CN101587197B - 减反射膜、光学构件、光学系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种在更宽的波段具有充分降低的反射率的减反射膜。该减反射膜(20)设置在光学基板(100)的表面(100S)上，依次具备缓冲层(22)和减反射层(21)。减反射层(21)包括从缓冲层(22)侧依次层叠的第1层(1)～第8层(8)，第1层(1)及第6层(6)由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成，第3层(3)及第5层(5)及第7层(7)由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成，第2层(2)、第4层(4)及第8层(8)由具有对d线在1.70以上2.50以下的范围且高于中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。缓冲层(22)具有与减反射层(21)的第8层(8)相接的第9层(9)由上述的中间折射率材料构成的多层结构。
Description
技术领域
本发明涉及一种例如形成于透镜或滤光片等的光学构件的一面，对预定的波段(波長带)的光发挥减反射(反射低减)效果的减反射膜、以及具备减反射膜的光学构件及光学系统。
背景技术
一般，在照相机或电视广播用摄像机等摄像装置中，在其光路上配置多个透镜、棱镜，或者滤光片等光学构件。在各光学构件的表面，若光入射则其光的一部分成为反射光。在此，从若光学构件的总数增加则与此对应地反射光的总量增加的情况来看，例如在广播用摄像机中出现影像发生闪烁或重像等障碍。而且，从各光学构件表面的反射率对入射光的波长具有分布并且根据各光学构件的构成材料具有各种反射率的波长依存性的情况来看，色度平衡恶化，有必要调整在摄像装置整体的白平衡。
由此，以往以来，在各光学构件的表面设置减反射膜(或者也称为防反射膜)。减反射膜是组合具有互不相同的折射率的电介质膜的多层膜，对于其构成例如在下述的非专利文献1所公开。在该非专利文献1中，公开有5层结构的防反射膜，正尝试用于在持续更宽频带得到低的反射率。
非专利文献1：[光/薄膜指南]，OPTRONICS公司，平成元年10月9日，p.246-247
而且，除了上述非专利文献1以外，也在专利文献1公开有9层结构的防反射膜。
专利文献1：专利公开2002-267801号公报
上述非专利文献1所公开的防反射膜，例如设置在对d线具有低于1.70的折射率的光学基板上时，发挥比较良好的低反射率特性。然而，设置在具有超过1.75的高折射率的光学基板上时，如以下说明那样可知失去反射率分布的平坦性，并具有在特定的波长反射率上升的倾向。
表1及表2表示相当于非专利文献1所公开的防反射膜的、具有层叠结构的防反射膜(以往例1、2)的基本数据(构成材料、折射率、光学膜厚)，图45表示具有表1及表2的基本数据的防反射膜的反射率分布。
[表1]
| 以往例1 | 构成材料 | 折射率N | 光学膜厚Nxd |
| 光学基板 | BK-7 | 1.51 | - |
| 第1层 | SUB-M1 | 1.67 | 0.25λ0 |
| 第2层 | ZrO2 | 2.05 | 0.50λ0 |
| 第3层 | Al2O3 | 1.62 | 0.50λ0 |
| 第4层 | SUB-H4 | 2.05 | 0.50λ0 |
| 第5层 | MgF2 | 1.39 | 0.25λ0 |
| 空气 | - | 1.00 | - |
[表2]
中心波长λ0＝500nm
| 以往例2 | 构成材料 | 折射率N | 光学膜厚Nxd |
| 光学基板 | S-LAH58 | 1.88 | - |
| 第1层 | SUB-M3 | 1.78 | 0.25λ0 |
| 第2层 | ZrO2 | 2.05 | 0.50λ0 |
| 第3层 | Al2O3 | 1.62 | 0.50λ0 |
| 第4层 | SUB-H4 | 2.05 | 0.50λ0 |
| 第5层 | MgF2 | 1.39 | 0.25λ0 |
| 空气 | - | 1.00 | - |
表1的以往例1为形成防反射膜的光学基板的折射率比较低时的构成例，表2的以往例2为光学基板的折射率比较高时的构成例。另外，在表1及表2中，[SUB-M1]表示以PrAlO3为主成分的物质M1(Merck(メルク)公司)，[SUB-M3]表示以铝酸镧(La2xAl2yO3(x+y))为主成分的物质M3(Merck公司)，[SUB-M4]表示以LaTiO3为主成分的物质H4(Merck公司)。在图45中，曲线23A表示以往例1的反射率分布，曲线23B表示以往例2的反射率分布。这样，在光学基板 的折射率为1.8830的以往例2中，反射率分布不平坦，在波长420nm附近、510nm附近及650nm附近产生峰。
而且，在最近，作为广播用摄像机对昼夜兼用摄像机(日夜摄像机)的需要越来越高。然而，在上述专利文献1所述的防反射膜，在近红外区域的防反射性能不充分。从而，除了可见光区域，在波长700nm至900nm附近的近红外区域也强烈要求可进行良好的摄影的光学系统。
由此，即使设置在具有比较高折射率的光学基板时，也需要例如对400nm至900nm附近的波长光充分地显示低折射率的减反射膜。
发明内容
本发明是借鉴于这种问题点而提出的，其第1目的在于，提供一种在更宽的波段具有反射率充分降低的减反射膜。本发明的第2目的在于，提供一种具备这种减反射膜的光学构件及光学系统。
本发明的减反射膜在基板上具备包括从远离该基板一侧依次层叠的第1至第8层的减反射层。第1及第6层由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成，第3、第5及第7层由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成，第2、第4及第8层由具有对d线在1.70以上2.50以下的范围高于中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。本发明的光学构件是上述的减反射膜被设置在表面的构件，本发明的光学系统具备了这种光学构件。
在本发明的减反射膜中，设置在基板上的减反射层的第1至第8层由具有预定的折射率的材料构成，所以，在更宽的波段反射率分布充分降低。
在本发明的减反射膜中，优选进一步全部满足以下条件式(1)～(8)。此处，λ0为中心波长，N1～N8为第1至第8层对中心波长λ0的折射率，d1～d8为第1至第8层的物理性膜厚。
0.23×λ0≤N1×d1≤0.25×λ0……(1)
0.11×λ0≤N2×d2≤0.13×λ0……(2)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(3)
0.25×λ0≤N4×d4≤0.29×λ0……(4)
0.22×λ0≤N5×d5≤0.24×λ0……(5)
0.22×λ0≤N6×d6≤0.26×λ0……(6)
0.21×λ0≤N7×d7≤0.24×λ0……(7)
0.45×λ0≤N8×d8≤0.53×λ0……(8)
在本发明的减反射膜中，在基板和减反射层之间具备减少在它们之间产生的反射光的缓冲层即可。优选其缓冲层具有由中间折射率材料构成的单层结构、或者与减反射层相接的层由中间折射率材料构成的多层结构。该缓冲层通过在基板和减反射层之间缓和急剧的折射率变化而减少在基板表面的反射。缓冲层具有多层结构时，例如为3层以上5层以下即可。具体地，基板对d线的折射率为1.66以上2.2以下，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第9至第13层，第9、第11及第13层由中间折射率材料构成，并且第10及第12层由高折射率材料构成。或者，基板对d线的折射率为1.51以上1.72以下，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第9至第11层，第9及第11层由中间折射率材料构成，并且第10层由高折射率材料构成即可。或者，基板对d线的折射率为1.40以上1.58以下，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第9至第12层，第9及第12层由中间折射率材料构成，第10层由高折射率材料构成，第11层由低折射率材料构成，或者第9层由中间折射率材料构成，第10及12层由高折射率材料构成，第11层由低折射率材料构成即可。
而且，在至今被提案的防反射膜中确认了对垂直入射光发挥比较良好的低反射率特性的防反射膜。然而，对斜入射光也发挥充分低的反射率特性的防反射膜较少，即使有也不存在在整个可见光区域发挥良好的低反射率特性的防反射膜。斜入射光例如入射到广播用摄像机的透镜系统，则通过在透镜面的反射成为闪烁或重像的发生原因。
从这种情况来看，期望不仅是对垂直入射光，对斜入射光也在更宽的频带发挥良好的低反射率特性的低反射膜。
本发明的减反射膜在基板上具备包括从与该基板相反一侧依次层叠的第1至第9层的减反射层。在减反射层，第1及第8层由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成，第3、第5、第7及第9层由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成，第2、第4及第6层由对d线在1.70以上2.50以下的范围具有高于中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。本发明的光学构件是上述的减反射膜被设置在表面的构件，本发明的光学系统具备这种光学构件。
在本发明的减反射膜中，设置在基板上的减反射层的第1至第9层由表示预定的折射率的材料构成，所以，至少在可见区域对垂直入射光及斜入射光双方 的反射率分布充分降低。
在本发明的减反射膜中，优选进一步全部满足以下条件式(11)～(19)。此处，λ0为中心波长，N1～N9为第1至第9层对中心波长λ0的折射率，d1～d9为第1至第9层的物理性膜厚。
0.24×λ0≤N1×d1≤0.27×λ0……(11)
0.16×λ0≤N2×d2≤0.19×λ0……(12)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(13)
0.20×λ0≤N4×d4≤0.25×λ0……(14)
0.48×λ0≤N5×d5≤0.51×λ0……(15)
0.48×λ0≤N6×d6≤0.51×λ0……(16)
0.29×λ0≤N7×d7≤0.33×λ0……(17)
0.09×λ0≤N8×d8≤0.13×λ0……(18)
0.34×λ0≤N9×d9≤0.47×λ0……(19)
在本发明的减反射膜中，优选在基板和减反射层之间还具备具有多层结构的缓冲层。此时，缓冲层中与减反射层相接的层具有高于减反射层中与缓冲层相接的层的折射率即可。这种缓冲层通过在基板和减反射层之间缓和急剧的折射率变化而减少在基板表面的反射。
在本发明的减反射膜中，基板对d线的折射率为1.84以上2.2以下时，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第10至第15层，第11、第13及第15层由中间折射率材料构成，并且第10、第12及第14层由高折射率材料构成即可。而且，基板对d线的折射率为1.71以上1.89以下时，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第10至第13层，第11及第13层由中间折射率材料构成，并且第10及第12层由高折射率材料构成即可。而且，基板对d线的折射率为1.51以上1.72以下时，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第10至第13层，第11层由低折射率材料构成，第13层由中间折射率材料构成，第10及第12层由高折射率材料构成即可。基板对d线的折射率为1.57以上1.62以下时，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第10至第14层，第10、第12及第14层由高折射率材料构成，并且第11及第13层由低折射率材料构成即可。而且，基板对d线的折射率为1.40以上1.58以下时，缓冲层包括从减反射层侧依次层叠的第10至第12层，第10层由高折射率材料构成，第11层由低折射率材料构成，第12层由中间折射率材料构成，或者第10及第12层由高折射率材料构成，并且第11层由低折射率材料构成即可。
根据本发明的减反射膜及光学构件，基板上的减反射层的第1至第8层由具有预定的折射率的材料构成，所以在从可见区域持续到近红外区域的宽波段，可充分降低对垂直入射光及斜入射光双方的反射率。从而，在将本发明的减反射膜及光学构件适用于在广播用摄像机等摄像装置上的光学系统时，能够抑制闪烁或重像的发生，并能够得到更优异的色度平衡性。而且，可对应于可见区域到近红外区域，所以适合昼夜兼用摄像机的光学系统。
根据本发明的减反射膜及光学构件，基板上的减反射层的第1至第9层由具有预定的折射率的材料构成，所以至少在可见区域可充分降低对垂直入射光及斜入射光双方的反射率分布。从而，在将本发明的减反射膜及光学构件适用于广播用摄像机等摄像装置上的光学系统时，能够抑制闪烁或重像的发生，并能够得到更良好的色度平衡性。
附图说明
图1是作为本发明的第1实施方式的防反射膜的剖面图。
图2是作为本发明的第2实施方式的防反射膜的剖面图。
图3是作为本发明的第3实施方式的防反射膜的剖面图。
图4是作为图3的变形例的减反射膜的剖面图。
图5是作为本发明的第4实施方式的防反射膜的剖面图。
图6是作为本发明的第5实施方式的防反射膜的剖面图。
图7是作为本发明的第6实施方式的防反射膜的剖面图。
图8是作为本发明的第7实施方式的防反射膜的剖面图。
图9是作为本发明的第8实施方式的防反射膜的剖面图。
图10是作为图9的变形例的减反射膜的剖面图。
图11是作为本发明的第9实施方式的负焦(レトロフオ一カス)透镜的剖面图。
图12是作为本发明的第10实施方式的广角系变焦透镜系统的剖面图。
图13是作为本发明的第11实施方式的色分离光学系统的剖面图。
图14是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-1的反射率分布图。
图15是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-2的反射率分布图。
图16是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-3的反射率分布图。
图17是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-4的反射率分布图。
图18是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-5的反射率分布图。
图19是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-6的反射率分布图。
图20是与图1所示的减反射膜相对应的实施例1-7的反射率分布图。
图21是与图2所示的减反射膜相对应的实施例2-1的反射率分布图。
图22是与图2所示的减反射膜相对应的实施例2-2的反射率分布图。
图23是与图2所示的减反射膜相对应的实施例2-3的反射率分布图。
图24是与图3所示的减反射膜相对应的实施例3-1的反射率分布图。
图25是与图3所示的减反射膜相对应的实施例3-2的反射率分布图。
图26是与图3所示的减反射膜相对应的实施例3-3的反射率分布图。
图27是与图3所示的减反射膜相对应的实施例3-4的反射率分布图。
图28是与图4所示的减反射膜相对应的实施例4-1的反射率分布图。
图29是与图5所示的减反射膜相对应的实施例5-1的反射率分布图。
图30是与图5所示的减反射膜相对应的实施例5-2的反射率分布图。
图31是与图5所示的减反射膜相对应的实施例5-3的反射率分布图。
图32是与图6所示的减反射膜相对应的实施例6-1的反射率分布图。
图33是与图6所示的减反射膜相对应的实施例6-2的反射率分布图。
图34是与图6所示的减反射膜相对应的实施例6-3的反射率分布图。
图35是与图6所示的减反射膜相对应的实施例6-4的反射率分布图。
图36是与图6所示的减反射膜相对应的实施例7-1的反射率分布图。
图37是与图7所示的减反射膜相对应的实施例7-2的反射率分布图。
图38是与图7所示的减反射膜相对应的实施例7-3的反射率分布图。
图39是与图8所示的减反射膜相对应的实施例8-1的反射率分布图。
图40是与图9所示的减反射膜相对应的实施例9-1的反射率分布图。
图41是与图9所示的减反射膜相对应的实施例9-2的反射率分布图。
图42是与图9所示的减反射膜相对应的实施例9-3的反射率分布图。
图43是与图9所示的减反射膜相对应的实施例9-4的反射率分布图。
图44是与图10所示的减反射膜对应的实施例10-1的反射率分布图。
图45是以往例1、2的反射率分布图。
图中：1～15-第1层～第15层，20、30、40、40A、1020、1030、1040、1050、1060、1060A-减反射膜，100-光学基板，100S-表面，101-色分离光学系统，102-摄像透镜，110-第1棱镜，120-第2棱镜，130-第 3棱镜，151AR、152AR、153AR-减反射膜，G101～G103-第1～第3透镜组，G1-聚焦组，G2-第1移动组，G3-第2移动组，G4-中继透镜组。
具体实施方式
以下，参照附图分别对本发明中的实施方式详细地说明。
[第1实施方式]
图1是表示作为本发明的第1实施方式的减反射膜20的构成的简要剖面图。图1的减反射膜20对应于后述的第1数值实施例(表3至表9，图14至图20)。
减反射膜20是由设置在光学基板100的表面100S上的合计13层构成的多层膜，第1层1至第13层13的各层从与光学基板100相反一侧依次层叠。第1层1至第8层8为减反射层21，第9层9至第13层13为缓冲层22。缓冲层22与光学基板100的表面100S、以及减反射层21的第8层8双方紧贴设置，并且，具有多层结构。该缓冲层22具有在光学基板100和减反射层21之间缓和急剧的折射率变化且减少在表面100S的反射的功能。另外，在此将表面100S设为平面，但不限于此，也可设为曲面。即，也可以作为光学基板100使用具有球面、非球面的透镜，并在该球面、非球面上设置减反射膜20。
光学基板100由玻璃或晶体材料等透明材料构成。具体地，若对d线(波长λ＝587.56nm)具有1.66以上2.20以下的折射率的材料，则可以适当地使用。作为这种透明材料，例如可举S-LAH79(OHARA(オハラ)公司)、S-NPH2(OHARA公司)、LASF-N17(住田光学玻璃公司)、S-TIH53(OHARA公司)、SFL6(SCHOTT(シヨツト)公司)、SF14(住田光学玻璃公司)、S-TIH1(OHARA公司)、BASF-2(住田光学玻璃公司)等。
减反射层21中的第1层1及第6层6是由对d线(波长λ＝587.56nm)具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成的低折射率层。作为此处的低折射率材料例如可使用氟化镁(MgF2)、SiO2及氟化铝(AlF3)、以及它们的混合物及化合物。优选第1层1及第6层6尤其由对d线尤其具有1.37以上1.40以下的折射率的低折射率材料(例如MgF2)构成。而且，以得到更高的机械强度的观点优选采用以SiO2为主成分的物质L5(Merck公司)。物质L5(Merck公司)除了SiO2以外包含微量的氧化铝(Al2O3)，对d线具有1.46以上1.48以下的折射率。
减反射层21中的第3层3、第5层5及第7层7是由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成的中间折射率层。作为此处的中间折射率材 料例如可以使用氧化铝(Al2O3)、镨氧化铝(PrAlO3)、铝酸镧(La2xAl2yO3(x+y))、氧化锗(GeO2)及氧化钇(Y2O3)、以及它们的混合物及化合物。优选第3层3、第5层5及第7层7尤其由对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的中间折射率材料(例如Al2O3)构成。
而且，减反射层21中的第2层2、第4层4及第8层8是由具有对d线在1.70以上2.50以下的范围且高于中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成的高折射率层。作为此处的高折射率材料例如可使用钛酸镧(LaTiO3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)、氧化铪(HfO2)及氧化铈(CeO2)、以及它们的混合物及化合物。第2层2、第4层4及第8层8尤其由对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的高折射率材料(例如以LaTiO3为主成分的物质H4(Merck公司))构成即可。
第1层1至第8层8中，进一步优选分别构成为全部满足以下条件式(1)～(8)。此处，λ0为中心波长(单位：nm)，N1～N8为第1层1至第8层8的对中心波长λ0的折射率，d1～d8为第1层1至第8层8的物理性膜厚(单位：nm)。
0.23×λ0≤N1×d1≤0.25×λ0……(1)
0.11×λ0≤N2×d2≤0.13×λ0……(2)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(3)
0.25×λ0≤N4×d4≤0.29×λ0……(4)
0.22×λ0≤N5×d5≤0.24×λ0……(5)
0.22×λ0≤N6×d6≤0.26×λ0……(6)
0.21×λ0≤N7×d7≤0.24×λ0……(7)
0.45×λ0≤N8×d8≤0.53×λ0……(8)
缓冲层22的与减反射层21的第8层8相接(接する)的第9层9由上述的中间折射率材料构成。优选除了第9层9以外，第11层11及第13层13也由上述的中间折射率材料构成，并且第10层10及第12层12由上述的高折射率材料构成。作为缓冲层22中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。而且，作为缓冲层22中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司)等。
这样，根据本实施方式的减反射膜20，在对d线具有1.66以上2.20以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第13层13，所以在从可见区域持续到近红外区域的宽波段可充分降低对垂直入射光及斜入射光双方的反射率。尤其，通过满足各条件式(1)～(8)而谋求光学膜厚Nxd的最适化，所以可更进一步提高上述的效果。从而，将本发 明的减反射膜及光学构件适用于广播用摄像机等的摄像装置的光学系统时，抑制闪烁或重像的发生的同时可以得到更好的色度平衡性。而且，能够对应于可见区域到近红外区域，所以适用于昼夜兼用摄像机的光学系统。
[第2实施方式]
图2是表示作为本发明的第2实施方式的减反射膜30的构成的简要剖面图。图2的减反射膜30对应于后述的第2数值实施例(表10至表12，图21至图23)。
减反射膜30是由设置在光学基板100的表面100S上的合计11层构成的多层膜，第1层1至第11层11的各层从与光学基板100相反一侧依次层叠。其中，第1层1至第8层8为减反射层31，第9层9至第11层11为缓冲层32。减反射层31是与减反射层21同样的构成。另外，在关于减反射膜30的以下说明中，主要记载与上述第1实施方式的减反射膜20实质上不同的构成要素，对相同的构成要素适当省略记载。
对于光学基板100若是对d线具有1.51以上1.72以下的折射率的透明材料，则可适当地使用。作为这种透明材料，例如可举S-TIH1(OHARA公司)、BASF-2(住田光学玻璃公司)、F-3(住田光学玻璃公司)、LF1(住田光学玻璃公司)、BK7(住田光学玻璃公司)等。
缓冲层32由3层结构构成，与减反射层31的第8层8相接的第9层9由上述的中间折射率材料构成。优选为，除了第9层9以外，第11层11也由上述的中间折射率材料构成，并且第10层10由上述的高折射率材料构成。作为缓冲层32中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。而且，作为缓冲层32中的高折射率材料，尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司制)等。
这样，根据本实施方式的减反射膜30，在对d线具有1.51以上1.72以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第11层11，所以得到与上述第1实施方式的减反射膜20同样的效果。
[第3实施方式]
图3是表示作为本发明的第3实施方式的减反射膜40的构成的简要剖面图。图3的减反射膜40对应于后述的第3数值实施例(表13至表16，图24至图27)。
减反射膜40是由设置在光学基板100的表面100S上的合计12层构成的多层膜，第1层1至第12层12的各层，从与光学基板100相反一侧依次层叠。其中，第1层1至第8层8为减反射层41，第9层9至第12层12为缓冲层42。减反射层41是 与减反射层21同样的构成。另外，在关于减反射膜40的以下说明中，主要记载与上述第1实施方式的减反射膜40实质上不同的构成要素，对相同的构成要素适当省略记载。
对于光学基板100若是对d线具有1.40以上1.58以下的折射率的透明材料，则可以适当地使用。作为这种透明材料，例如可举出LF1(住田光学玻璃公司)、BK7(住田光学玻璃公司)、FK-5(住田光学玻璃公司)、石英(硅石)玻璃(SiO2)、萤石(CaF2)等。尤其，萤石作为色分散小的光学材料公知，光学基板100是透镜的情况下成为色像差较少的材料。
缓冲层42由4层结构构成，减反射层41的与第8层8相接的第9层9由上述的中间折射率材料构成。优选除了第9层9以外，第12层12也由上述的中间折射率材料构成，第10层10由上述的高折射率材料构成，第11层11由上述的低折射率材料构成。作为缓冲层42中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。而且，作为缓冲层42中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司)等。而且，作为缓冲层42中的低折射率材料尤其优选对d线具有1.37以上1.40以下的折射率的MgF2等。或者从得到更高的机械强度的观点来看，作为低折射率材料优选采用物质L5(Merck公司)。
这样，根据本实施方式的减反射膜40，在对d线具有1.40以上1.58以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第12层12，所以可以得到与上述的第1实施方式的减反射膜20同样的效果。(第3实施方式的变形例)
图4是表示作为本实施方式的变形例的减反射膜40A的构成的简要剖面图。图4的减反射膜40A对应于后述的第4数值实施例(表17及图28)。
在上述实施方式中，在4层结构的缓冲层42中位于最靠近光学基板100侧的第12层12由中间折射率材料构成，但是这也可以由高折射率材料构成。此时，将第12层12由具有低于构成第10层10的材料的折射率的材料构成，尤其由对d线具有1.80以上1.82以下的折射率的Y2O3构成即可。在这种情况也可以得到与上述第1实施方式的减反射膜20同样的效果。
[第4实施方式]
图5是表示作为本发明的第4实施方式的减反射膜1020的构成的简要剖面图。图5的减反射膜1020对应于后述的第5数值实施例(表18至表20，图29至图 31)。
减反射膜1020是由设置在光学基板100的表面100S上的合计15层构成的多层膜，第1层1至第15层15的各层从与光学基板100的相反的一侧依次层叠。其中第1层1至第9层9为减反射层1021，第10层10至第15层15为缓冲层1022。缓冲层1022与光学基板100及减反射层1021双方紧贴设置。由此，减反射膜1020在与光学基板100之间维持充分的剥离强度。而且，缓冲层1022具有在光学基板100和减反射层1021之间缓和急剧的折射率变化并减少在表面100S的反射的功能。另外，在此将表面100S设为平面，但不限于此，也可设为曲面。即，也可作为光学基板100使用具有球面、非球面的透镜，且在其球面、非球面上设置减反射膜1020。
光学基板100由玻璃、晶体材料等透明材料构成。具体地，若是对d线(波长λ＝587.56nm)具有1.84以上2.20以下的折射率的材料，则可适当地使用。作为这种透明材料，例如可举出S-LAH79(OHARA公司)、S-NPH2(OHARA公司)、LASF-N17(住田光学玻璃公司)等。
减反射层1021中的第1层1及第8层8是由对d线(波长λ＝587.56nm)具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成的低折射率层。作为此处的低折射率材料例如可使用氟化镁(MgF2)、SiO2及氟化铝(AlF3)、以及它们的混合物及化合物。优选第1层1及第8层8尤其由对d线尤其具有1.37以上1.40以下的折射率的低折射率材料(MgF2)构成。而且，在得到更高的机械强度的观点上优选采用以SiO2为主成分的物质L5(Merck公司)。物质L5(Merck公司)除了SiO2以外包括微量的氧化铝(Al2O3)，对d线具有1.46以上1.48以下的折射率。
减反射层1021中的第3层3、第5层5、第7层7及第9层9是由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成的中间折射率层。作为此处的中间折射率材料例如可使用氧化铝(Al2O3)、镨氧化铝(PrAlO3)、铝酸镧(La2xAl2yO3(x+y))、氧化锗(GeO2)及氧化钇(Y2O3)、以及它们的混合物及化合物。优选第3层3、第5层5、第7层7及第9层9尤其由对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的中间折射率材料(例如Al2O3)构成。
而且，在减反射层1021中的第2层2、第4层4及第6层6是由对d线在1.70以上2.50以下的范围具有高于中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成的高折射率层。作为此处的高折射率材料例如可使用钛酸镧(LaTiO3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)、氧化铪 (HfO2)及氧化铈(CeO2)、以及它们的混合物及化合物。第2层2、第4层4及第6层6尤其由对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的高折射率材料(例如以LaTiO3为主成分的物质H4(Merck公司制)构成即可。
在第1层1至第9层9中，进一步优选分别构成为全部满足以下条件式(11)～(19)。此处，λ0为中心波长(单位：nm)，N1～N9为第1层1至第9层9对中心波长λ0的折射率，d1～d9为第1层1至第9层9的物理性膜厚(单位：nm)。
0.24×λ0≤N1×d1≤0.27×λ0……(11)
0.16×λ0≤N2×d2≤0.19×λ0……(12)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(13)
0.20×λ0≤N4×d4≤0.25×λ0……(14)
0.48×λ0≤N5×d5≤0.51×λ0……(15)
0.48×λ0≤N6×d6≤0.51×λ0……(16)
0.29×λ0≤N7×d7≤0.33×λ0……(17)
0.09×λ0≤N8×d8≤0.13×λ0……(18)
0.34×λ0≤N9×d9≤0.47×λ0……(19)
缓冲层1022为了减少在光学基板100和减反射层1021之间所发生的反射光而具有与光学基板100的折射率对应的6层结构。在此优选为第11层11、第13层13及第15层15由上述的中间折射率材料构成，并且第10层10、第12层12及第14层14由上述的高折射率材料构成。作为缓冲层1022中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。而且，作为缓冲层1022中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司)等。
这样，根据本实施方式的减反射膜1020，在对d线具有1.84以上2.20以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第15层15，所以至少在可见区域可充分降低对垂直入射光及斜入射光双方的反射率。尤其，通过满足各条件式(11)～(19)而谋求光学膜厚Nxd的最优化，所以可更进一步提高上述效果。从而，将本发明的减反射膜及光学构件适用于广播用摄像机等的摄像装置上的光学系统时，能够抑制闪烁或重像的发生的并且得到更好的色度平衡性。
[第5实施方式]
图6是表示作为本发明的第5实施方式的减反射膜1030的构成的简要剖面 图。图6的减反射膜1030对应于后述的第6数值实施例(表21至表24，图32至图35)。
减反射膜1030是设置在光学基板100的表面100S上的由合计13层构成的多层膜，第1层1至第13层13的各层从与光学基板100相反一侧依次层叠。其中，第1层1至第9层9为减反射层1031，第10层10至第13层13为缓冲层1032。减反射层1031与减反射层1021是同样的构成。如同上述第4实施方式的减反射膜1020，缓冲层1032与光学基板100及减反射层1031双方紧贴设置，维持充分的剥离强度。另外，在关于减反射膜1030的以下说明中，主要记载与上述第4实施方式的减反射膜1020实质上不同的构成要素，对相同的构成要素适当省略记载。
对于光学基板100若是对d线具有1.71以上1.89以下的折射率的透明材料，则可适当地使用。作为这种透明材料，例如优选使用S-TIH53(OHARA公司)、SFL6(SCHOTT公司)、SF14(住田光学玻璃公司)、S-TIH1(OHARA公司)等。
缓冲层1032为了减少在光学基板100和减反射层1031之间产生的反射光而具有与光学基板100的折射率对应的4层结构。在此优选第11层11及第13层13由上述的中间折射率材料构成，并且第10层10及第12层12由上述的高折射率材料构成。作为缓冲层1032中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。而且，作为缓冲层1032中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck社制)等。
这样，根据本实施方式的减反射膜1030，在对d线具有1.71以上1.89以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第13层13，所以可以得到与上述第4实施方式的减反射膜1020同样的效果。
[第6实施方式]
图7是表示作为本发明的第6实施方式的减反射膜1040的构成的简要剖面图。图7的减反射膜1040对应于后述的第7数值实施例(表25至表27，图36至图38)。
减反射膜1041是设置在光学基板100的表面100S上的由合计13层构成的多层膜，第1层1至第13层13的各层从与光学基板100相反一侧依次层叠。其中，第1层1至第9层9为减反射层1041，第10层10至第13层13为缓冲层1042。减反射 层1041与减反射层1021是同样的构成。如同上述第4实施方式的减反射膜1020，缓冲层1042与光学基板100及减反射层1041双方紧贴设置，且维持充分的剥离强度。另外，在关于减反射膜1040的以下说明中，主要记载与上述第4实施方式的减反射膜1020实质上不同的构成要素，对相同的构成要素适当省略记载。
对于光学基板100若是对d线具有1.51以上1.72以下的折射率的透明材料，则可适当地使用。作为这种透明材料，例如可举出BASF-2(住田光学玻璃公司)、F-3(住田光学玻璃公司)、S-TIM8(OHARA公司)、LF1(住田光学玻璃公司)、BK7(住田光学玻璃公司)等。
缓冲层1042为了减少在光学基板100和减反射层1041之间产生的反射光而具有与光学基板100的折射率对应的4层结构。在此优选第13层13由上述的中间折射率材料构成，第10层10及第12层12由上述的高折射率材料构成，第11层11由上述的低折射率材料构成。作为缓冲层1042中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。而且，作为缓冲层1042中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司)等。而且，作为缓冲层1042中的低折射率材料尤其优选对d线具有1.37以上1.40以下的折射率的MgF2等。
这样，根据本实施方式的减反射膜1040，在对d线具有1.51以上1.72以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第13层13，所以可以得到与上述第4实施方式的减反射膜1020同样的效果。
[第7实施方式]
图8是表示作为本发明的第7实施方式的减反射膜1050的构成的简要剖面图。图8的减反射膜1050对应于后述的第8数值实施例(表28，图39)。
减反射膜1050是由设置在光学基板100的表面100S上的合计14层构成的多层膜，第1层1至第14层14的各层从与光学基板100相反一侧依次层叠。其中，第1层1至第9层9为减反射层1051，第10层10至第14层14为缓冲层1052。减反射层1051是与减反射层1021同样的构成。如同上述第4实施方式的减反射膜1020，缓冲层1052与光学基板100及减反射层1051双方紧贴设置，维持充分的剥离强度。另外，在关于减反射膜1050的以下说明中，主要记载与上述第4实施方式的减反射膜1020实质上不同的构成要素，对相同的构成要素适当省略记 载。
对于光学基板100若是对d线具有1.57以上1.62以下的折射率的透明材料，则可适当地使用。作为这种透明材料，例如优选由F-3(住田光学玻璃公司)、S-TIM8(OHARA公司)、LF1(住田光学玻璃公司)等构成。
缓冲层1052为了减少在光学基板100和减反射层1051之间所发生的反射光而具有与光学基板100的折射率对应的5层结构。在此优选为，第10层10、第12层12及第14层14由上述的高折射率材料构成，第11层11及第13层13由上述的低折射率材料构成。作为缓冲层1052中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司)等。而且，作为缓冲层1052中的低折射率材料尤其优选对d线具有1.37以上1.40以下的折射率的MgF2等。
这样，根据本实施方式的减反射膜1050，在对d线具有1.57以上1.62以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第14层14，所以可以得到与上述第4实施方式的减反射膜1020同样的效果。
[第8实施方式]
图9是表示作为本发明的第8实施方式的减反射膜1060的构成的简要剖面图。图9的减反射膜1060对应于后述的第9数值实施例(表29至表32，图40至图43)。
减反射膜1060是由设置在光学基板100的表面100S上的合计12层构成的多层膜，第1层1至第12层12的各层从光学基板100的相反侧依次层叠。其中，第1层1至第9层9为减反射层1061，第10层10至第12层12为缓冲层1062。减反射层1061是与减反射层1021同样的构成。如同上述第4实施方式的减反射膜1020，缓冲层1062与光学基板100及减反射层1061双方紧贴设置，且维持充分的剥离强度。另外，在关于减反射膜1060的以下说明中，主要记载与上述第4实施方式的减反射膜1020实质上不同的构成要素，对相同的构成要素适当省略记载。
对于光学基板100若是对d线具有1.40以上1.58以下的折射率的透明材料，则可适当地使用。作为这种透明材料，例如可举出LF1(住田光学玻璃公司)、BK7(住田光学玻璃公司)、K-PFK85(住田光学玻璃公司)、石英(硅石)玻璃(SiO2)、萤石(CaF2)等。
缓冲层1062为了减少在光学基板100和减反射层1061之间产生的反射光而具有与光学基板100的折射率对应的3层结构。在此优选第10层10由上述的高折 射率材料构成，第11层11由上述的低折射率材料构成，第12层12由上述的中间折射率材料构成。作为缓冲层1062中的高折射率材料尤其优选对d线具有2.08以上2.11以下的折射率的物质H4(Merck公司)等。而且，作为缓冲层1062中的低折射率材料尤其优选对d线具有1.37以上1.40以下的折射率的MgF2等。而且，作为缓冲层1062中的中间折射率材料尤其优选对d线具有1.62以上1.65以下的折射率的Al2O3等。
这样，根据本实施方式的减反射膜1060，在对d线具有1.40以上1.58以下的折射率的光学基板100上从空气侧依次层叠分别具有预定范围的折射率的第1层1～第12层12，所以可以得到与上述第4实施方式的减反射膜1020同样的效果。
(第8实施方式的变形例)
图10是表示作为本实施方式的变形例的减反射膜1060A的构成的简要剖面图。图10的减反射膜1060A对应于后述的第10数值实施例(表33及图44)。
在上述实施方式中，3层结构的缓冲层1062中位于最靠近光学基板100侧的第12层12由中间折射率材料构成，但是如本变形例的缓冲层1062A那样，第12层12也可以由高折射率材料构成。此时，由具有比构成第10层10的材料低的折射率的材料构成第12层12，尤其由对d线具有1.80以上1.82以下的折射率的Y2O3构成即可。在这种情况也可以得到与上述第4实施方式的减反射膜1020同样的效果。
[第9实施方式]
图11表示作为本发明的第9实施方式的负焦透镜(レトロフオ一カスレンズ)的构成例。
在图11中符号Li(i＝1～8)表示将最靠近物侧的构成要素作为第1个，随着朝向像侧(成像侧)依次增加的第i个构成要素。符号Si(i＝1～13)表示将最靠近物侧的构成要素的面作为第1个，随着朝向像侧(成像侧)依次增加的第i个面。
该负焦透镜是例如搭载于以屋内外的监视用途或防犯用途使用的CCTV(Closed Circuit Television)摄像机等摄像装置的光学系统，沿着光轴Z1从物侧依次配置第1～第3透镜组G101～G103。在此，例如第1透镜组G101具有负的折射力，另一方面，第2透镜组G102及第3透镜组G103均具有正的折射力。第1透镜组G101及第2透镜组G102整体具有负的折射力。虽未图示，但在第1透 镜组G101和第2透镜组G102之间设有限制周边光束的透过的光阑，在第2透镜组G102和第3透镜组G103之间设有孔径光阑。
第1透镜组G101通过从物侧依次排列将凸面朝向物侧的负的弯月形状的透镜L1、双凸形状的透镜L2、将凸面朝向物侧的负的弯月形状的透镜L3而构成。第2透镜组G102由将凸面朝向像侧的正的弯月形状的透镜L4构成。而且，第3透镜组G103从物侧依次配置有：由负的透镜L5及正的透镜L6构成的接合(接合)透镜L56、将凸面朝向物侧的正的透镜L7。
在该负焦透镜的成像面(摄像面)Simg例如配置未图示的电荷耦合器件(CCD)等摄像元件。在第3透镜组G103和摄像面Simg之间根据装载这个的摄像机侧的构成配置有各种光学构件GC。作为光学构件GC例如可以举出摄像面保护用盖玻璃或各种光学滤光片等平板状构件。
在所有这种构成的负焦透镜的各透镜L1～L7的各面S1～S13(除去接合面)或者在这些中的任意面Si设有上述第1～第8实施方式的减反射膜20、30、40、40A、1020、1030、1040、1050、1060、1060A中的任意一个。因此，在该负焦透镜抑制闪烁或重像的发生的同时可以得到更优异的色度平衡性。而且，在上述第1～第3实施方式中能够对应于可见区域到近红外区域，所以能够对应于昼夜摄影。
[第10实施方式]
图12表示作为本发明的第10实施方式的广角系变焦透镜系统的构成例。
该广角系变焦透镜系统例如搭载在e-电影院或HDTV用摄影摄像机使用。该广角系变焦透镜系统成为沿着光轴Z1从物侧依次配置聚焦组G1、变倍组G20、孔径光阑St、中继透镜组G4的构成。变倍组G20成为从物侧依次配置第1移动组G2及第2移动组G3的构成。在该广角系变焦透镜系统的成像面(摄像面)Simg例如配置未图示的摄像元件。根据装载透镜的摄像机侧的构成，可以在中继透镜组G4和摄像面之间配置有各种光学构件。在图12的构成例中配置有由色分离棱镜等构成的色分离光学系统GC。
该广角系变焦透镜系统通过在光轴上移动变倍组G20而进行变倍。更具体地，通过在光轴上移动第1移动组G2而进行变倍，通过在光轴上移动第2移动组G3而进行与此相伴的焦点移动的校正。第1移动组G2和第2移动组G3随着从广角端到望远端变倍，描绘出图12用实线所示的轨迹而移动。通过在光轴上移动聚焦组G1的一部分透镜组而进行聚焦调整。中继透镜组G4在变倍时及聚焦时均为 固定。
聚焦组G1作为整体具有正的折射力。该聚焦组G1为从物侧依次配置作为整体例如具有负的折射力并在聚焦时固定的第1透镜组G11、作为整体具有正的折射力的第2透镜组G12、作为整体例如具有正的折射力并且聚焦时固定的第3透镜组G13的结构。在构成该聚焦组G1的透镜L11～L19(后出：後出)的全部面、或者这些中的任意面设有上述第1～第8实施方式的减反射膜20、30、40、40A、1020、1030、1040、1050、1060、1060A中的任意一个。
第1透镜组G11成为先配置多片负的透镜并且在最靠近成像面侧配置正透镜的构成。具体地，例如由4片透镜L11～L14构成，L11～L13为负透镜，L14为正透镜。在第1透镜组G11中，透镜L11、L12例如为将凸面朝向物侧的负的弯月形透镜。透镜L13例如为双凹透镜。透镜L14例如为双凸透镜。
第2透镜组G12至少由1片透镜构成，并且仅由正透镜构成。第2透镜组G12通过具有正的折射力，在从无限远到近距离物体(最近(至近))聚焦时向成像面侧移动。这样，该广角系变焦透镜系统成为将聚焦组G1中内部的一部分组移动的内焦式透镜。第2透镜组G12具体地例如由1片正透镜L15构成。正透镜L15例如成为将凹面朝向物侧的正的弯月形透镜。
第3透镜组G13从物体侧依次由负透镜及多片正透镜构成，最终面将凸面朝朝向像面。具体地，例如由1片负透镜L16及3片正透镜L17～L19构成。负透镜L16例如为将凸面朝向物侧的负的弯月形透镜。
在变倍组G20中，第1移动组G2作为整体具有负的折射力。该第1移动组G2具体地例如由4片透镜L21～L24构成。透镜L21例如成为将凸面朝向物侧的负的弯月形透镜。透镜L22例如成为双凹透镜。透镜L23、L24例如成为接合透镜。
第2移动组G3作为整体具有正或负的折射力。该第2移动组G3具体地例如由2片接合透镜L31、L32构成。
中继透镜组G4作为整体具有正的折射力。该中继透镜组G4具体地例如由10片透镜L41～L50构成。构成为在由透镜L41～L44构成的前组和由透镜L45～L50构成的后组之间光束大致平行。
接着，说明如以上构成的广角系变焦透镜系统的作用及效果。
在该广角系变焦透镜系统中，通过使变倍组G20中的第1移动组G2沿光轴方向移动而进行变倍，通过使第2移动组G3沿光轴方向移动而进行与该变倍相伴的焦点移动的校正。通过使聚焦组G1中第2透镜组G12在光轴上移动而进行聚焦 调整。第2透镜组G12通过具有正的折射力，在从无限远到近距离物体(极近)聚焦时向成像面侧移动。
在该广角系变焦透镜系统中，将聚焦组G1分割为多个组，通过采用仅使其中的第2透镜组G12的内焦(インナ一フオ一カス)的构成，可良好地保持聚焦时的视场角变化(瞬间(ブリ一ジング))，并且可以谋求聚焦调整机构的简化。而且，通过将作为最前组的第1透镜组G11设为固定组，也容易确保防尘/防雾性。
而且，在构成聚焦组G1的透镜L11～L19(除去接合面)的全部面、或者这些一部分面设置上述第1～第8实施方式的减反射膜20、30、40、40A、1020、1030、1040、1050、1060、1060A中的任意一个，所以能够抑制闪烁或重像的发生，并得到更好的色度平衡性。而且，在上述第1～第3实施方式中，能够对应于可见区域到近红外区域，所以可对应于昼夜摄影。
而且，一般，例如在透镜L11的物侧的面的曲率比较高的面上通过溅射等蒸镀法形成减反射模时，在该面的离光轴远的部分(周边部分)，膜厚倾向于比接近光轴的部分(中央部分)薄。而且，较多情况下，通过面的周边部分的光相对于面的法线具有比较大的角度。因此，若在这种曲率高的面上形成减少可见光的反射的以往的减反射膜，则周边光量比下降。但是，用于本实施方式的减反射膜20、30、40、40A均可以在从可见区域跨度近红外区域的宽的波段，充分降低对垂直入射光及斜入射光这双方的反射率，所以可充分地抑制周边光量比的下降。
[第11实施方式]
图13表示具备作为本发明的第11实施方式的色分离光学系统101的摄像装置的主要部分的构成。该摄像装置例如作为电视摄像机的摄像部分利用。色分离光学系统101将介由摄影透镜102入射的入射光L分解成蓝色光LB、红色光LR、以及绿色光LG这3个色光成分。在对应于由色分离光学系统101分解的各色光的位置配置有CCD等各色光用摄像元件104B、104R、104G。该色分离光学系统101沿着光轴Z1从光的入射侧依次具备第1棱镜110、第2棱镜120、第3棱镜130。本实施方式的色分离光学系统101为分别由第1棱镜110取出蓝色光LB，由第2棱镜120取出红色光LR，由第3棱镜130取出绿色光LG的构成例。另外，色分离光学系统101被称为第1棱镜110和第2棱镜120隔着空气间隔110AG配置的菲利浦型。
第1棱镜110具有第1面111、第2面112、及第3面113。第1棱镜110的第3面113为光射出面。在该射出面设有补偿滤光片(トリミングフイルタ)151。在补偿滤光片151的光射出面形成有防重像/闪烁用的减反射膜151AR。另外，也可以不设置补偿滤光片151而在第1棱镜110的第3面113直接形成减反射膜151AR。
在第1棱镜110的第2面112形成有作为第1二向色(ダイクロイツク)膜的蓝色光反射二向色膜DB。蓝色光反射二向色膜DB的膜结构是作为第1色光成分反射蓝色光LB、透过绿色光LG及红色光LR的膜构成。
第2棱镜120具有第1面121、第2面122、及第3面123。第2棱镜120的第3面123为光射出面。在该射出面设有补偿滤光片152。在补偿滤光片152的光射出面形成有防重像/闪烁用的减反射膜152AR。另外，也可以不设置补偿滤光片152而在第2棱镜120的第3面123直接形成减反射膜152AR。
在第2棱镜120的第2面122形成有作为第2二向色膜的红色光反射二向色膜DR。红色光反射二向色膜DR的膜结构是作为第2色光成分反射红色光LR、透过绿色光LG。
第3棱镜130具有第1面131、及第2面132。第3棱镜130隔着红色光反射二向色膜DR接合在第2棱镜120。更详细地，第2棱镜120的第2面122和第3棱镜130的第1面131隔着红色光反射二向色膜DR接合。第3棱镜130的第2面132为光射出面。在该射出面设有补偿滤光片153。在补偿滤光片153的光射出面形成有防重像/闪烁用的减反射膜153AR。另外，也可以不设置补偿滤光片153而在第3棱镜130的第2面132直接形成减反射膜153AR。
接着，说明本实施方式的摄像装置的作用、尤其色分离光学系统101的光学作用及效果。
在该摄像装置中，来自由未图示的光源照射的未图示的被摄体的被摄体光介由摄影透镜102入射到色分离光学系统101。在色分离光学系统101中将入射光L分解成蓝色光LB、红色光LR、以及绿色光LG这3个色光成分。更详细地，首先入射光L中蓝色光LB被蓝色光反射二向色膜DB反射，作为第1色光成分从第1棱镜110取出。而且，透过蓝色光反射二向色膜DB的红色光LR由红色光反射二向色膜DR反射，从第2棱镜120作为第2色光成分取出。而且，透过蓝色光反射二向色膜DB、及红色光反射二向色膜DR的绿色光LG作为第3色光成分从第3棱镜130取出。由色分离光学系统101分解的各色光入射到对应于各色光而设置的摄 像元件104B、104R、104G。在摄像元件104B、104R、104G中将与入射的各色光对应的电信号作为摄像信号输出。
在本实施方式中，在第1～第3棱镜110、120、130的各光射出面分别设有减反射膜151AR、152AR、153AR。若作为这些减反射膜151AR、152AR、153AR适用上述第1～第8实施方式的减反射膜20、30、40、40A、1020、1030、1040、1050、1060、1060A中的任意一个，则能够抑制闪烁或重像的发生并可以得到更好的色度平衡性。而且，在上述第1～第3实施方式中，能够对应于可见区域到近红外区域，所以可以对应于昼夜摄影。
[实施例]
接着，对本实施方式所涉及的减反射膜的具体数值实施例进行说明。
[第1数值实施例]
将第1数值实施例(实施例1-1～1-7)示于表3～表9及图14～图20。在此表3～表9分别表示与图1所示的减反射膜相对应20的实施例1-1～1-7的基本数据。而且，图14～图20分别表示实施例1-1～1-7的反射率分布。其中，图14(A)、图15(A)、图16(A)、图17(A)、图18(A)、图19(A)及图20(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图14(B)、图15(B)、图16(B)、图17(B)、图18(B)、图19(B)及图20(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表3]
实施例1-1 中心波长λ＝600nm
[表4]
实施例1-2 中心波长λ＝600nm
[表5]
实施例1-3 中心波长λ＝600nm
[表6]
实施例1-4 中心波长λ＝600nm
[表7]
实施例1-5 中心波长λ＝600nm
[表8]
实施例1-6 中心波长λ＝600nm
[表9]
实施例1-7 中心波长λ＝600nm
在表3～表9分别表示各层的构成材料、对d线的折射率N、物理性膜厚d(单位：nm)及光学膜厚Nxd(单位：nm)。实施例1-1～1-7除去光学基板的构成材料互不相同以外，其他具有同样的构成。在构成材料的栏中的[SUB-H4]表示以LaTiO3为主成分的物质H4(Merck公司)。而且，对在光学膜厚N×d的栏所示的中心波长λ0均设为600nm。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第8层的各折射率N及各光学膜厚N×d的值全部满足上述的条件式(1)～(8)。而且，在相当于缓冲层的第9至第13层，与减反射层相接的第9层在所有实施例中由中间折射率材料构成。
在图14(A)、图15(A)、图16(A)、图17(A)、图18(A)、图19(A)及图20(A)中，纵轴表示相对于垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至900nm的频带反射率不足0.4％的良好的反射特性。而且，在图14(B)、图15(B)、图16(B)、图17(B)、图18(B)、图19(B)及图20(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，大约在400nm至900nm的频带反射率落 入(収まる)不足2.0％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。而且，根据缓冲层包括设置成与减反射层的第8层相接的由中间折射率材料构成的第9层的情况，确认了缓冲层良好地维持与光学基板及减反射层双方的紧贴性，而且确保高的剥离强度。
[第2数值实施例]
将第2数值实施例(实施例2-1～2-3)示于表10～表12及图21～图23。在此表10～表12分别表示与图2所示的减反射膜相对应30的实施例2-1～2-3的基本数据。而且，图21～图23分别表示实施例2-1～2-3的反射率分布。其中，图21(A)、图22(A)及图23(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图21(B)、图22(B)及图23(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表10]
实施例2-1 中心波长λ＝600nm
[表11]
实施例2-2 中心波长λ＝600nm
[表12]
实施例2-3 中心波长λ＝600nm
在表10～表12分别表示与上述的表3～表9同样的项目。实施例2-1～2-3除去光学基板的构成材料互不相同以外，其他具有同样的构成。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第8层的各折射率N及各光学膜厚Nxd的值全部满足上述的条件式(1)～(8)。而且，在相当于缓冲层的第9层至第11层，与减反射层相接的第9层在所有的实施例中由中间折射率材料构成。
在图21(A)、图22(A)及图23(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至900nm的频带(带域)反射率小于0.4％的良好的反射特性。而且，在图21(B)、图22(B)、及图23(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，大约在400nm至900nm的频带反射率落入不足2.0％，对斜入射光也得到良好的反射特性。根据缓冲层包括设置成与减反射层的第8层相接的由中间折射率材料构成的第9层，确认了缓冲层良好地维持与光学基板及减反射层双方的紧贴性，而且确保高的剥离强度。
[第3数值实施例]
将第3数值实施例(实施例3-1～3-4)示于表13～表16及图24～图27。 在此表13～表16分别表示与图3所示的减反射膜40相对应的实施例3-1～3-4的基本数据。而且，图24～图27分别表示实施例3-1～3-4的反射率分布。其中，图24(A)、图25(A)、图26(A)及图27(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图24(B)、图25(B)、图26(B)及图27(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表13]
实施例3-1 中心波长λ＝600nm
[表14]
实施例3-2 中心波长λ＝600nm
[表15]
实施例3-3 中心波长λ＝600nm
[表16]
实施例3-4 中心波长λ＝600nm
在表13～表16分别表示与上述的表3～表9同样的项目。实施例3-1～3-4除了光学基板的构成材料互不相同的现象，其他具有同样的构成。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第8层的各折射率N及各光学膜厚N×d的值全部满足上述的条件式(1)～(8)。而且，在相当于缓冲层的第9至第12层，与减反射层相接的第9层在所有的实施例中由中间折射率材料构成。
在图24(A)、图25(A)、图26(A)及27(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至900nm的频带反射率不足0.4％的良好的反射特性。而且，在图24(B)、图25(B)、图26(B)及图27(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中大约在400nm至900nm的频带反射率也落入不足2.0％，对斜入射光也得到良好的反射特性。而且，根据缓冲层包括设置成与减反射层的第8层相接的由中间折射率材料构成的第9层的情况，确认了缓冲层良好地维持与光学基板及减反射层双方的紧贴性，并确保高的剥离强度。
[第4数值实施例]
将第4数值实施例(实施例4-1)示于表17及图28。在此表17表示与图4所 示的减反射膜40A相对应的实施例4-1的基本数据。图28表示实施例4-1的反射率分布。尤其，图28(A)表示实施例4-1的对垂直入射光的反射率分布，图28(B)表示实施例4-1的对斜入射光的反射率分布。
[表17]
实施例4-1 中心波长λ＝600nm
表17表示与上述的表3～表9同样的项目。从表17可知，与减反射层相当的第1层至第8层的各折射率N及各光学膜厚Nxd的值全部满足上述的条件式(1)～(8)。而且，在相当于缓冲层的第9至第12层，与减反射层相接的第9层由中间折射率材料构成。
在图28(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据图28(A)可知，得到了大约在400nm至900nm的频带反射率不足0.4％的良好的反射特性。而且，在图28(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据图28(B)可知，大约在400nm至900nm的频带反射率落入不足2.0％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。而且，根据缓冲层包括设置成与减反射层的第8层相接的、由中间折射率材料构成的第9层的情况，确认了缓冲层良好地维持与光学基板及减反射层双方的紧贴性并且确保高的剥离强度。
根据以上的各基本数据及各反射率分布图可知，在各实施例1-1至4-1 中，从可见区域到近红外区域可实现稳定的低的反射率分布。即，根据本发明的减反射膜，确认了在比以往宽的频带充分降低反射率，并且充分平坦化其反射率的分布。
而且，在上述实施方式等中，对缓冲层由多层构成的多层结构的情况进行了说明，但本发明不限于此。即，在本发明中，也可以将缓冲层设为由中间折射率材料构成的单层结构。
[第5数值实施例]
将第5数值实施例(实施例5-1～5-3)示于表18～表20及图29～图31。在此表18～表20分别表示与图5所示的减反射膜1020相对应的实施例5-1～5-3的基本数据。而且，图29～图31分别表示实施例5-1～5-3的反射率分布。其中，图29(A)、图30(A)及图31(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图29(B)、图30(B)及图31(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表18]
实施例5-1 中心波长λ＝550nm
[表19]
实施例5-2 中心波长λ＝550nm
[表20]
实施例5-3 中心波长λ＝550nm
表18～表20分别表示各层的构成材料、对d线的折射率N、物理性膜厚d(单位：nm)及光学膜厚N×d(单位：nm)。实施例5-1～5-3除了光学基板的构成材料互不相同以外，其他具有同样的构成。在构成材料的栏中的[SUB-H4]表示以LaTiO3为主要成分的物质H4(Merck公司)。而且，对在光学膜厚Nxd的栏所示的中心波长λ0均设为550nm。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第9层的各折射率N及各光学膜厚Nxd的值全部满足上述的条件式(11)～(19)。
在图29(A)、图30(A)及31(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至800nm的频带反射率约为0.2％以下的良好的反射特性。而且，在图29(B)、图30(B)及图31(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，大约在400nm至750nm的频带反射率也落入不足1.5％，对斜入射光也得到了良好 的反射特性。
[第6数值实施例]
将第6数值实施例(实施例6-1～6-4)示于表21～表24及图32～图35。在此表21～表24分别表示与图6所示的减反射膜相对应1030的实施例6-1～6-4的基本数据。而且，图32～图35分别表示实施例6-1～6-4的反射率分布。其中，图32(A)、图33(A)、图34(A)及图35(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图32(B)、图33(B)、图34(B)及图35(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表21]
实施例6-1 中心波长λ＝550nm
[表22]
实施例6-2 中心波长λ＝550nm
[表23]
实施例6-3 中心波长λ＝550nm
[表24]
实施例6-4 中心波长λ＝550nm
在表21～表24分别表示与上述的表18～表20同样的项目。实施例6-1～6-4除了光学基板的构成材料互不相同以外，其他具有同样的构成。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第9层的各折射率N及各光学膜厚Nxd的值全部满足上述的条件式(11)～(19)。
在图32(A)、图33(A)、图34(A)及35(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至800nm的频带反射率为不足0.25％的良好的反射特性。而且，在图32(B)、图33(B)、图34(B)及图35(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中大约在400nm至750nm的频带反射率也落入不足1.5％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。
[第7数值实施例]
将第7数值实施例(实施例7-1～7-3)示于表25～表27及图36～图38。在此表25～表27分别表示与图7所示的减反射膜1040相对应的实施例7-1～7-3的基本数据。而且，图36～图38分别表示实施例7-1～7-3的反射率分布。
其中，图36(A)、图37(A)及图38(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图36(B)、图37(B)及图38(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表25]
实施例7-1 中心波长λ＝550nm
[表26]
实施例7-2 中心波长λ＝550nm
[表27]
实施例7-3 中心波长λ＝550nm
在表25～表27分别表示与上述的表18～表20同样的项目。实施例7-1～7-3除了光学基板的构成材料互不相同以外，其他具有同样的构成。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第9层的各折射率N及各光学膜厚N×d的值全部满足上述的条件式(11)～(19)。
在图36(A)、图37(A)及38(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至800nm的频带反射率不足0.25％的良好的反射特性。而且，在图36(B)、图37(B)及图38(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中大约在400nm至750nm的频带反射率也落入不足1.5％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。
[第8数值实施例]
将第8数值实施例(实施例8-1)示于表28及图39。在此表28表示与图8所示的减反射膜1050相对应的实施例8-1的基本数据。图39表示实施例8-1的反射率分布。尤其，图39(A)表示实施例8-1的对于垂直入射光的反射率分 布，图39(B)表示实施例8-1的对于斜入射光的反射率分布。
[表28]
实施例8-1 中心波长λ＝550nm
在表28表示与上述的表18～表20同样的项目。从表28可知，与减反射层相当的第1层至第9层的各折射率N及各光学膜厚N×d的值全部满足上述的条件式(11)～(19)。
在图39(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据图39(A)可知，得到了大约在400nm至800nm的频带反射率为小于0.25％的良好的反射特性。而且，在图39(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据图39(B)可知，大约在400nm至750nm的频带反射率落入不足1.5％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。
[第9数值实施例]
将第9数值实施例(实施例9-1～9-4)示于表29～表32及图40～图43。在此表29～表32分别表示与图9所示的减反射膜1060相对应的实施例9-1～9- 4的基本数据。而且，图40～图43分别表示实施例9-1～9-4的反射率分布。其中，图40(A)、图41(A)、图42(A)及图43(A)分别表示各实施例的对于垂直入射光的反射率分布，图40(B)、图41(B)、图42(B)及图43(B)分别表示各实施例的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表29]
实施例9-1 中心波长λ＝550nm
[表30]
实施例9-2 中心波长λ＝550nm
[表31]
实施例9-3 中心波长長λ＝550nm
[表32]
实施例9-4 中心波长λ＝550nm
在表29～表32分别表示与上述的表18～表20同样的项目。实施例9-1～9-4除了光学基板的构成材料互不相同以外，其他具有同样的构成。根据各表可知，与减反射层相当的第1层至第9层的各折射率N及各光学膜厚Nxd的值全部满足上述的条件式(11)～(19)。
在图40(A)、图41(A)、图42(A)及图43(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中，都得到了大约在400nm至800nm的频带反射率为小于0.25％的良好的反射特性。而且，在图40(B)、图41(B)、图42(B)及图43(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据各图可知，在任何一个中大约在400nm至750nm的频带反射率也落入不足1.5％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。
[第10数值实施例]
将第10数值实施例(实施例10-1)示于表33及图44。在此表33表示对应于图10所示的减反射膜1060A的实施例10-1的基本数据。而且，图44表示实施例10-1的反射率分布。其中，图44(A)表示实施例10-1的对于垂直入射光 的反射率分布，图44(B)表示实施例10-1的对于斜入射光(45°入射光)的反射率分布。
[表33]
实施例10-1 中心波长λ＝550nm
在表33表示与上述的表18～表20同样的项目。根据表33可知，与减反射层相当的第1层至第9层的各折射率N及各光学膜厚N×d的值全部满足上述的条件式(11)～(19)。
在图44(A)中，纵轴表示对垂直入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据图44(A)可知，得到了大约在400nm至800nm的频带反射率为小于0.25％的良好的反射特性。而且，在图44(B)中，纵轴表示对45°入射光的反射率(％)，横轴表示测量时的波长λ(nm)。根据图44(B)可知，大约在400nm至750nm的频带反射率落入不足1.5％，对斜入射光也得到了良好的反射特性。
从以上的各基本数据及各反射率分布图可知，在各实施例中，在可见区域对垂直入射光及斜入射光双方实现稳定的低的反射率分布。即，根据本发明的减反射膜，确认了尤其对斜入射光在比以往更宽的频带充分降低了反射率并且可充分地平坦化其反射率的分布。
以上，例举实施方式及实施例说明了本发明，但本发明不限于上述实施方 式及实施例，可以进行各种变形。例如，各层及各基板的折射率及光学膜厚的值不限于在上述各数值实施例中所示的值而取其他值。而且，对构成各层及各基板的材料种类也不限于在上述各数值实施例中所示的材料种类，可利用其他材料种类。
而且，也可根据等价膜理论由多个膜构成各层。即，也可以通过对称层叠2种折射率膜，光学性地当作单层而工作。
Claims (20)
1.一种减反射膜，其特征在于，
在基板上备有包括从远离上述基板一侧依次层叠的第1至第8层的减反射层，
第1及第6层由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成，
第3、第5及第7层由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成，
第2、第4及第8层由对d线具有在1.70以上2.50以下的范围且高于上述中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。
2.如权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，
进一步全部满足以下条件式(1)～(8)：
0.23×λ0≤N1×d1≤0.25×λ0……(1)
0.11×λ0≤N2×d2≤0.13×λ0……(2)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(3)
0.25×λ0≤N4×d4≤0.29×λ0……(4)
0.22×λ0≤N5×d5≤0.24×λ0……(5)
0.22×λ0≤N6×d6≤0.26×λ0……(6)
0.21×λ0≤N7×d7≤0.24×λ0……(7)
0.45×λ0≤N8×d8≤0.53×λ0……(8)
此处，
λ0为中心波长，
N1～N8为第1至第8层对中心波长λ0的折射率，
d1～d8为第1至第8层的物理性膜厚。
3.如权利要求1或2所述的减反射膜，其特征在于，
在上述基板和上述减反射层之间还具备缓冲层，该缓冲层具有由上述中间折射率材料构成的单层构造、或与上述减反射层相接的层由上述中间折射率材料构成的多层构造。
4.如权利要求3所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.66以上2.2以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第9至第13层，
上述第9、第11及第13层由上述中间折射率材料构成，并且上述第10及第12层由上述高折射率材料构成。
5.如权利要求3所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.51以上1.72以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第9至第11层，
上述第9及第11层由上述中间折射率材料构成，并且上述第10层由上述高折射率材料构成。
6.如权利要求3所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.40以上1.58以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第9至第12层，
上述第9及第12层由上述中间折射率材料构成，上述第10层由上述高折射率材料构成，上述第11层由上述低折射率材料构成，或者上述第9层由上述中间折射率材料构成，上述第10及12层由上述高折射率材料构成，上述第11层由上述低折射率材料构成，上述第12层的折射率比上述第10层的折射率低。
7.如权利要求1至6中任一项所述的减反射膜，其特征在于，
上述低折射率材料包含氟化镁(MgF2)、二氧化硅(SiO2)及氟化铝(AlF3)中的至少1种，
上述中间折射率材料包含镨氧化铝(PrAlO3)、铝酸镧(La2xAl2yO3(x+y))、氧化铝(Al2O3)、氧化锗(GeO2)及氧化钇(Y2O3)中的至少1种，
上述高折射率材料包含钛酸镧(LaTiO3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)、氧化铪(HfO2)及氧化铈(CeO2)中的至少1种。
8.一种光学构件，其特征在于，
在表面设置权利要求1至7中任一项所述的减反射膜。
9.一种光学系统，其特征在于，
具备权利要求8所述的光学构件。
10.一种减反射膜，其特征在于，
在基板上具备包括从远离上述基板一侧依次层叠的第1至第9层的减反射层，
第1及第8层由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成，
第3、第5、第7及第9层由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成，
第2、第4及第6层由对d线在1.70以上2.50以下的范围具有高于上述中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。
11.如权利要求10所述的减反射膜，其特征在于，
进一步全部满足以下条件式(11)～(19)：
0.24×λ0≤N1×d1≤0.27×λ0……(11)
0.16×λ0≤N2×d2≤0.19×λ0……(12)
0.03×λ0≤N3×d3≤0.05×λ0……(13)
0.20×λ0≤N4×d4≤0.25×λ0……(14)
0.48×λ0≤N5×d5≤0.51×λ0……(15)
0.48×λ0≤N6×d6≤0.51×λ0……(16)
0.29×λ0≤N7×d7≤0.33×λ0……(17)
0.09×λ0≤N8×d8≤0.13×λ0……(18)
0.34×λ0≤N9×d9≤0.47×λ0……(19)
此处，
λ0为中心波长，
N1～N9为第1至第9层对中心波长λ0的折射率，
d1～d9为第1至第9层的物理性膜厚。
12.如权利要求10或11所述的减反射膜，其特征在于，
在上述基板和上述减反射层之间还具备具有多层结构的缓冲层，
上述缓冲层中与上述减反射层相接的层，由具有高于上述减反射层中与上述缓冲层相接的层的折射率的高折射率材料构成。
13.如权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.84以上2.2以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第10至第15层，
上述第11、第13及第15层由上述中间折射率材料构成，并且上述第10、第12及第14层由上述高折射率材料构成。
14.如权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.71以上1.89以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第10至第13层，
上述第11及第13层由上述中间折射率材料构成，并且上述第10及第12层由上述高折射率材料构成。
15.如权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.51以上1.72以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第10至第13层，
上述第11层由上述低折射率材料构成，上述第13层由上述中间折射率材料构成，上述第10及第12层由上述高折射率材料构成。
16.如权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.57以上1.62以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第10至第14层，
上述第10、第12及第14层由上述高折射率材料构成，并且上述第11及第13层由上述低折射率材料构成。
17.如权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，
上述基板对d线的折射率为1.40以上1.58以下，
上述缓冲层包括从上述减反射层侧依次层叠的第10至第12层，
上述第10层由上述高折射率材料构成，上述第11层由上述低折射率材料构成，上述第12层由上述中间折射率材料构成，或者上述第10及第12层由上述高折射率材料构成，并且上述第11层由上述低折射率材料构成，上述第12层的折射率比上述第10层的折射率低。
18.如权利要求10至17中任一项所述的减反射膜，其特征在于，
上述低折射率材料包含氟化镁(MgF2)、二氧化硅(SiO2)及氟化铝(AlF3)中的至少1种，
上述中间折射率材料包含镨氧化铝(PrAlO3)、铝酸镧(La2xAl2yO3(x+y))、氧化铝(Al2O3)、氧化锗(GeO2)及氧化钇(Y2O3)中的至少1种，
上述高折射率材料包含钛酸镧(LaTiO3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)、氧化铪(HfO2)及氧化铈(CeO2)中的至少1种。
19.一种光学构件，其特征在于，
在表面设置有权利要求10至18中任一项所述的减反射膜。
20.一种光学系统，其特征在于，
具备权利要求19所述的光学构件。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
| JP2002267801A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Canon Inc | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
| CN201000868Y (zh) * | 2006-12-28 | 2008-01-02 | 甘国工 | 等离子体显示器滤光片及使用该滤光片的显示器 |
| CN101154544A (zh) * | 2006-09-27 | 2008-04-02 | 甘国工 | 等离子体显示器的具有防电磁辐射及滤光功能的滤光板 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6032001A (ja) * | 1983-08-01 | 1985-02-19 | Minolta Camera Co Ltd | 反射防止膜 |
| JPS6180203A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | Toshiba Corp | 光干渉体 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
| JP2002267801A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Canon Inc | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
| CN101154544A (zh) * | 2006-09-27 | 2008-04-02 | 甘国工 | 等离子体显示器的具有防电磁辐射及滤光功能的滤光板 |
| CN201000868Y (zh) * | 2006-12-28 | 2008-01-02 | 甘国工 | 等离子体显示器滤光片及使用该滤光片的显示器 |
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