JP2009289748A - エネルギーフィルタが一体化された荷電粒子源 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 3
- 230000005405 multipole Effects 0.000 claims description 14
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 11
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
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- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/02—Electron guns
- H01J3/027—Construction of the gun or parts thereof
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- H—ELECTRICITY
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- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/04—Ion guns
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/063—Geometrical arrangement of electrodes for beam-forming
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/045—Diaphragms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
- H01J2237/057—Energy or mass filtering
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/061—Construction
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- H—ELECTRICITY
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/08—Ion sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
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Abstract
【解決手段】レンズ107を介して荷電粒子103のビームを偏心させるように進行させ、像中にエネルギー分散が生じ、この像をエネルギー選択ダイアフラム108内のスリット109上に投影することによって、エネルギー選択が可能となり、通過したビーム113のエネルギー発散は減少する。偏向ユニット112は、前記ビームを光軸101に近づくように偏向させる。エネルギー分散スポットは偏向器111によって前記スリット上で結像する。前記スリット上の前記エネルギー分散スポットの位置設定を行うとき、中心ビーム105は前記軸から偏向され、該ビームは前記エネルギー選択ダイアフラムによって止められ、続く領域において、ビームから生じる反射及び汚染は防止される。また偏向器112の領域内でのエネルギーでフィルタリングされたビームと相互作用する中心ビームの電子-電子相互作用も防止される。
【選択図】図1
Description
- 荷電粒子を放出する荷電粒子放出面、
- 該荷電粒子放出面の像を生成するレンズであって光軸を有するレンズ、
- 少なくとも2本のビームが生成され、中心ビームは前記レンズの中心を通り、偏心ビームは前記レンズを偏心して通る、ように配置された、ビームを制限するビーム制限ダイアフラム、
- 前記ビームのうちの1本を前記光軸に近づくように偏向するように配置された第1偏向器、
- 前記偏心ビームの一部を通過させるエネルギー選択アパーチャ、及び前記中心ビームを通過させる中心アパーチャを有するエネルギー選択ダイアフラムであって、前記荷電粒子放出面と前記偏向器との間に設けられているエネルギー選択ダイアフラム、並びに
- 前記偏心ビームを前記エネルギー選択アパーチャに位置合わせする第2偏向器、
を有する。
102 荷電粒子放出面
103 荷電粒子
104 ビーム制限ダイアフラム
105 中心ビーム
106 軸から外れたビーム
107 レンズ
108 エネルギー選択ダイアフラム
109 スリット
110 中心ビーム
111 偏向器
112 偏向ユニット
113 通過したビーム
201 エネルギー分布曲線
202 分布
203 半値全幅
204 半値全幅でのエネルギーの広がり
Claims (12)
- 荷電粒子ビームを生成する荷電粒子源であって、
当該荷電粒子源は:
荷電粒子を放出する荷電粒子放出面;
該荷電粒子放出面の像を生成するレンズであって光軸を有するレンズ;
少なくとも2本のビームが生成され、中心ビームは前記レンズの中心を通り、偏心ビームは前記レンズを偏心して通る、ように配置された、ビームを制限するビーム制限ダイアフラム;
前記ビームのうちの1本を前記光軸に近づくように偏向するように配置された第1偏向器;
前記偏心ビームの一部を通過させるエネルギー選択アパーチャ、及び前記中心ビームを通過させる中心アパーチャを有するエネルギー選択ダイアフラムであって、前記荷電粒子放出面と前記第1偏向器との間に設けられているエネルギー選択ダイアフラム;並びに
前記偏心ビームを前記エネルギー選択アパーチャに位置合わせする第2偏向器;
を有し、
前記偏心ビームが、前記第2偏向器を用いることによって前記エネルギー選択アパーチャで集束及び位置合わせされるときに、前記第2偏向器は同時に前記中心ビームを偏向させ、それにより前記中心ビームが前記エネルギー選択ダイアフラムによって阻止される、
ことを特徴とする荷電粒子源。 - 前記第2偏向器及び前記レンズが一の多極素子内で一体化されている、請求項1に記載の荷電粒子源。
- 前記多極素子が前記ビームのスティグメータとして用いられるように備えられている、上記請求項のうちいずれかに記載の荷電粒子源。
- 前記多極素子が静電多極素子である、上記請求項のうちいずれかに記載の荷電粒子源。
- 前記エネルギー選択ダイアフラムは前記偏心ビームの一部を通過させる多数のエネルギー選択アパーチャを有する、上記請求項のうちいずれかに記載の荷電粒子源。
- 多重偏心ビームが生成され、かつ
該多重偏心ビームの各々は前記エネルギー選択アパーチャを通り抜ける前記偏心ビームとして用いられることが可能である、
上記請求項のうちいずれかに記載の荷電粒子源。 - 前記中心ビームが前記エネルギー選択ダイアフラムを通過するときには、偏心ビームは前記エネルギー選択ダイアフラムを通過しない、上記請求項のうちいずれかに記載の荷電粒子源。
- 前記第2偏向器は前記中心ビームの偏向とは異なる前記偏心ビームの偏向を引き起こす、上記請求項のうちいずれかに記載の荷電粒子源。
- 上記請求項のうちいずれかに記載の粒子光学源が備えられている、試料像を生成する粒子光学装置。
- 前記試料上に集束ビームを生成するように備えられている、請求項9に記載の粒子光学装置。
- 前記粒子光学源によって生成されて、前記荷電粒子が前記試料に衝突する前に前記偏向器によって前記軸へ向かうように偏向された前記荷電粒子のエネルギーを変化させるように備えられている、請求項9又は10に記載の粒子光学装置。
- 前記のエネルギー変化とは前記エネルギーを下げることである、請求項11に記載の粒子光学装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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EP08156906.3 | 2008-05-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009289748A true JP2009289748A (ja) | 2009-12-10 |
JP5160499B2 JP5160499B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=39830356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009124911A Active JP5160499B2 (ja) | 2008-05-26 | 2009-05-25 | エネルギーフィルタが一体化された荷電粒子源 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7999225B2 (ja) |
EP (2) | EP2128885A1 (ja) |
JP (1) | JP5160499B2 (ja) |
CN (1) | CN101593658B (ja) |
AT (1) | ATE484841T1 (ja) |
DE (1) | DE602009000273D1 (ja) |
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DE112020007220T5 (de) | 2020-07-20 | 2023-03-09 | Hitachi High-Tech Corporation | Energiefilter, Energieanalyseeinrichtung und Ladungsträgerstrahleinrichtung, die damit versehen ist |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090289195A1 (en) | 2009-11-26 |
EP2128885A1 (en) | 2009-12-02 |
US7999225B2 (en) | 2011-08-16 |
CN101593658A (zh) | 2009-12-02 |
JP5160499B2 (ja) | 2013-03-13 |
US20110284763A1 (en) | 2011-11-24 |
ATE484841T1 (de) | 2010-10-15 |
US8461525B2 (en) | 2013-06-11 |
CN101593658B (zh) | 2014-05-07 |
EP2128886B1 (en) | 2010-10-13 |
DE602009000273D1 (de) | 2010-11-25 |
EP2128886A1 (en) | 2009-12-02 |
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