一氧化碳和氢气等。
第四步,在预制线路300的表面镀覆金属400形成导电线路500,从而得到电路板50。
对于上一步骤中所得到的预制线路300,由于预制线路300是通过将钯盐环原为钯单质而形成的线路,而该钯盐中金属离子间可能没有完全结合,其连续性较差,当钯离子被还原为金属钯后所得到的预制线路300中,钯将会以不连续的粒子存在并组成预制线路300,预制线路300的导电性将势必受到影响。
因此,如图5所示,在钯制预制线路300的表面经过电镀或化学镀的方法镀覆金属400,从而形成连续的导电线路500。所述镀覆金属可以为铜、镍或银等。
具体地,将形成预制线路300的绝缘基材100置于化学镀铜溶液中,在50摄氏度的温度下进行化学镀铜2分钟,即可使预制线路300形成完全电连通的导电线路500。导电线路500中的铜粒子的粒径为50至150纳米。该镀液还可包括铜化合物、还原剂与络合剂。铜化合物可为硫酸铜、氯化铜等;还原剂可为甲醛、乙醛酸等;络合剂可为乙二胺四乙酸二钠、酒石酸钾钠等。当然,还可在镀液中加入稳定剂、光亮剂等,以满足化学镀的需要。具体地,该镀铜溶液的组分为:硫酸铜10克/升(g/L)、酒石酸钾钠22g/L、乙二胺四乙酸二钠50g/L、甲醛15毫升/升(mL/L)及甲醇10mL/L。
经过上述方法得到的导电线路500,其包括形成于绝缘基材100亲水性表面110的钯质预制线路300,以及形成在钯质预制线路300表面且包覆预制线路300的镀覆金属400。
对于上述方法形成的电路板50,其包括绝缘基材100、钯制预制线路300和镀覆金属400。所述绝缘基材100的表面110经过亲水性处理的表面110为一亲水性表面。所述预制线路300形成于亲水性表面110,且与亲水性表面110较好的结合。所述镀覆金属400形成于预制线路300的表面且包覆预制线路300。
在电路板50的制作过程中,采用KOH将绝缘基材100的表面110改性,提高了绝缘基材100表面110的亲水性,并且在绝缘基材100的表面110吸附了钾离子,在形成线路图形200时,采用水溶性的含有钯离子的油墨,提高了表面110与油墨的结合能力,并且吸附的钾离子与油墨中的钯离子产生离子交换,进一步增强了线路图形200与绝缘基材100的表面110的结合能力。后续的钯离子还原处理中,采用非离子性还原剂,即有机还原剂和具有还原性的无机气体,改善了离子型还原剂(如硼氢化钠、柠檬酸钠等)还原时,线路图形200中的钯离子的脱吸附和再吸附而引起的线路分辨率下降的问题。此外,在预制线路300表面镀覆金属400提高了导电线路500的导电性和连续性。
可以理解的是,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形,而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种电路板的制作方法,其包括以下步骤:
对绝缘基材表面进行亲水性处理;
将含有可溶性钯盐的油墨印刷于所述亲水性处理过的绝缘基材的表面,形成线路图形;
采用非离子还原剂还原线路图形中的钯盐以形成钯质预制线路;
在预制线路的表面镀覆金属形成导电线路。
2.如权利要求1所述的电路板的制作方法,其特征在于,所述绝缘基材的材质为聚酰亚胺。
3.如权利要求2所述的电路板的制作方法,其特征在于,采用碱性溶液对绝缘基材表面进行亲水性处理。
4.如权利要求3所述的电路板的制作方法,其特征在于,采用氢氧化钾溶液或氢氧化钾与高锰酸钾的混合溶液对绝缘基材表面进行亲水性处理。
5.如权利要求1所述的电路板的制作方法,其特征在于,所述油墨进一步包括连接料、粘度调节剂、保湿剂和表面活性剂中的一种或几种。
6.如权利要求1所述的电路板的制作方法,其特征在于,所述非离子还原剂包括甲醛、水合肼、丙酮、乙二醇、氢气、一氧化碳或乙烯。
7.如权利要求1所述的电路板的制作方法,其特征在于,在预制线路表面镀覆金属采用化学镀的方法。
8.如权利要求1所述的电路板的制作方法,其特征在于,在预制线路表面所镀覆金属为铜、银或镍。
9.一种电路板,其包括:
一绝缘基材,其具有一亲水性表面;
一钯质预制线路,其形成在所述亲水性表面上;及
一导电镀层,其包覆所述预制线路。
10.如权利要求9所述的电路板,其特征在于,所述导电镀层的材质为铜、银或镍。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNA200810301963XA CN101600301A (zh) | 2008-06-04 | 2008-06-04 | 电路板及其制作方法 |
US12/261,321 US20090304911A1 (en) | 2008-06-04 | 2008-10-30 | Method of forming circuits on circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNA200810301963XA CN101600301A (zh) | 2008-06-04 | 2008-06-04 | 电路板及其制作方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101600301A true CN101600301A (zh) | 2009-12-09 |
Family
ID=41400565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA200810301963XA Pending CN101600301A (zh) | 2008-06-04 | 2008-06-04 | 电路板及其制作方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090304911A1 (zh) |
CN (1) | CN101600301A (zh) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102097345A (zh) * | 2010-11-01 | 2011-06-15 | 广西师范学院 | 一种在绝缘基材表面直接沉积金属线路图案的方法 |
CN102108505A (zh) * | 2010-11-01 | 2011-06-29 | 广西师范学院 | 基于丝网印刷方法直接沉积金属线路图案的方法 |
CN103095866A (zh) * | 2011-10-27 | 2013-05-08 | 比亚迪股份有限公司 | 一种具有天线的手机背屏及其制备方法 |
CN104442057A (zh) * | 2013-09-23 | 2015-03-25 | 张益诚 | 用喷印形成金属化图案方法及其塑模互连组件 |
CN103095866B (zh) * | 2011-10-27 | 2016-12-14 | 比亚迪股份有限公司 | 一种具有天线的手机背屏及其制备方法 |
CN107072039A (zh) * | 2016-12-23 | 2017-08-18 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 制备导电线路的方法 |
CN108035150A (zh) * | 2017-11-28 | 2018-05-15 | 深圳大学 | 基于化学键结合的电极线路、催化剂油墨及其制作方法 |
CN110291849A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-09-27 | 日产化学株式会社 | 布线形成方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019066815A1 (en) * | 2017-09-27 | 2019-04-04 | Intel Corporation | SUBSTRATE WITH INTEGRATED RESISTIVE CIRCUIT MEMBER AND METHOD FOR PROVIDING THE SAME |
US10772218B2 (en) * | 2017-10-03 | 2020-09-08 | The University Of Western Ontario | React-on-demand (ROD) fabrication method for high performance printed electronics |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4321285A (en) * | 1974-10-04 | 1982-03-23 | Surface Technology, Inc. | Electroless plating |
US7537799B2 (en) * | 2003-07-11 | 2009-05-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Methods of forming electrically conductive pathways using palladium aliphatic amine complexes |
-
2008
- 2008-06-04 CN CNA200810301963XA patent/CN101600301A/zh active Pending
- 2008-10-30 US US12/261,321 patent/US20090304911A1/en not_active Abandoned
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102097345A (zh) * | 2010-11-01 | 2011-06-15 | 广西师范学院 | 一种在绝缘基材表面直接沉积金属线路图案的方法 |
CN102108505A (zh) * | 2010-11-01 | 2011-06-29 | 广西师范学院 | 基于丝网印刷方法直接沉积金属线路图案的方法 |
CN102108505B (zh) * | 2010-11-01 | 2012-07-25 | 广西师范学院 | 基于丝网印刷方法直接沉积金属线路图案的方法 |
CN102097345B (zh) * | 2010-11-01 | 2012-08-15 | 广西师范学院 | 一种在绝缘基材表面直接沉积金属线路图案的方法 |
CN103095866A (zh) * | 2011-10-27 | 2013-05-08 | 比亚迪股份有限公司 | 一种具有天线的手机背屏及其制备方法 |
CN103095866B (zh) * | 2011-10-27 | 2016-12-14 | 比亚迪股份有限公司 | 一种具有天线的手机背屏及其制备方法 |
CN104442057A (zh) * | 2013-09-23 | 2015-03-25 | 张益诚 | 用喷印形成金属化图案方法及其塑模互连组件 |
CN107072039A (zh) * | 2016-12-23 | 2017-08-18 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 制备导电线路的方法 |
CN110291849A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-09-27 | 日产化学株式会社 | 布线形成方法 |
CN108035150A (zh) * | 2017-11-28 | 2018-05-15 | 深圳大学 | 基于化学键结合的电极线路、催化剂油墨及其制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090304911A1 (en) | 2009-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101600301A (zh) | 电路板及其制作方法 | |
CN101591488B (zh) | 油墨及利用该油墨制作导电线路的方法 | |
CN101754585B (zh) | 导电线路的制作方法 | |
CN101640979A (zh) | 导电线路的制作方法 | |
JP6250903B2 (ja) | 立体導電パターン構造体の製造方法及びそれに用いる立体成形用材料 | |
JP5131191B2 (ja) | 金属微粒子を含有する分散液の製造方法 | |
CN101547567B (zh) | 导电线路的制作方法 | |
CN104428376A (zh) | 用于形成种晶层的组合物 | |
CN101580657A (zh) | 油墨及利用该油墨制作导电线路的方法 | |
CN101553084B (zh) | 线路基板及线路基板的制作方法 | |
CN106191825B (zh) | 一种基于so42-体系的置换-还原化学镀钯液 | |
CN103249255A (zh) | 一种直接在树脂基板上制备导电线路的方法 | |
KR101468074B1 (ko) | 직접 도금에 의한 도전성 박막소재 및 이의 제조방법 | |
JP2007128878A (ja) | 導電性粒子の製造方法及びこれを使用した異方導電性フィルム | |
US20140076618A1 (en) | Method of forming gold thin film and printed circuit board | |
CN106987829B (zh) | 应用在柔性线路板化学镀镍钯金镀层的化学镀镍配方 | |
Meyer et al. | The use of conducting polymers and colloids in the through hole plating of printed circuit boards | |
CN102858084B (zh) | 一种挠性基材及其制备方法 | |
CN101798683B (zh) | 纳米金属溶液、纳米金属复合颗粒及金属膜层的制作方法 | |
JP2009147121A (ja) | 導電性部材の製造方法および導電性部材 | |
CN101597440B (zh) | 油墨、利用该油墨制作导电线路的方法及线路板 | |
Zhang et al. | Facile Fabrication of Hybrid Copper–Fiber Conductive Features with Enhanced Durability and Ultralow Sheet Resistance for Low‐Cost High‐Performance Paper‐Based Electronics | |
JP5418497B2 (ja) | 金属パターン形成方法及び金属パターン | |
CN116083890A (zh) | 一种基材表面处理方法及其应用 | |
TWI393502B (zh) | 電路板製作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20091209 |