CN101593658B - 具有集成能量过滤器的带电粒子源 - Google Patents

具有集成能量过滤器的带电粒子源 Download PDF

Info

Publication number
CN101593658B
CN101593658B CN200910145359.7A CN200910145359A CN101593658B CN 101593658 B CN101593658 B CN 101593658B CN 200910145359 A CN200910145359 A CN 200910145359A CN 101593658 B CN101593658 B CN 101593658B
Authority
CN
China
Prior art keywords
energy
charged particle
deflector
bundle
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN200910145359.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101593658A (zh
Inventor
A·亨斯特拉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FEI Co
Original Assignee
FEI Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FEI Co filed Critical FEI Co
Publication of CN101593658A publication Critical patent/CN101593658A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101593658B publication Critical patent/CN101593658B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/02—Electron guns
    • H01J3/027—Construction of the gun or parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/04—Ion guns
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06—Electron sources; Electron guns
    • H01J37/063—Geometrical arrangement of electrodes for beam-forming
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/04—Means for controlling the discharge
    • H01J2237/045—Diaphragms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
    • H01J2237/057—Energy or mass filtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/06—Sources
    • H01J2237/061—Construction
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/06—Sources
    • H01J2237/08—Ion sources
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
    • H01J2237/1534—Aberrations

Abstract

本发明的名称为具有集成能量过滤器的带电粒子源，描述发生能量选择的粒子源。能量选择通过偏心地发送带电粒子束穿过透镜发生。这样做的结果是，在透镜形成的图像中将发生能量色散。通过将此图像投射到能量选择光阑中的狭缝上，可以只让有限的能量谱部分中的粒子穿过。因此，穿过的束将具有减少的能量分散。偏转单元将束偏转到光轴。也可以选择偏转经过透镜中间去向光轴并且具有如更大电流的束。能量色散点由偏转器在狭缝上成像。在狭缝上定位能量色散点时，中央束偏离轴到被能量选择光阑阻止的程度。由此避免了在光阑后的区域由此束导致的反射和污染。此外，还避免了中央束的电子与偏转器区域中的能量过滤束交互作用所导致的电子-电子相互作用。

Description

具有集成能量过滤器的带电粒子源
技术领域
本发明涉及用于产生带电粒子束的带电粒子源，包括：·发射带电粒子的带电粒子发射表面；·用于形成带电粒子发射表面的图像的透镜，所述透镜显示有光轴；·用于限制束的限束光阑，其使用方式使得至少形成两个束，穿过透镜中间的中央束和偏心地穿过透镜的偏心束；·用于将一个束偏转向轴的偏转器；·能量选择光阑，显示有用于通过部分偏心束的能量选择孔以及用于通过中央束的中央孔，所述能量选择光阑位于粒子发射表面和偏转器之间；以及·将偏心束对准能量选择孔的第二偏转器。本发明还涉及配备这种带电粒子源的粒子光学设备。
背景技术
从美国专利US 7,034,315中可了解到这种带电粒子源。例如，其中所述的带电粒子束可用作电子显微镜如扫描电子显微镜(SEM)或透射电子显微镜(TEM)中的电子源，或用作聚焦离子束(FIB)设备中的离子源。
在使用带电粒子源的设备中，束由粒子光学元件如透镜和偏转器操纵。操纵该束以例如在样本上形成焦点并在样本上对其进行扫描。
样本上的这种焦点的大小至少部分由所谓的色差决定。粒子光学仪器中的色差是由具有轻微不同的能量的束中的粒子导致的那些像差。对于电子显微镜中使用的电子源，电子的能量分散通常约在0.3至1eV之间，而对于FIB中使用的离子源，能量分散通常介于1至10eV之间。特别在使用低束能量时，相对能量分散ΔE/E大，从而导致色差。
值得注意的是，色差可通过减小束直径来减小，但这会导致更低的束电流并且可增大所谓的衍射对点大小的影响。
还值得注意的是，已知在带电粒子设备中样本不是使用聚焦束而是使用平行束照射。在这种情况中，色差也非常重要。
US 7034315中描述的带电粒子源通过提供能量分散减少的源为色差问题提供了一种解决方案。这通过过滤显示有相对较小能量分散的带电粒子的部分并阻止其余粒子来实现。由于透镜的能量色散作用，偏心束将在能量选择光阑上成像为能量色散线。其上对偏心束成像的光阑中的能量选择孔的宽度确定了穿过所述孔的能量选择束的能量分散。
已知的过滤器使用透镜的离轴部分作为能量色散元件并且在能量选择光阑上形成粒子发射表面的图像。透镜的能量色散作用以光阑中的狭缝的形式在小孔上形成色散线，让部分能量色散图像通过并阻挡其余的。
这种能量过滤器的一个问题是至少两个束离开枪模块(gun module)：中央束和能量过滤束。通常这些中的一个集中在轴周围，而另一个偏离轴。这个偏离束可造成不需要的反射、污染等。
另一个问题是能量过滤束的带电粒子与中央束中的粒子交互作用。在此交互作用期间，能量过滤束的能量分散可能由于Boersch效应和轨迹位移而增加。
发明内容
本发明旨在提供仅有一个束离开源模块的带电粒子源。
为此，根据本发明的粒子源的特征在于，当使用第二偏转器聚焦偏心束和并将其对准到能量选择孔上时，第二偏转器同时偏转中央束，偏转程度使能量选择光阑阻挡中央束。
在偏心束对准能量选择孔上并穿过能量选择光阑时，通过稍微偏转中央束使中央束被能量选择光阑阻挡。中央束的偏转优选由第二偏转器通过将偏心束对准能量选择孔所需的相同偏转动作来完成。这样，中央束不会离开带电粒子源。因此，中央束的粒子无法造成不需要的反射、污染等。而且，由于两个束不混合，消除了能量选择束和中央束的粒子之间的带电粒子交互作用，如Boersch效应和轨迹位移。
注意，优选是使得一次只有一个束离开带电粒子束的方式形成和使用带电粒子源。
还要注意，限束光阑可置于透镜和发射表面之间，由此形成偏心束。然而，限束光阑可置于发射表面和第二偏转器之间的任何位置：即使在束置于透镜和第二偏转器之间时，偏心束由界定所述偏心束的孔从照射透镜的束中切除(excised)，造成与进入透镜前界定偏心束时相似的作用。
还要注意，偏心束和中央束的偏转可以是相同的，即在偏心束偏转时，中央束以相同角度偏转，但也可能通过形成第二偏转器以使得中央束和偏心束的偏转场在大小、范围或方向上不同，而导致两个束的偏转不同。
已经提到，色散线可通过添加一系列圆形图像(roundimage)形成，每个圆形图像对应于能量色散束中的一种能量。然而，也可以使用线图像(线方向与能量色散方向垂直)，所述线图像要由跟随枪模块的光学元件(optics)在圆形焦点中形成。
在根据本发明的带电粒子源的一个实施例中，另一偏转器和透镜集成在一个多极元件中。
通过使用具有至少两个极的多极元件，多极元件可以充当上面叠加了偏转器的圆形透镜。通过这种集成，部件总数以及由此引起的枪模块的复杂度得以减小。注意，这种极可以是磁极面或静电电极。还要注意，这种多极元件优选具有四个极，以使得偶极方向可以调整。
在根据本发明的带电粒子源的另一实施例中，配备多极元件用作束的象散校正装置。
通过使用具有至少四个极的多极元件，可以在透镜场和偏转场上叠加象散校正装置场。
本领域技术人员已知，这种极可以是磁极面或静电电极。电极和磁极面在一个结构构件中的组合也是本领域的技术人员已知的。注意，这种多极元件最好具有八个极以调整象散校正装置的方向，但也可以使用如六极器(即少于八个极)来实现可旋转象散校正装置。
在根据本发明的带电粒子源的又一实施例中，多极元件是静电多极元件。
通过形成作为(静电)电极的极，可以制造小尺寸的多极元件，从而实现小型枪模块。
在根据本发明的带电粒子源的又一实施例中，能量选择光阑显示有大量能量选择孔用于传递部分偏心束。
由于透镜的能量色散作用，偏心束将在能量选择光阑上成像为能量色散线。偏心束在其上成像的能量选择孔的宽度决定了穿过所述孔的能量选择束的能量分散。因此，不同宽度的多个能量选择孔实现了能量选择束的不同能量分散的选择。此外，不同的孔是备选的，这样在一个孔如被污染或损坏时可以使用备选孔。色散方向上的狭缝宽度优选约等于带电粒子发射表面在能量选择光阑上成像的几何图像大小。
在根据本发明的带电粒子源的又一实施例中，形成了大量偏心束，每个所述偏心束可用作穿过能量选择孔的偏心束。
形成具有不同能量分散的能量选择束的另一方法是通过选择不同的偏心束以偏心更多或更少的方式穿过透镜。偏心更多的束将显示有更多的能量色散并由此将对于指定孔产生能量分散较少的束。
注意，第二偏转器或透镜的聚焦作用可用于将所需偏心束引导至能量选择孔。
在根据本发明的带电粒子源的又一实施例中，在中央束穿过能量选择光阑时，没有偏心束穿过能量选择光阑。
虽然由于中央束通常表现出远比偏心束更大的强度，反射和污染的影响通常在中央束应穿过能量选择光阑并随后偏心地离开带电粒子源(在它被第一偏转器从轴偏转)时最为严重，但在偏心束偏心地离开枪模块时也会产生相似的效果。因此，阻挡偏心地离开带电粒子源的所有束是有利的。
在根据本发明的带电粒子源的又一实施例中，第二偏转器导致与中央束偏转不同的偏心束偏转。
通过形成第二偏转器以使得两个束的偏转场不同，可以实现不同的偏转幅度或方向。特殊情况是第二偏转器包含置于偏心束与中央束之间的第一电极以及两个接地电极，一个在第一电极放置侧对面的中央束侧，一个在第一电极放置侧对面的偏心束侧。这导致每个束的偏转场方向相反，并且可能幅度不同，由此两个束以不同方向偏转。
在本发明的又一实施例中，用于形成样本图像的粒子光学设备配备了根据本发明的粒子光源。
带电粒子源可用于如，扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描透射电子显微镜(STEM)、聚焦离子束仪器(FIB)或需要能量分散低的带电粒子源的任何其它粒子光学设备。
在根据本发明的粒子光学设备的另一实施例中，设备配备用于在样本上形成聚焦束。
在粒子光学透镜和/或偏转器出现色差时低能量分散尤为重要。在样本上聚焦束时，情况尤其是这样。
在根据本发明的粒子光学设备的另一实施例中，设备配备用于在带电粒子撞击样本之前变更由粒子光源产生并且由偏转器向轴偏转的带电粒子的能量。
带电粒子源通常针对所产生带电粒子的特定能量范围进行构建和优化。产生的粒子束可以加速或减速到另一值。
在根据本发明的粒子光学设备的另一实施例中，能量变更是能量降低。
在使用低能量束时低能量分散尤为重要，因为能量降低会导致大的相对能量分散ΔE/E并由此导致大的色差。所以，在使用带电粒子源并随后降低粒子能量至所需能量时，根据本发明的能量过滤器具有吸引力。
现在将参照附图阐述本发明，其中相应元件使用相同的参考标号来表示。为此：图1示意显示根据本发明的带电粒子源，其中中央束被阻挡；图2示意显示激励粒子源的未过滤和已过滤束的能量分布；以及图3示意显示根据本发明的粒子源的备选实施例。
图1示意显示根据本发明的带电粒子源，其中中央束被阻挡。
带电粒子发射表面102产生围绕轴101的带电粒子束103。限束光阑104阻挡部分发射的粒子并让至少两个束穿过，集中在轴周围的轴向束105和离轴束106。轴向束105在中心穿过粒子光学透镜107，而离轴束偏心地穿过所述透镜。透镜将粒子发射表面102聚焦在能量选择光阑108上。能量选择光阑显示有两个孔、让中央束穿过(在所述束未偏转时)的中央孔110和让部分束106穿过的偏心孔109。偏转器111，本文中由两个偏转板111a和111b示意表示，将偏心束对准能量选择偏心孔109，以使得密度最大的束部分穿过偏心孔109。由于透镜通常聚焦低能量粒子强于高能量粒子，在能量选择光阑上会形成指向轴的能量色散线。偏心孔在径向上的宽度决定了能量选择束113的能量分散。偏转器112(本文中由两个偏转板112a和112b示意表示)对齐轴周围的偏心束。
在偏转器111不活动时，即：在中央束105集中于轴101周围时，中央束穿过能量选择光阑108的中央孔110。通常，中央束是与偏心束106相比具有最大电流的束。在这种情况下，如果束105未偏转，偏心束106通常会被能量选择光阑阻挡。在偏转偏心束以使它对准偏心孔109时，中央束也会被偏转。中央束的偏转足以将(聚焦的)中央束定位于能量选择光阑的材料上而非中央孔上。由此中央束被阻止通行并且只有部分偏心束穿过能量选择光阑以形成能量选择束113。然后，此能量选择束113在轴101周围偏转以便由其中使用了带电粒子源的设备的其余部分操纵(聚焦、偏转、扫描等)。
注意，即使在中央束穿过能量选择光阑时，可能也必需对中央束应用偏转以使其集中到中央孔110。这可用于计算电极错位，或计算机械式位移和/或发射表面如Schottky发射器的偏移(drift)。
图2示意显示激励粒子源的未过滤束和已过滤束的能量分布。
未过滤束的能量分布由曲线201给出。它将强度显示为相对标定能量Enom的能量偏差的函数，Enom可通过束加速或减速来变更。通常假定此能量分布曲线201为Gaussian分布，其特征在于半峰全宽(FWHM)能量分散203。对于电子源，FWHM能量分散通常介于0.5至1eV之间，对于液态金属离子源，通常介于3至10eV之间。通过过滤小部分电子，可获得具有FWHM能量分散204的分布202。如本领域的技术人员已知，这种过滤的束虽然具有比未过滤的束更少的总电流，但在透镜色差处于支配地位的情况下，可聚焦到小得多的焦点并导致焦点中更高的电流密度。
图3示意显示根据本发明的粒子源的备选实施例。图3可被认为是源自图1。限束孔104现在置于透镜107和第二偏转器111之间。而且，第二偏转器现在形成为置于偏心束106和中央束105之间的电极111b，两个接地电极111a在每个束的相对侧上。这样，偏心束以与中央束偏转的方向相反的方向偏转。值得注意的是，两个电极111a相对于电极111b的不同间距会造成不同的偏转场强度，并由此造成束偏转的不同角度大小。因此，偏转器111的这种设置可引致两个束的不同相互方向和偏转角度大小，由此提供额外的设计灵活性。注意，还可以将此源与未激励或几乎未激励的透镜107配合使用，以使得中央束不被或几乎不被所述透镜聚焦。然后，可以从枪模块提取带有另一电流的中央束。另外，预见足够强地激励透镜以形成透镜与能量选择孔之间的交叉是一种使用中央束从模块提取所需电流的用法。这实现了通过调整透镜107具有适当电流的中央束(该中央束不是选定以备选择的能量，并且使用发射表面在能量选择光阑上成像的透镜107的设置来使用偏心束。值得注意的是，此模式中枪模块的使用，在枪模块中使用额外透镜，已在美国专利号US 6693282中进行了说明。

Claims (12)

1.一种用于产生带电粒子束的带电粒子源，包括：
·发射带电粒子的带电粒子发射表面；
·用于形成带电粒子发射表面的图像的透镜，所述透镜显示有光轴；
·用于限制所述带电粒子束的限束光阑，其使用方式使得至少形成两个束，穿过所述透镜中间的中央束和偏心地穿过所述透镜的偏心束；
·用于将所述中央束和所述偏心束中的一个向所述光轴偏转的第一偏转器；以及
·能量选择光阑，显示有让部分所述偏心束穿过的能量选择孔以及让所述中央束穿过的中央孔，所述能量选择光阑位于所述粒子发射表面和所述偏转器之间；以及
·将所述偏心束对准所述能量选择孔的第二偏转器；
其特征在于
·当使用第二偏转器聚焦所述偏心束并将其对准所述能量选择孔时，第二偏转器同时将所述中央束偏转，偏转程度使得所述中央束被能量选择光阑阻挡。
2.如权利要求1所述的带电粒子源，其中第二偏转器和所述透镜集成在一个多极元件中。
3.如权利要求2所述的带电粒子源，其中所述多极元件配备成用作所述带电粒子束的象散校正装置。
4.如权利要求2至3中任一项所述的带电粒子源，其中所述多极元件是静电多极元件。
5.如权利要求1至3中任一项所述的带电粒子源，其中所述能量选择光阑显示有用于穿过部分所述偏心束的大量能量选择孔。
6.如权利要求1至3中任一项所述的带电粒子源，其中形成了大量偏心束，每个所述偏心束被用作穿过能量选择孔的偏心束。
7.如权利要求1至3中任一项所述的带电粒子源，其中在所述中央束穿过所述能量选择光阑时，没有偏心束穿过所述能量选择光阑。
8.如权利要求1至3中任一项所述的带电粒子源，其中第二偏转器导致与所述中央束的偏转不同的所述偏心束的偏转。
9.一种用于形成样本图像的粒子光学设备，所述设备配备有根据以上权利要求中任一项所述的带电粒子源。
10.如权利要求9所述的粒子光学设备，其中所述设备配备为在所述样本上形成聚焦束。
11.如权利要求9或权利要求10所述的粒子光学设备，其中，所述设备配备成在所述带电粒子撞击所述样本之前变更由所述带电粒子源产生并且由所述第一偏转器向所述光轴偏转的带电粒子的能量。
12.如权利要求11所述的粒子光学设备，其中所述变更是所述能量的降低。
CN200910145359.7A 2008-05-26 2009-05-26 具有集成能量过滤器的带电粒子源 Active CN101593658B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08156906.3 2008-05-26
EP08156906A EP2128885A1 (en) 2008-05-26 2008-05-26 Charged particle source with integrated energy filter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101593658A CN101593658A (zh) 2009-12-02
CN101593658B true CN101593658B (zh) 2014-05-07

Family

ID=39830356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200910145359.7A Active CN101593658B (zh) 2008-05-26 2009-05-26 具有集成能量过滤器的带电粒子源

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7999225B2 (zh)
EP (2) EP2128885A1 (zh)
JP (1) JP5160499B2 (zh)
CN (1) CN101593658B (zh)
AT (1) ATE484841T1 (zh)
DE (1) DE602009000273D1 (zh)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2128885A1 (en) * 2008-05-26 2009-12-02 FEI Company Charged particle source with integrated energy filter
US8053725B2 (en) * 2009-06-29 2011-11-08 Fei Company Beam quality in FIB systems
EP2453461A1 (en) * 2010-11-10 2012-05-16 FEI Company Charged particle source with integrated electrostatic energy filter
US8334508B1 (en) * 2011-02-22 2012-12-18 Electron Optica, Inc. Mirror energy filter for electron beam apparatus
FR2974967A1 (fr) * 2011-05-02 2012-11-09 Gen Electric Procede et dispositif pour la mise en oeuvre d'imagerie a double energie
US9111715B2 (en) 2011-11-08 2015-08-18 Fei Company Charged particle energy filter
US8890092B2 (en) * 2013-01-28 2014-11-18 Industry—University Cooperation Foundation Sunmoon University Multi-particle beam column having an electrode layer including an eccentric aperture
EP2816585A1 (en) * 2013-06-17 2014-12-24 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam system and method of operating thereof
US9443696B2 (en) 2014-05-25 2016-09-13 Kla-Tencor Corporation Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator
KR101633978B1 (ko) * 2014-06-20 2016-06-28 한국표준과학연구원 모노크로메이터 및 이를 구비한 하전입자빔 장치
NL2013411B1 (en) * 2014-09-04 2016-09-27 Univ Delft Tech Multi electron beam inspection apparatus.
US9767984B2 (en) 2014-09-30 2017-09-19 Fei Company Chicane blanker assemblies for charged particle beam systems and methods of using the same
US9905391B2 (en) * 2015-04-29 2018-02-27 Kla-Tencor Corporation System and method for imaging a sample with an electron beam with a filtered energy spread
JP6703092B2 (ja) * 2015-07-22 2020-06-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 複数荷電粒子ビームの装置
US10192716B2 (en) * 2015-09-21 2019-01-29 Kla-Tencor Corporation Multi-beam dark field imaging
EP3203493B1 (en) * 2016-02-02 2018-10-03 FEI Company Charged-particle microscope with astigmatism compensation and energy-selection
US10410827B2 (en) 2017-05-03 2019-09-10 Fei Company Gun lens design in a charged particle microscope
DE102017208005B3 (de) 2017-05-11 2018-08-16 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenquelle zur Erzeugung eines Teilchenstrahls und teilchenoptische Vorrichtung
KR102650124B1 (ko) * 2017-07-28 2024-03-22 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 단일-빔 또는 멀티-빔 장치에서의 빔 분리기의 분산을 보상하기 위한 시스템들 및 방법들
CN108566720B (zh) * 2018-03-08 2019-05-03 西北核技术研究所 一种粒子加速器能量选择与分析系统
JP7231738B2 (ja) * 2018-12-31 2023-03-01 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 複数ビームを用いたインレンズウェーハプリチャージ及び検査
CN111266368B (zh) * 2020-01-20 2020-09-22 哈尔滨工业大学 一种聚焦离子束清理透射电子显微镜光阑的方法
KR20230017264A (ko) 2020-07-20 2023-02-03 주식회사 히타치하이테크 에너지 필터, 및 그것을 구비한 에너지 애널라이저 및 하전 입자빔 장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7034315B2 (en) * 2004-02-17 2006-04-25 Fei Company Particle source with selectable beam current and energy spread
CN1795529A (zh) * 2003-05-28 2006-06-28 迈普尔平版印刷Ip有限公司 带电粒子小射束曝光系统

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7004207A (zh) 1969-07-30 1971-02-02
GB1416043A (en) 1972-01-28 1975-12-03 Nasa Electron microscope aperture system
US4590379A (en) * 1980-09-16 1986-05-20 Martin Frederick W Achromatic deflector and quadrupole lens
DE8634545U1 (zh) 1986-12-23 1987-05-21 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De
DE3825103A1 (de) * 1988-07-23 1990-01-25 Zeiss Carl Fa Verfahren zum beleuchten eines objektes in einem transmissions-elektronenmikroskop
EP0470299B1 (en) 1990-08-08 1996-06-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Energy filter for charged particle beam apparatus
NL9100294A (nl) 1991-02-20 1992-09-16 Philips Nv Geladen deeltjesbundelinrichting.
DE4216730C2 (de) 1992-05-20 2003-07-24 Advantest Corp Rasterelektronenstrahlgerät
EP0647960B1 (en) 1993-05-21 1997-03-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Energy filter with correction of a second-order chromatic aberration
JPH10510674A (ja) 1995-10-03 1998-10-13 フィリップス エレクトロニクス エヌ ベー 単色分光計用の固定ダイヤフラムからなる粒子光学装置
KR19990028770A (ko) 1996-05-21 1999-04-15 엠. 제이. 엠. 반캄 입자-광학 장치에서 렌즈 수차를 교정하기 위한 교정장치
US5798524A (en) 1996-08-07 1998-08-25 Gatan, Inc. Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope
DE19633496B4 (de) 1996-08-20 2006-06-08 Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh Monchromator für die Elektronenoptik, insbesondere Elketronenmikroskopie
WO1998012732A1 (en) 1996-09-20 1998-03-26 Philips Electronics N.V. Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus
WO1998025293A2 (en) 1996-12-03 1998-06-11 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of operating a particle-optical apparatus
DE69827791T2 (de) 1998-09-23 2005-04-21 Advantest Corp Vorrichtung zur Reduzierung der Energieverteilung eines Teilchenstrahls und Teilchenstrahlgerät mit einer solchen Anordnung
DE60033767T2 (de) 1999-06-22 2007-11-15 Fei Co., Hillsboro Korpuskularoptisches gerät mit einer teilchenquelle umschaltbar zwischen hoher helligkeit und grossem strahlstrom
EP1150327B1 (en) 2000-04-27 2018-02-14 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Multi beam charged particle device
US6501076B1 (en) 2000-10-11 2002-12-31 Fei Company Electron analyzer having an integrated low pass filter
WO2002103337A2 (en) * 2001-06-15 2002-12-27 Ebara Corporation Electron beam apparatus and method for using said apparatus
JP3968334B2 (ja) * 2002-09-11 2007-08-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
EP2128885A1 (en) * 2008-05-26 2009-12-02 FEI Company Charged particle source with integrated energy filter

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1795529A (zh) * 2003-05-28 2006-06-28 迈普尔平版印刷Ip有限公司 带电粒子小射束曝光系统
US7034315B2 (en) * 2004-02-17 2006-04-25 Fei Company Particle source with selectable beam current and energy spread

Also Published As

Publication number Publication date
EP2128885A1 (en) 2009-12-02
CN101593658A (zh) 2009-12-02
ATE484841T1 (de) 2010-10-15
US7999225B2 (en) 2011-08-16
US8461525B2 (en) 2013-06-11
EP2128886B1 (en) 2010-10-13
JP2009289748A (ja) 2009-12-10
DE602009000273D1 (de) 2010-11-25
EP2128886A1 (en) 2009-12-02
US20110284763A1 (en) 2011-11-24
JP5160499B2 (ja) 2013-03-13
US20090289195A1 (en) 2009-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101593658B (zh) 具有集成能量过滤器的带电粒子源
US7034315B2 (en) Particle source with selectable beam current and energy spread
US7507956B2 (en) Charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system
US9111715B2 (en) Charged particle energy filter
CN109427524A (zh) 带电粒子束装置、用于带电粒子束装置的孔布置和用于操作带电粒子束装置的方法
US9048068B2 (en) Electron beam device with dispersion compensation, and method of operating same
EP2405460B1 (en) Electron beam device with tilting and dispersion compensation, and method of operating same
DE10122957B4 (de) Teilchenstrahlapparat mit energiekorrigierter Strahlablenkung sowie Vorrichtungund Verfahren zur energiekorrigierten Ablenkung eines Teilchenstrahls
EP1517354B1 (en) Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system
EP1521289B1 (en) Single stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system
EP3731255B1 (en) Energy filter and charged particle beam apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant